[發(fā)明專利]便攜式自動研磨拋光設(shè)備

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210253473.3
• 申請日: 2012-07-21
• 公開（公告）號: CN102729134A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蘇康宇;陳軍;戴煦;朱平;郭冰
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華測檢測技術(shù)股份有限公司
• 主分類號: B24B37/00
• 分類號: B24B37/00;B24B37/27;B24B47/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種便攜式自動研磨拋光設(shè)備，?用于對試樣進(jìn)行研磨拋光前處理，其特征在于，包括：安裝座、固定裝置及轉(zhuǎn)盤，所述轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動的裝設(shè)于所述安裝座上，所述固定裝置包括支架、第一驅(qū)動裝置及由所述第一驅(qū)動裝置連接的夾緊機(jī)構(gòu)，所述第一驅(qū)動裝置及夾緊機(jī)構(gòu)均安裝于所述支架上，所述支架可拆卸的裝設(shè)于所述安裝座上，試樣由所述夾緊機(jī)構(gòu)夾緊固定，所述第一驅(qū)動裝置驅(qū)動所述夾緊機(jī)構(gòu)帶動試樣接近或遠(yuǎn)離所述轉(zhuǎn)盤，所述轉(zhuǎn)盤對試樣進(jìn)行研磨拋光前處理。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的便攜式自動研磨拋光設(shè)備，其特征在于：所述便攜式自動研磨拋光設(shè)備還包括第二驅(qū)動裝置，所述第二驅(qū)動裝置裝設(shè)于所述安裝座的內(nèi)部，所述轉(zhuǎn)盤在所述第二驅(qū)動裝置驅(qū)動下轉(zhuǎn)動。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的便攜式自動研磨拋光設(shè)備，其特征在于：所述便攜式自動研磨拋光設(shè)備還包括進(jìn)水裝置、排水槽。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的便攜式自動研磨拋光設(shè)備，其特征在于：所述支架包括支桿及由所述支桿支撐固定的平臺，所述第一驅(qū)動裝置的輸出軸穿過所述平臺與所述夾緊機(jī)構(gòu)固定連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的便攜式自動研磨拋光設(shè)備，其特征在于：所述支架還包括導(dǎo)向板及直線軸承，所述直線軸承套設(shè)于所述支桿上，并可沿所述支桿上下滑動，所述第一驅(qū)動裝置的輸出軸通過所述導(dǎo)向板與所述夾緊機(jī)構(gòu)連接，所述導(dǎo)向板的兩端分別連接于所述支架直線軸承上，且所述夾緊機(jī)構(gòu)位于所述轉(zhuǎn)盤的正上方。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的便攜式自動研磨拋光設(shè)備，其特征在于：所述支架還包括電磁吸盤，所述支桿的上端與所述平臺固定連接，下端固定連接于一圓環(huán)上，所述圓環(huán)通過所述電磁吸盤吸附固定在所述安裝座的上表面。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的便攜式自動研磨拋光設(shè)備，其特征在于：所述第一驅(qū)動裝置是伺服氣缸。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的便攜式自動研磨拋光設(shè)備，其特征在于：所述夾緊機(jī)構(gòu)包括主體及若干夾塊，所述主體均勻的開設(shè)有若干供所述夾塊滑動的滑槽，所述夾塊之間形成夾持區(qū)，所述夾塊可在所述滑槽上滑動擴(kuò)大或者縮小所述夾持區(qū)的大小。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的便攜式自動研磨拋光設(shè)備，其特征在于：所述夾緊機(jī)構(gòu)是三爪卡盤或四爪卡盤。