[發明專利]SCR系統中的還原劑噴射控制裝置

有效

• 申請號: 201210290292.8
• 申請日: 2012-08-15
• 公開（公告）號: CN103174497A
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發明（設計）人: 郝慶軍
• 申請（專利權）人: 蘇州派格麗減排系統有限公司
• 主分類號: F01N3/20
• 分類號: F01N3/20
• 代理公司: 蘇州慧通知識產權代理事務所(普通合伙) 32239
• 代理人: 安紀平

1.一種SCR系統中的還原劑噴射控制裝置，其特征在于：包括儲液箱，氣流管路，液流管路，控制氣流管路和液流管路的控制單元，以及噴嘴；所述氣流管路與一氣源相連通，所述液流管路與所述儲液箱相連通；所述噴嘴與所述氣流管路和液流管路相連通，在氣流管路內的壓縮氣體經過噴嘴時會在液流管路內形成負壓。

2.根據權利要求1所述的SCR系統中的還原劑噴射控制裝置，其特征在于：所述噴嘴為真空發生器噴嘴，包括氣道管，液道管以及與氣道管和液道管相連通的氣液混合管；所述氣道管與所述氣流管路相接通，所述液道管與所述液流管路相接通，所述氣液混合管用于將混合后的還原劑噴射至所述排氣管內。

3.根據權利要求2所述的SCR系統中的還原劑噴射控制裝置，其特征在于：所述真空發生器噴嘴的氣道管與氣液混合管相接的一端處形成有節流孔，節流孔外圍的氣道管與氣液混合管之間形成有環形間隙，所述環形間隙連通所述液道管和氣液混合管。

4.根據權利要求1或2或3所述的SCR系統中的還原劑噴射控制裝置，其特征在于：所述氣流管路和液流管路上分別設置有第一電磁閥和第二電磁閥，所述氣流管路通過第一電磁閥與所述氣源相連通，所述液流管路通過第二電磁閥與所述儲液箱相連通。

5.根據權利要求4所述的SCR系統中的還原劑噴射控制裝置，其特征在于：還包括連通所述氣源和液流管路的吹掃管路。

6.根據權利要求5所述的SCR系統中的還原劑噴射控制裝置，其特征在于：所述吹掃管路上設有第三電磁閥。

7.根據權利要求5所述的SCR系統中的還原劑噴射控制裝置，其特征在于：所述第一電磁閥是五位三通閥，所述氣流管路和吹掃管路分別連接于該五位三通閥的不同閥位上。

8.根據權利要求1所述的SCR系統中的還原劑噴射控制裝置，其特征在于：所述液流管路中包括監測液流管路內還原劑壓力的壓力傳感器。

9.根據權利要求4所述的SCR系統中的還原劑噴射控制裝置，其特征在于：所述控制單元控制所述第一電磁閥和第二電磁閥的導通和斷開，進而控制液流管路中還原劑和氣流管路中壓縮氣體的傳送。

10.根據權利要求4所述的SCR系統中的還原劑噴射控制裝置，其特征在于：所述液流管路上還原劑的噴射量可通過調整所述第二電磁閥的占空比來控制。