[發明專利]制造印刷版的方法

有效

• 申請號: 201210273572.8
• 申請日: 2012-08-02
• 公開（公告）號: CN102909983A
• 公開（公告）日: 2013-02-06
• 發明（設計）人: 李濬熙;李政訓
• 申請（專利權）人: 樂金顯示有限公司
• 主分類號: B41N1/04
• 分類號: B41N1/04;B41C3/08;G03F7/00
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;鐘強

1.一種制造印刷版的方法，包括：

在基板上形成具有多層結構的掩模薄膜圖案和光刻膠圖案；

形成抗性強化誘導層以覆蓋所述光刻膠圖案，從而使所述光刻膠圖案轉化為抗性被強化的光刻膠圖案；以及

通過使用所述抗性被強化的光刻膠圖案以及所述具有多層結構的掩模薄膜圖案作為掩模蝕刻所述基板，形成彼此具有不同深度的凹槽圖案。

2.如權利要求1所述的制造印刷版的方法，其中在室溫下通過沉積工藝形成所述抗性強化誘導層，并且所述抗性強化誘導層由包括氧化銦錫（ITO）、氧化銦鋅（IZO）以及氧化銦錫鋅（ITZO）的至少一種的透明導電膜形成。

3.如權利要求2所述的制造印刷版的方法，其中形成所述抗性強化誘導層包括將在所述抗性強化誘導層的沉積工藝中產生的能量引入至所述抗性強化誘導層下面的光刻膠圖案。

4.如權利要求2所述的制造印刷版的方法，其中形成具有多層結構的掩模薄膜圖案和光刻膠圖案包括：

在所述基板上形成第一掩模薄膜層；

在形成有所述第一掩模薄膜層的基板上形成第一光刻膠圖案；

使用所述第一光刻膠圖案作為掩模使所述第一掩模薄膜層圖案化，以形成第一掩模薄膜圖案；

在形成有所述第一掩模薄膜圖案的基板上形成第二掩模薄膜層；

在所述第二掩模薄膜層上形成第二光刻膠圖案；以及

使用所述第二光刻膠圖案作為掩模使所述第二掩模薄膜層圖案化，以形成第二掩模薄膜圖案。

5.如權利要求4所述的制造印刷版的方法，其中所述抗性強化誘導層形成在所述第二光刻膠圖案和被所述第二光刻膠圖案暴露的基板上。

6.如權利要求4所述的制造印刷版的方法，其中：

抗性被強化的第二光刻膠圖案對于基板的蝕刻劑具有耐酸性；并且所述基板的蝕刻劑包括氟化氫（HF）。

7.如權利要求4所述的制造印刷版的方法，其中形成彼此具有不同深度的凹槽圖案包括：

通過使用所述第二光刻膠圖案以及所述第一掩模薄膜圖案和所述第二掩模薄膜圖案作為掩模的濕蝕刻工藝初次蝕刻所述基板，從而形成長凹槽圖案，并且通過初次蝕刻去除所述抗性強化誘導層；

去除所述第二光刻膠圖案和所述第二掩模薄膜圖案；

通過使用所述第一掩模薄膜圖案作為掩模的濕蝕刻工藝二次蝕刻所述基板，從而形成短凹槽圖案，并且使所述長凹槽圖案能夠具有比所述短凹槽圖案深的深度；以及

去除所述第一掩模薄膜圖案。