[發(fā)明專利]腦動(dòng)脈瘤支架系統(tǒng)及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210278884.8
• 申請(qǐng)日: 2012-08-07
• 公開（公告）號(hào): CN102784019A
• 公開（公告）日: 2012-11-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 姜衛(wèi)劍;邱宇晨
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 湖南瑞康通科技發(fā)展有限公司
• 主分類號(hào): A61F2/90
• 分類號(hào): A61F2/90
• 代理公司: 深圳市中知專利商標(biāo)代理有限公司 44101
• 代理人: 孫皓;林虹

1.一種腦動(dòng)脈瘤支架系統(tǒng)，其特征在于：所述腦動(dòng)脈瘤支架系統(tǒng)設(shè)有覆膜支架（10）和內(nèi)支撐支架（7），覆膜支架（10）在自由狀態(tài)形狀為圓筒狀,內(nèi)支撐支架（7）在自由狀態(tài)形狀為網(wǎng)狀圓筒形，覆膜支架（10）套置在內(nèi)支撐支架（7）外，與內(nèi)支撐支架（7）同軸設(shè)置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的腦動(dòng)脈瘤支架系統(tǒng)，其特征在于：所述覆膜支架（10）由聚四氟乙烯膜（3）、嵌入在聚四氟乙烯膜（3）內(nèi)的鎳鈦合金支架（2）組成，鎳鈦合金支架（2）為鎳鈦合金網(wǎng)管，覆膜支架（10）完全釋放后外徑為2～5mm，兩端開放敞開，近端開口為斜面。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的腦動(dòng)脈瘤支架系統(tǒng)，其特征在于：所述聚四氟乙烯膜（3）厚度為0.05～0.08mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的腦動(dòng)脈瘤支架系統(tǒng)，其特征在于：所述鎳鈦合金支架（2）外徑為2～5mm，網(wǎng)孔大小為8.5mm×1.6mm，網(wǎng)孔之間的間隔厚度為0.038mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的腦動(dòng)脈瘤支架系統(tǒng)，其特征在于：所述鎳鈦合金支架（2）的遠(yuǎn)端裝有覆膜支架遠(yuǎn)端示標(biāo)（1），近端焊接有覆膜支架近端示標(biāo)（4）。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的腦動(dòng)脈瘤支架系統(tǒng)，其特征在于：所述覆膜支架遠(yuǎn)端示標(biāo)（1）采用絲徑為0.02～0.05mm的鉑金絲、鎢合金或金合金絲繞制成形狀為螺旋彈簧狀，螺旋彈簧狀的外徑0.078～0.138mm，螺距0.021～0.051mm，長(zhǎng)0.5～1mm；所述覆膜支架近端示標(biāo)（4）采用鉑、鉑合金或金合金，形狀為環(huán)狀，外徑0.37～0.53mm，內(nèi)徑0.30～0.46mm，長(zhǎng)1～1.5mm。?

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的腦動(dòng)脈瘤支架系統(tǒng)，其特征在于：所述內(nèi)支撐支架（7）采用鎳鈦合金，外徑為2.5～5.5mm，壁厚為0.038～0.076mm，網(wǎng)孔直徑為3～5mm，網(wǎng)孔之間的間隔厚度為0.038mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的腦動(dòng)脈瘤支架系統(tǒng)，其特征在于：所述內(nèi)支撐支架（7）的遠(yuǎn)端、近端端部分別連接有內(nèi)支撐支架示標(biāo)（6）。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的腦動(dòng)脈瘤支架系統(tǒng)，其特征在于：所述內(nèi)支撐支架示標(biāo)（6）采用絲徑為0.02～0.05mm的鉑金絲、鎢合金或金合金絲繞制成形狀為螺旋彈簧狀，螺旋彈簧狀的外徑0.078～0.138mm，螺距0.021～0.051mm，長(zhǎng)0.5～1mm。

10.一種腦動(dòng)脈瘤支架系統(tǒng)的制備方法，包括以下步驟：

一、制作覆膜支架，

（1）、鎳鈦合金支架，將外徑0.61～1.01mm，壁厚0.038～0.076mm的鎳鈦合金管，切割成網(wǎng)孔狀，鎳鈦合金管遠(yuǎn)端伸出有絲狀端部，近端開口為斜面，工藝參數(shù)為：電流80～110A，脈寬3.0～6.0ms，頻率6～8HZ；再擴(kuò)張成外徑2～5mm的管，工藝參數(shù)為：真空度=10^-3Pa，從室溫以10～20min時(shí)間，升溫至450～550℃，保溫30分鐘，爐內(nèi)自然冷卻至室溫；擴(kuò)張后鎳鈦合金支架2的網(wǎng)孔大小為8.5mm×1.6mm，網(wǎng)孔之間的間隔厚度為0.038mm；

（2）、覆膜，將壁厚為0.05～0.08mm的聚四氟乙烯膜、鎳鈦合金支架按聚四氟乙烯膜在外、鎳鈦合金支架在內(nèi)套疊在一起，進(jìn)行熱熔，制成覆膜支架，得到外徑為2～5mm，長(zhǎng)10～20mm的覆膜支架；工藝參數(shù)為：熱熔溫度400～450℃，熱熔時(shí)間5～10s；

（3）、制作覆膜支架遠(yuǎn)端示標(biāo)，在覆膜支架遠(yuǎn)端的鎳鈦合金支架遠(yuǎn)端伸出?的絲狀端部上，將0.02～0.05mm的鉑金絲、鎢合金或金合金絲手工繞制成螺旋彈簧狀，外徑0.078～0.138mm，螺距0.021～0.051mm，長(zhǎng)0.5～1mm；

（4）、將鎳鈦合金支架近端的斜面開口的端部套上外徑0.37～0.53mm，內(nèi)徑0.30～0.46mm，長(zhǎng)1～1.5mm的鉑、鉑合金或金合金覆膜支架近端示標(biāo)，用熱解脫材料聚氯乙烯樹脂或尼龍將覆膜支架近端和覆膜支架近端示標(biāo)包覆固定；

二、制作內(nèi)支撐支架，

將外徑0.65～1.05mm，壁厚0.038～0.076的鎳鈦合金管，切割成網(wǎng)孔狀，工藝參數(shù)為：電流80～110A，脈寬3.0～6.0ms，頻率6～8HZ；再擴(kuò)張成外徑2.5～5.5mm的內(nèi)支撐支架，鎳鈦合金管兩端伸出有絲狀端部，工藝參數(shù)為：真空度=10^-3Pa，從室溫以10～20min時(shí)間，升溫至450～550℃，保溫30分鐘，爐內(nèi)自然冷卻至室溫；內(nèi)支撐支架的網(wǎng)孔大小為8.5mm×1.6mm，網(wǎng)孔之間的間隔厚度為0.038mm；在內(nèi)支撐支架兩端伸出的絲狀端部上，將0.02～0.05mm的鉑金絲、鎢合金或金合金絲手工繞制成內(nèi)支撐支架示標(biāo)，內(nèi)支撐支架示標(biāo)為螺旋彈簧狀，外徑0.078～0.138mm，螺距0.021～0.051mm，長(zhǎng)0.5～1.0mm。?