[發明專利]表面處理化學銅制程清洗液中銅的循環利用方法

有效

• 申請號: 201210273680.5
• 申請日: 2012-08-02
• 公開（公告）號: CN102730887A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發明（設計）人: 傅新民;上野山衛;林詩詮;張芳淑;薛慕棨
• 申請（專利權）人: 華夏新資源有限公司
• 主分類號: C02F9/04
• 分類號: C02F9/04;C01G3/10
• 代理公司: 北京華夏博通專利事務所(普通合伙) 11264
• 代理人: 王鋒;孫東風

1.一種表面處理化學銅制程清洗液中銅的循環利用方法，其特征在于，該方法包括如下步驟：

利用一清洗液儲存槽接收來自一清洗槽的清洗槽清洗液以形成一儲存槽清洗液，且該清洗槽是用以清洗表面處理制程中的一待清洗對象，該儲存槽清洗液包含化學銅的硫酸銅，并至少包含微小顆粒，氯、有機物、羅氏鹽(Rochelle?salt)、螯合劑銅錯合物及螯合劑中的任意一種，且利用一碳纖維過濾器以過濾儲存槽清洗液中的微小顆粒，并吸附儲存槽清洗液中的氯，藉以產生一過濾處理液，所述碳纖維過濾器包含碳纖維；

利用一臭氧氧化器產生臭氧，用以氧化并去除該過濾處理液中的有機物，進而形成一臭氧處理液，且將臭氧處理液回送至清洗液儲存槽；

利用一高壓泵以抽取及加壓清洗液儲存槽中的清洗槽清洗液而形成一高壓處理液，并傳送至一逆滲透模塊；?

利用逆滲透模塊接收高壓處理液，且逆滲透模塊包含逆滲透膜，用以對高壓處理液進行逆滲透處理，進而產生滲透過該逆滲透膜的一滲透液以及未滲透過逆滲透膜的一濃縮液，其中濃縮液保留該高壓處理液中的大分子物質以及高濃度的硫酸銅及含銅羅氏鹽(Rochelle?salt)，而該滲透液包含低濃度的硫酸銅及含銅羅氏鹽，但不包含該大分子物質，該大分子物質包括螯合劑銅錯合物、螯合劑；以及

將該濃縮液輸送至一鍍槽，用以當作鍍液的額外銅來源，或輸送至一調配槽，藉以調配具較佳組成的鍍液，供后續表面處理制程所需，或輸送至一儲存槽，用以暫時儲存。

2.根據權利要求1所述的表面處理化學銅制程清洗液中銅的循環利用方法，其特征在于，所述待清洗物件是經過一無電鍍銅處理或一電鍍銅處理而在表面形成金屬銅層或合金銅層。

3.根據權利要求1所述的表面處理化學銅制程清洗液中銅的循環利用方法，其特征在于，所述有機物包括醇類、醛類、有機酸。

4.根據權利要求1所述的表面處理化學銅制程清洗液中銅的循環利用方法，其特征在于，所述臭氧氧化器包含多個串接的臭氧氧化管，每個臭氧氧化管具有用以產生紫外光的紫外燈，而該紫外光是用以促進氧化作用。

5.根據權利要求1所述的表面處理化學銅制程清洗液中銅的循環利用方法，其特征在于，所述逆滲透膜是由納米分子級之聚酰亞胺(Polyimide)螺旋編織膜所構成。

6.根據權利要求1所述的表面處理化學銅制程清洗液中銅的循環利用方法，其特征在于，所述逆滲透模塊進一步包括導電率傳感器、水位傳感器以及變頻器(Inverter)，用以動態調整控制該高壓處理液的流量。

7.根據權利要求1所述的表面處理化學銅制程清洗液中銅的循環利用方法，其特征在于，所述螯合劑包括乙二胺四乙酸(ethylene?diamine?tetraacetic?acid，EDTA)。