[發明專利]磁記錄介質用玻璃基板的制造方法和磁記錄介質用玻璃基板

在審

• 申請號: 201210253984.5
• 申請日: 2012-07-20
• 公開（公告）號: CN102886730A
• 公開（公告）日: 2013-01-23
• 發明（設計）人: 志田德仁
• 申請（專利權）人: 旭硝子株式會社
• 主分類號: B24B37/00
• 分類號: B24B37/00;B24B37/24;G11B5/84
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 胡燁

1.磁記錄介質用玻璃基板的制造方法，具有將玻璃素板加工成中央部具有圓孔的圓盤形狀的玻璃基板的賦形工序、研磨上述玻璃基板的主平面的主平面研磨工序和上述玻璃基板的清洗工序，其特征在于，上述主平面研磨工序具有以5μm以上的研磨量研磨上述玻璃基板的兩個主平面的粗研磨工序，上述粗研磨工序中，使用內部含有氣泡、在研磨面開口的上述氣泡的平均直徑為80～300μm、且具有1.1～2.5%的壓縮率的研磨墊和含有研磨粒的研磨液研磨上述玻璃基板的主平面。

2.如權利要求1所述的磁記錄介質用玻璃基板的制造方法，在上述研磨墊的研磨面開口的氣泡的面積率為該研磨面的55～90%。

3.如權利要求1或2所述的磁記錄介質用玻璃基板的制造方法，上述研磨墊的上述氣泡的含有率為35～70體積%。

4.如權利要求1～3中任一項所述的磁記錄介質用玻璃基板的制造方法，上述研磨墊具有80～95的肖氏A硬度。

5.如權利要求1～4中任一項所述的磁記錄介質用玻璃基板的制造方法，上述研磨墊具有25～60的肖氏D硬度。

6.如權利要求1～5中任一項所述的磁記錄介質用玻璃基板的制造方法，上述研磨墊含有金屬氧化物的粒子。

7.如權利要求1～6中任一項所述的磁記錄介質用玻璃基板的制造方法，上述金屬氧化物的粒子具有與上述研磨液中含有的上述研磨粒的平均粒徑同等或以下的平均粒徑。

8.磁記錄介質用玻璃基板，是使用權利要求1～7中任一項所述的磁記錄介質用玻璃基板的制造方法制造的玻璃基板，不同批次的玻璃基板的板厚偏差在5μm以下。