[發(fā)明專利]磁記錄介質用玻璃基板的制造方法和磁記錄介質用玻璃基板

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210253984.5
• 申請日: 2012-07-20
• 公開（公告）號: CN102886730A
• 公開（公告）日: 2013-01-23
• 發(fā)明（設計）人: 志田德仁
• 申請（專利權）人: 旭硝子株式會社
• 主分類號: B24B37/00
• 分類號: B24B37/00;B24B37/24;G11B5/84
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 胡燁

技術領域

本發(fā)明涉及磁記錄介質用玻璃基板的制造方法和磁記錄介質用玻璃基板。

背景技術

近年，在磁記錄介質、尤其是磁盤存儲器中，正在推進快速的高記錄密度。磁盤存儲器是通過使磁頭略微露出到高速旋轉的記錄介質（磁盤）上進行掃描而實現隨機存取，為了兼具高記錄密度和高速存取，希望降低磁盤和磁頭的間隔（磁頭露出量）以及提高磁盤的轉數。目前主流的磁盤基材是在鋁（Al）上鍍了鎳磷（Ni-P)的基板，但正越來越發(fā)展為使用即使在高剛性下高速旋轉也不易變形、表面平滑性高的玻璃基板。

此外，隨著磁盤存儲器的高記錄密度，對磁記錄介質用玻璃基板的要求特性正逐年變嚴。尤其，為了實現高記錄密度，降低玻璃基板表面的異物和缺陷、提高平滑性是很重要的。

通常，為了制造磁記錄介質用玻璃基板，從板狀玻璃等原材料中切出圓盤形狀的素板，在中央部形成圓形貫通孔后，對構成貫通孔內壁的內周側面的角部和構成外周的外周側面的角部進行倒角加工，接著，進行玻璃基板的內周和外周側面以及倒角部的研磨（端面研磨）。然后，磨削方向相對的1對主平面，使玻璃基板的板厚和平坦度達到要求，研磨兩個主平面后，經過清洗工序等，得到磁記錄介質用玻璃基板。

這樣的磁記錄介質用玻璃基板的制造中，為了進行主平面的平滑化，目前是使用發(fā)泡聚氨酯樹脂墊片（パッド）和含有二氧化鈰等研磨粒的研磨液，研磨玻璃基板的主平面。

作為研磨主平面的方法，有人提出如下方法：使用由聚氨酯樹脂等發(fā)泡體（發(fā)泡樹脂）構成、含有20～33重量%的研磨材料二氧化鈰或膠態(tài)二氧化硅、氧化鋯、鋯石等的研磨墊，一邊供給含有研磨粒的研磨液（漿液），一邊使玻璃基板和上述研磨墊相對移動從而研磨（例如，參照專利文獻1）。

此外，作為將粗研磨后的結晶化玻璃基板精研磨（最終研磨）的方法，有人還提出如下方法：使用具有特定范圍的壓縮彈性模量、密度和硬度的高密度、高硬度研磨墊和平均粒徑為0.8～1μm的二氧化鈰的游離研磨粒研磨玻璃基板的主平面（例如，參照專利文獻2）。

但是，這些研磨方法中，隨著研磨的持續(xù)，研磨液中含有的研磨粒進入在研磨墊的研磨面上開口的氣泡中，占滿氣泡內部，產生被稱為研磨墊的孔堵塞的現象。結果，作為被研磨物的玻璃基板在研磨墊表面打滑，不能充分進行研磨。此外，研磨液向被研磨物和研磨墊之間的供給變得不足，研磨速度下降。

為了防止這樣的研磨墊的孔堵塞引起的研磨速度的下降，頻繁進行磨削研磨墊的表面（研磨面）、露出新研磨面的修整處理，由于修整處理必須中斷研磨，操作效率下降，從而發(fā)生生產率的下降。此外，由于修整處理，研磨墊的磨損加快，因此，研磨墊的使用壽命縮短等，在生產率和成本方面存在較多問題。

進而，即使進行修整處理，還會再次發(fā)生研磨墊的孔堵塞，因此，無法避免研磨速度的下降，難以使研磨量隨著時間流逝也能穩(wěn)定。因此，在磁記錄介質用玻璃基板的制造中，存在不同研磨批次的玻璃基板之間板厚的偏差變大的問題。

本說明書中，研磨墊的“氣泡”是指構成研磨墊的發(fā)泡樹脂中形成的氣泡，“研磨批次”或“批次”是指用同一研磨裝置一次研磨加工的多片玻璃基板的集合。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1:日本專利特開2007-250166號公報

專利文獻2:日本專利特開2009-123327號公報

發(fā)明內容

發(fā)明所要解決的技術問題

本發(fā)明是為了解決上述技術問題而完成的發(fā)明，目的是提供獲得磁記錄介質用玻璃基板的制造方法，該方法抑制主平面的研磨工序中研磨墊的孔堵塞、降低修整處理的頻率，同時使研磨速度穩(wěn)定化、主平面的平滑性優(yōu)異、不同批次玻璃基板間板厚的偏差小。

解決技術問題所采用的技術方案

本發(fā)明的磁記錄介質用玻璃基板的制造方法具有將玻璃素板加工成中央部具有圓孔的圓盤形狀的玻璃基板的賦形工序、研磨上述玻璃基板的主平面的主平面研磨工序和上述玻璃基板的清洗工序，其特征在于，上述主平面研磨工序具有以5μm以上的研磨量研磨上述玻璃基板的兩個主平面的粗研磨工序，上述粗研磨工序中，使用內部含有氣泡、在研磨面開口的上述氣泡的平均直徑為80～300μm、且具有1.1～2.5%的壓縮率的研磨墊和含有研磨粒的研磨液研磨上述玻璃基板的主平面。

本發(fā)明的磁記錄介質用玻璃基板的制造方法中，優(yōu)選在上述研磨墊的研磨面開口的氣泡的面積率為該研磨面的55～90%。此外，上述研磨墊的上述氣泡的含有率優(yōu)選35～70體積%。進而，優(yōu)選上述研磨墊具有80～95的肖氏A硬度。此外，優(yōu)選上述研磨墊具有25～60的肖氏D硬度。