[發明專利]一種用于校準瞬變電磁場場均勻性的支架

無效

• 申請號: 201210308587.3
• 申請日: 2012-08-27
• 公開（公告）號: CN102840427A
• 公開（公告）日: 2012-12-26
• 發明（設計）人: 姚利軍;沈濤;黃建領
• 申請（專利權）人: 北京無線電計量測試研究所
• 主分類號: F16M11/06
• 分類號: F16M11/06;F16M11/16;F16M11/20;G01R29/08
• 代理公司: 北京正理專利代理有限公司 11257
• 代理人: 張文祎

技術領域

本發明涉及一種支撐裝置，特別涉及一種用于校準瞬變電磁場場均勻性的支架。

背景技術

用于校準瞬變電磁場的場均勻性的系統通常需要測試多個位置。校準瞬變電磁場的場均勻性時，不但需要支架支撐和固定測試探頭，而且需要通過支架調節測試探頭的位置和角度。具體地，校準瞬變電磁場的場均勻性時，通常需要通過調節支架來改變固定有探頭的測試桿的角度和長度，甚至需要通過調節支架實現測試桿繞固定軸的轉動。現有技術中的支架都不能直接實現上述功能，因此在用于校準瞬變電磁場的場均勻性時非常不便。

目前，非常需要一種能夠用于校準瞬變電磁場的場均勻性的支架。

發明內容

本發明的目的是提供一種用于校準瞬變電磁場場均勻性的支架。

本發明提供的用于校準瞬變電磁場場均勻性的支架包括底座、轉軸、圓拱形的第一拱襯、圓拱形的第二拱襯、第一測試桿、第二測試桿、第一旋鈕、第二旋鈕、第一探頭固定裝置和第二探頭固定裝置；

所述底座的上表面設有凸起，所述轉軸固定于所述凸起上，所述第一拱襯和所述第二拱襯設于所述底座的上表面，且所述凸起和所述轉軸穿過所述第一拱襯和所述第二拱襯的中空部分，所述第一拱襯所在的平面和所述第二拱襯所在的平面分別與所述底座的上表面垂直；

所述第一測試桿和所述第二測試桿的底端分別呈“h”字形，所述第一測試桿和所述第二測試桿的底端分別與所述轉軸鉸接，且所述第一測試桿和所述第二測試桿分別能夠繞所述轉軸轉動，所述第一拱襯被設置為穿過所述第一測試桿的底端的缺口，所述第二拱襯被設置為穿過所述第二測試桿的底端的缺口；

所述第一拱襯上設有圓拱形的第一凹槽，所述第一旋鈕上設有螺紋，所述第一測試桿底端的第二側板上設有與所述第一旋鈕配合的螺紋，所述第一旋鈕穿過所述第一測試桿底端的第一側板和所述第一凹槽與所述第一測試桿底端的第二側板配合，通過旋緊所述第一旋鈕能夠使所述第一測試桿的位置固定；

所述第二拱襯上設有圓拱形的第二凹槽，所述第二旋鈕上設有螺紋，所述第二測試桿底端的第四側板上設有與所述第二旋鈕配合的螺紋，所述第二旋鈕穿過所述第二測試桿底端的第三側板和所述第二凹槽與所述第二測試桿底端的第四側板配合，通過旋緊所述第二旋鈕能夠使所述第二測試桿的位置固定；

所述第一探頭固定裝置設于所述第一測試桿上；所述第二探頭固定裝置設于所述第二測試桿上，所述第一探頭固定裝置能夠沿所述第一測試桿自由滑動，所述第二探頭固定裝置能夠沿所述第二測試桿自由滑動，所述第一探頭固定裝置上設有第三旋鈕，所述第二探頭固定裝置上設有第四旋鈕，通過旋緊所述第三旋鈕能夠使所述第一探頭固定裝置的位置固定，通過旋緊所述第四旋鈕能夠使所述第二探頭固定裝置的位置固定。

優選地，所述第一拱襯和所述第二拱襯上分別設有角度刻度。

優選地，所述第一測試桿的底端設有第一角度觀察窗，所述第二測試桿的底端設有第二角度觀察窗。

優選地，所述第一測試桿和所述第二測試桿上分別設有長度刻度。

優選地，所述第一探頭固定裝置上設有第一長度觀察窗，所述第二探頭固定裝置上設有第二長度觀察窗。

優選地，所述凸起呈圓拱形。

本發明具有如下有益效果：

(1)當校準瞬變電磁場的場均勻性的系統中采用所述支架時，所述支架不僅能夠用于支撐和固定探頭，而且能夠用于調節探頭的位置和角度；

(2)所述支架對探頭的位置和角度的調節精度高；

(3)所述支架制作成本低，使用方便。

附圖說明

圖1為本發明實施例提供的用于校準瞬變電磁場場均勻性的支架的示意圖；

圖2為本發明實施例提供的用于校準瞬變電磁場場均勻性的支架的第一拱襯的示意圖；

圖3為本發明實施例提供的用于校準瞬變電磁場場均勻性的支架的第二拱襯的示意圖；

圖4為本發明實施例提供的用于校準瞬變電磁場場均勻性的支架的第一測試桿的側視圖；

圖5為本發明實施例提供的用于校準瞬變電磁場場均勻性的支架的第一測試桿的正視圖；

圖6為本發明實施例提供的用于校準瞬變電磁場場均勻性的支架的第二測試桿的側視圖；

圖7為本發明實施例提供的用于校準瞬變電磁場場均勻性的支架的第二測試桿的正視圖。

具體實施方式

下面結合附圖及實施例對本發明的發明內容作進一步的描述。