[發(fā)明專利]溫度控制單元和系統(tǒng)、基板載置臺(tái)、處理裝置和處理方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210258971.7
• 申請日: 2012-07-25
• 公開（公告）號(hào): CN102903651A
• 公開（公告）日: 2013-01-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 田中誠治;吉矢秀人;酒井俊充
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67;H01L21/687;H01L21/205
• 代理公司: 北京尚誠知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及在對基板實(shí)施處理溫度不同的多種熱處理時(shí)使用的溫度控制單元、基板載置臺(tái)、基板處理裝置、溫度控制系統(tǒng)和基板處理方法。

背景技術(shù)

在FPD（Flat?Panel?Display：平板顯示器）、太陽電池或MEMS（Micro?Electro?Mechanical?Systems：微電子機(jī)械系統(tǒng)）的制造過程中，對基板實(shí)施各種熱處理，例如成膜處理。在現(xiàn)有技術(shù)中，在對基板實(shí)施處理溫度不同的多種熱處理時(shí)，每個(gè)熱處理中不同的基板處理裝置對基板實(shí)施相應(yīng)的熱處理，近年來，從提高生產(chǎn)率的觀點(diǎn)出發(fā)，為了提高生產(chǎn)量，需要在一個(gè)基板處理裝置中實(shí)施處理溫度不同的多種熱處理。

作為這種基板處理裝置，已知有如下的基板處理裝置，即，在處理室內(nèi)具備載置基板的基板載置臺(tái)，該基板載置臺(tái)具備形成有介質(zhì)流路的冷卻套、和配置在該冷卻套之下的加熱器（例如，參照專利文獻(xiàn)1）。

在專利文獻(xiàn)1的基板處理裝置中，使加熱器放熱，使基板載置臺(tái)的載置面、具體而言，使冷卻套的與基板接觸的面的溫度升高，從而將基板加熱，在冷卻套的介質(zhì)流路中流通低溫的致冷劑，使上述接觸面的溫度下降，從而對基板進(jìn)行冷卻。

在先技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特公平7－105422號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問題

但是，在專利文獻(xiàn)1的基板處理裝置中，由于冷卻套和加熱器分別為不同的部件，所以在冷卻套和加熱器之間出現(xiàn)物理的邊界。例如在利用加熱器對基板進(jìn)行加熱時(shí)，該邊界作為熱阻，妨礙來自加熱器的熱量向冷卻套傳遞，因而存在基板的溫度不能快速變化的問題。

本發(fā)明的目的在于提供一種能夠使基板的溫度快速變化的溫度控制單元、基板載置臺(tái)、基板處理裝置、溫度控制系統(tǒng)和基板處理方法。

用于解決問題的方法

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的第一方面提供一種溫度控制單元，其與基板接觸，控制該基板的溫度，該溫度控制單元的特征在于，包括：與所述基板接觸的板狀的主體；埋設(shè)在該主體內(nèi)的多個(gè)直線狀的加熱器；和形成于所述主體內(nèi)，在內(nèi)部流通規(guī)定溫度的介質(zhì)的介質(zhì)流路，各所述加熱器彼此平行地配置，所述介質(zhì)流路以經(jīng)由相鄰的兩個(gè)所述加熱器之間的部分的方式配置。

本發(fā)明第二方面的溫度控制單元，在第一方面的溫度控制單元的基礎(chǔ)上，其特征在于：在俯視所述主體時(shí)的與一個(gè)所述加熱器垂直的方向，各所述加熱器和所述介質(zhì)流路以等間隔交替配置。

本發(fā)明第三方面的溫度控制單元，在第一方面或第二方面的溫度控制單元的基礎(chǔ)上，其特征在于：在所述主體的與所述基板接觸的面的相反一側(cè)的面，還具備以與埋設(shè)在所述主體內(nèi)的各加熱器的位置相對應(yīng)的方式配置的蓋，所述蓋能夠開閉。

本發(fā)明第四方面的溫度控制單元，在第三方面的溫度控制單元的基礎(chǔ)上，其特征在于：所述主體具有用于安裝所述蓋的螺釘用的螺釘孔，所述介質(zhì)流路在相鄰的兩個(gè)所述加熱器之間以避開所述螺釘孔的方式彎曲設(shè)置。

本發(fā)明第五方面的溫度控制單元，在第四方面的溫度控制單元的基礎(chǔ)上，其特征在于：彎曲設(shè)置的所述介質(zhì)流路中的彎曲部的在俯視所述主體時(shí)的曲率半徑為40mm以上。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的第六方面提供一種基板載置臺(tái)，用于載置基板，其特征在于，包括：與所述基板接觸對該基板的溫度進(jìn)行控制的溫度控制單元；和支承該溫度控制單元的基部，所述溫度控制單元具備：與所述基板接觸的板狀的主體；埋設(shè)在該主體內(nèi)的多個(gè)直線狀的加熱器；和形成于所述主體內(nèi)，在內(nèi)部流通規(guī)定溫度的介質(zhì)的介質(zhì)流路，各所述加熱器彼此平行地配置，所述介質(zhì)流路以經(jīng)由相鄰的兩個(gè)所述加熱器之間的部分的方式配置。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明第的七方面提供一種基板處理裝置，用于對基板實(shí)施處理，其特征在于，包括：收納所述基板的收納室；和配置在所述收納室內(nèi)，用于載置所述基板的基板載置臺(tái)，所述基板載置臺(tái)具備：與所述基板接觸對該基板的溫度進(jìn)行控制的溫度控制單元；和支承該溫度控制單元的基部，所述溫度控制單元具備：與所述基板接觸的板狀的主體；埋設(shè)在該主體內(nèi)的多個(gè)直線狀的加熱器；和形成于所述主體內(nèi)，在內(nèi)部流通規(guī)定溫度的介質(zhì)的介質(zhì)流路，各所述加熱器彼此平行地配置，所述介質(zhì)流路以經(jīng)由相鄰的兩個(gè)所述加熱器之間的部分的方式配置。