[發(fā)明專利]一種刻蝕設備及其上部電極無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210265642.5 | 申請日： | 2012-07-27 |
| 公開（公告）號： | CN102797012A | 公開（公告）日： | 2012-11-28 |
| 發(fā)明（設計）人： | 蔣冬華;李炳天;傅永義;趙吾陽 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號： | C23F1/08 | 分類號： | C23F1/08;C30B33/12;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291 | 代理人： | 黃志華 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 刻蝕 設備 及其 上部 電極 | ||
1.一種刻蝕設備的上部電極，所述上部電極上設有多個電極孔，其特征在于，所述上部電極至少由第一區(qū)域和第二區(qū)域組成，所述電極孔在所述第一區(qū)域的分布密度和所述電極孔在所述第二區(qū)域的分布密度不同。
2.如權利要求1所述的一種刻蝕設備的上部電極，其特征在于，所述多個電極孔在所述第一區(qū)域呈矩陣分布。
3.如權利要求1所述的一種刻蝕設備的上部電極，其特征在于，所述電極孔在所述第一區(qū)域分布密度均勻，相鄰電極孔之間的距離相等。
4.如權利要求1所述的一種刻蝕設備的上部電極，其特征在于，所述電極孔在所述第二區(qū)域分布密度不均，每相鄰兩行電極孔之間的行距不等、每相鄰兩列電極孔之間的列距不等。
5.如權利要求1-4任一所述的一種刻蝕設備的上部電極，其特征在于，所述第一區(qū)域設在所述上部電極的中部，所述第二區(qū)域設在所述第一區(qū)域的外圍。
6.如權利要求5所述的一種刻蝕設備的上部電極，其特征在于，所述第二區(qū)域為電極孔分布密度為零的空白區(qū)域。
7.如權利要求5所述的一種刻蝕設備的上部電極，其特征在于，所述上部電極的中部也設有所述空白區(qū)域。
8.如權利要求1-4任一所述的一種刻蝕設備的上部電極，其特征在于，所述上部電極整體為長方形。
9.如權利要求1-4任一所述的一種刻蝕設備的上部電極，其特征在于，所述電極孔為圓形孔或方形孔。
10.一種刻蝕設備，其特征在于，包括所述權利要求1-9中任一權利要求所述的上部電極。
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