[發明專利]制造印刷版的方法有效
| 申請號: | 201210273572.8 | 申請日: | 2012-08-02 |
| 公開(公告)號: | CN102909983A | 公開(公告)日: | 2013-02-06 |
| 發明(設計)人: | 李濬熙;李政訓 | 申請(專利權)人: | 樂金顯示有限公司 |
| 主分類號: | B41N1/04 | 分類號: | B41N1/04;B41C3/08;G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金國;鐘強 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制造 印刷 方法 | ||
本申請要求于2011年8月3日提交的韓國專利申請第P2011-0077190號的權益,在此引入該申請作為參考,如同該申請在此被全部公開一樣。
技術領域
本發明涉及制造能夠防止印刷輥接觸印刷版的底面的印刷版的方法。
相關技術
近來,作為具有減輕的重量和減小的體積以克服陰極射線管(CRT)的缺點的裝置,各種平板顯示器(FPD)正在受到關注。FPD包括例如液晶顯示器(LCD)、場發射顯示器(FED)、等離子體顯示面板(PDP)、電致發光(EL)顯示器等。
這種FPD包括通過掩模工藝形成的多層薄膜,該掩模工藝包括沉積(涂覆)工藝、曝光工藝、顯影工藝、蝕刻工藝等。但是,該掩模工藝存在制造工藝復雜、從而增加了制造成本的問題。所以,近來正在進行通過使用印刷輥的印刷工藝形成薄膜的研究。
印刷工藝是指以這樣的方式形成期望的薄膜的工藝,即將印刷液涂覆至印刷輥的覆蓋層(blanket),使用具有凹槽圖案和凸起圖案的印刷版使該印刷輥形成有印刷圖案,然后將該印刷圖案轉移至基板上。
此處,如圖1所示,當印刷版10的凹槽圖案12的深度比按壓印刷輥20的深度淺時,印刷輥20就接觸印刷版10的凹槽圖案12的底面(見“A”)。結果,涂覆至印刷輥20上的印刷液22被轉移至印刷版10的凹槽圖案12的底面,由此而損失。當這種損失的印刷液被轉移至基板上時,在薄膜層產生針孔形式的非薄膜區。當將薄膜層特別用作黑矩陣或濾色器以實現色彩時,則存在導致劣質圖案的問題,例如在薄膜層的非薄膜區看不見顏色的脫色。此外,當使用底面接觸印刷輥20的印刷版10在具有多個顯示面板的各個基板上形成薄膜層時,則存在這樣的問題,即在所有的基板的相同的位置分別產生相同的缺陷,從而導致成品劣化。
發明內容
本發明涉及一種制造印刷版的方法,該方法基本避免了由于現有技術的局限和缺點導致的一個或多個問題。
本發明的一個目的在于提供一種制造能夠防止印刷輥接觸印刷版的底面的印刷版的方法。
本發明其它的優點、目的和特征的一部分將在隨后的描述中說明,并且這些優點、目的和特征的一部分在本領域普通技術人員研習下文后對于本領域普通技術人員來說將是顯而易見的,或者可從對本發明的實施中獲悉。本發明的目的和其它優點可通過在書面的描述和權利要求書以及附圖中具體指出的結構來實現和獲得。
為了實現這些目的以及其它優點并且根據本發明的目的,如在此具體和概括地描述的,一種制造印刷版的方法包括:在基板上形成具有多層結構的掩模薄膜圖案和光刻膠圖案;形成抗性強化誘導層以覆蓋所述光刻膠圖案,從而使所述光刻膠圖案轉化為抗性被強化的光刻膠圖案;以及通過使用所述抗性被強化的光刻膠圖案以及所述具有多層結構的掩模薄膜圖案作為掩模蝕刻所述基板,形成彼此具有不同深度的凹槽圖案。
在室溫下通過沉積工藝可形成所述抗性強化誘導層并且所述抗性強化誘導層可由包括氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)以及氧化銦錫鋅(ITZO)的至少一種的透明導電膜形成。形成所述抗性強化誘導層可包括將在所述抗性強化誘導層的沉積工藝中產生的能量引入至在所述抗性強化誘導層下面的光刻膠圖案。
形成具有多層結構的掩模薄膜圖案和光刻膠圖案可包括:在所述基板上形成第一掩模薄膜層;在形成有所述第一掩模薄膜層的基板上形成第一光刻膠圖案;使用所述第一光刻膠圖案作為掩模使所述第一掩模薄膜層圖案化,以形成第一掩模薄膜圖案;在形成有所述第一掩模薄膜圖案的基板上形成第二掩模薄膜層;在所述第二掩模薄膜層上形成第二光刻膠圖案;以及使用所述第二光刻膠圖案作為掩模使所述第二掩模薄膜層圖案化,以形成第二掩模薄膜圖案。
可在所述第二光刻膠圖案和被所述第二光刻膠圖案暴露的基板上形成所述抗性強化誘導層。
抗性被強化的第二光刻膠圖案可具有對于所述基板的蝕刻劑的耐酸性;并且所述基板的蝕刻劑可包括氟化氫(HF)。
形成彼此具有不同深度的凹槽圖案可包括:通過使用所述第一掩模薄膜圖案和所述第二掩模薄膜圖案作為掩模的濕蝕刻工藝初次蝕刻所述基板,從而形成長凹槽圖案,并且通過所述初次蝕刻去除所述抗性強化誘導層;去除所述第二光刻膠圖案和所述第二掩模薄膜圖案;通過使用所述第一掩模薄膜圖案作為掩模的濕蝕刻工藝二次蝕刻所述基板,從而形成短凹槽圖案,并且使長凹槽圖案能夠具有比所述短凹槽圖案深的深度;以及去除所述第一掩模薄膜圖案。
應該理解的是,對于本發明的上述概括描述和接下來的詳細描述是示范性的和解釋性的,意在提供對要求被保護的本發明的進一步的解釋。
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