[發明專利]一種動態法焙烤石英的生產工藝

無效

• 申請號: 201210266374.9
• 申請日: 2012-07-17
• 公開（公告）號: CN102757057A
• 公開（公告）日: 2012-10-31
• 發明（設計）人: 孫鵬
• 申請（專利權）人: 連云港桃盛熔融石英有限公司
• 主分類號: C01B33/12
• 分類號: C01B33/12
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及化工技術領域，尤其涉及一種動態法焙烤石英的生產工藝。

背景技術

高純石英粉是用于制作石英管的關鍵原料。目前國內傳統的高純石英粉的生產工藝是經過對焙烤、對輥機破碎、篩分、酸浸泡、中磁、化學浮選、高磁等工藝流程生產，因此最終得到的高純度石英粉雜質含量較高，目數一般在80-120目之間。傳統焙烤工藝：焙烤爐為全封閉型，內空間長2米，高度1米，底部為平行耐高溫氧化鋯，外有氧化鋯保溫層20-30mm，爐體頂部安裝有6-10支硅碳棒，將石英塊8-12mm之間放入焙烤爐內底部高溫氧化鋯上，封閉爐門，給6-10支硅碳棒加熱0-960℃后。當爐內溫度溫定在960℃時，8-12mm石英塊在高溫狀態下，晶體結構被破壞，連續爆裂和破碎。最后打開爐門，將已經破碎的高溫石英塊，進行冷態離子水水淬，實現淬化處理。然后進行對輥機破碎、篩分、酸浸泡、中磁、化學浮選、高磁等工藝流程生產，因此最終得到的高純度石英粉雜質含量較高，目數一般在80-120目之間，但是不能連續生產作業，產量和質量，較低下，不能大幅度提高生產效率。

發明內容

為解決上述技術問題，本發明提出的一種動態法焙烤石英的生產工藝，包括以下步驟：

1)原料選擇，選取高純石英原料，塊狀直徑8-12mm之間；

2)動態焙烤，將直徑8-12mm石英塊，投入焙烤爐，進行動態焙烤；

3)水淬，焙烤爐出料端安裝有長6米、寬5米、高1米、的PVC離子水水槽，水槽厚度6mm，離子水深度0.6米，當高溫狀態下的石英塊落入離子水水槽后，進行冷態離子水水淬，實現淬化處理。

4)一級粉碎，將水淬后的石英塊用錳鋼對輥機一級粉碎，粉碎顆粒60-100目；

5)二級粉碎，將60-100目的石英粉用石英對輥機二級粉碎，粉碎顆粒200-300目；

6)酸洗，將200-300目的石英粉進行硫酸和氫氟酸酸洗24-50小時；

7)烘干焙烤，將經過酸洗的石英粉，用高溫窯爐850-1200℃連續烘干焙烤；

8)磁選，將200-300目的石英粉，用15000高斯高磁機進行磁選，最后除去金屬雜質；

9)脫羥，經過高磁機磁選的200-300目的石英粉，進行高溫脫羥爐1050-1500℃高溫脫羥8-15小時，使石英粉內的雜質在高溫狀態下進一步裂化分離和釋放，達到石英粉純度≥99.999％。

優選地：步驟1的塊狀直徑為9mm。

優選地：步驟2的焙烤爐為半封閉型，一端投料，另一端出料。

優選地：步驟4的粉碎顆粒為80目。

優選地：步驟6的酸洗時間為27小時。

優選地：步驟9脫羥溫度為1250℃，脫羥時間為12.3小時。

本發明的優點是：連續生產作業，提高產量和質量，大幅度提高生產效率。

具體實施方式

一種動態法焙烤石英的生產工藝，具體步驟如下：

1)原料選擇，選取高純石英原料，塊狀直徑8-12mm之間；

2)動態焙烤，將直徑8-12mm石英塊，投入焙烤爐，進行動態焙烤；

3)水淬，焙烤爐出料端安裝有長6米、寬5米、高1米、的PVC離子水水槽，水槽厚度6mm，離子水深度0.6米，當高溫狀態下的石英塊落入離子水水槽后，進行冷態離子水水淬，實現淬化處理。

4)一級粉碎，將水淬后的石英塊用錳鋼對輥機一級粉碎，粉碎顆粒60-100目；

5)二級粉碎，將60-100目的石英粉用石英對輥機二級粉碎，粉碎顆粒200-300目；

6)酸洗，將200-300目的石英粉進行硫酸和氫氟酸酸洗24-50小時；

7)烘干焙烤，將經過酸洗的石英粉，用高溫窯爐850-1200℃連續烘干焙烤；

8)磁選，將200-300目的石英粉，用15000高斯高磁機進行磁選，最后除去金屬雜質；

9)脫羥，經過高磁機磁選的200-300目的石英粉，進行高溫脫羥爐1050-1500℃高溫脫羥8-15小時，使石英粉內的雜質在高溫狀態下進一步裂化分離和釋放，達到石英粉純度≥99.999％。

以上所述，僅為本發明的具體實施方式，但發明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本領域的技術人員在本發明揭露的技術范圍內，可輕易想到的變化或替換，都應涵蓋在發明的保護范圍之內。