[發明專利]彩色濾光陣列基板及其制造方法

有效

• 申請號: 201210252155.5
• 申請日: 2012-07-20
• 公開（公告）號: CN102768432A
• 公開（公告）日: 2012-11-07
• 發明（設計）人: 趙小虎
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1343;G02F1/1362;H01L21/77;H01L27/12
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 歐陽啟明

1.一種彩色濾光陣列基板的制造方法，其包括下列步驟：

提供一透明基板；

蝕刻所述透明基板以形成一第一凹槽；

沉積一彩色濾光層于所述透明基板上，并蝕刻所述彩色濾光層，以在所述第一凹槽中形成一彩色濾光單元，然后在所述彩色濾光單元之上形成一像素電極；以及

形成一薄膜晶體管于所述透明基板之上，使得所述薄膜晶體管連接所述像素電極。

2.根據權利要求1所述的制造方法，其特征在于：所述透明基板包括基底及絕緣層，所述蝕刻所述透明基板一形成一第一凹槽具體為：蝕刻所述絕緣層形成所述第一凹槽。

3.根據權利要求1或2所述的制造方法，其特征在于：所述沉積一彩色濾光層于所述透明基板上，并蝕刻所述彩色濾光層，以在所述第一凹槽中形成一彩色濾光單元，然后在所述彩色濾光單元之上形成一像素電極具體為：

沉積所述彩色濾光層于所述透明基板上，并蝕刻所述彩色濾光層以在所述第一凹槽中形成所述彩色濾光單元；

沉積一間隔層于所述彩色濾光層上；

沉積所述透明導電層于所述間隔層上，并蝕刻所述透明導電層，以在所述彩色濾光單元的上方形成所述像素電極。

4.根據權利要求1或2所述的制造方法，其特征在于：形成所述薄膜晶體管的步驟包含：

形成一第一金屬層于所述透明基板上，并蝕刻所述第一金屬層，以形成所述薄膜晶體管的柵極；

沉積一絕緣層在所述透明基板以及所述柵極上；

在所述絕緣層上，沉積一主動層以及一歐姆接觸層；

蝕刻所述主動層以及所述歐姆接觸層，以形成所述主動層作為所述薄膜晶體管的通道；

在所述歐姆接觸層以及所述絕緣層上沉積一第二金屬層，并蝕刻所述第二金屬層，以在所述歐姆接觸層上形成所述薄膜晶體管的源極與漏極，所述漏極連接所述像素電極；以及

在所述源極、漏極、像素電極以及所述絕緣層上沉積一保護層。

5.根據權利要求1或2所述的制造方法，其特征在于：所沉積一彩色濾光層于所述透明基板上，并蝕刻所述彩色濾光層，以在所述第一凹槽中形成一彩色濾光單元，然后在所述彩色濾光單元之上形成一像素電極具體為：

沉積所述彩色濾光層于所述透明基板上，并蝕刻所述彩色濾光層以在所述第一凹槽中形成所述彩色濾光單元；

形成一第一金屬層于所述透明基板上，并蝕刻所述第一金屬層，以形成所述薄膜晶體管的柵極；

沉積一絕緣層在所述透明基板以及所述柵極上，并在所述彩色濾光單元上形成一間隔層；

沉積所述透明導電層于所述間隔層上，并蝕刻所述透明導電層，以在所述彩色濾光單元的上方形成所述像素電極。

6.根據權利要求1或2所述的制造方法，其特征在于：所述制造方法另包含：在蝕刻所述透明基板的步驟中，同時蝕刻所述透明基板以形成一第二凹槽，其中所述第二凹槽位于所述透明基板的邊緣。

7.一種彩色濾光陣列基板，其特征在于：所述彩色濾光陣列基板包含：

一透明基板，開設一第一凹槽；

一薄膜晶體管，設置于所述透明基板上，其包含一柵極、一漏極和一源極；

一彩色濾光單元，位于所述第一凹槽上；以及

一像素電極，位于所述彩色濾光單元上，耦接至所述薄膜晶體管的漏極。

8.根據權利要求7所述的彩色濾光陣列基板，其特征在于：所述透明基板包括基底及絕緣層，所述第一凹槽為蝕刻所述絕緣層而形成。

9.根據權利要求7或8所述的彩色濾光陣列基板，其特征在于：所述彩色濾光陣列基板另包含一間隔層，設置于所述彩色濾光單元和所述像素電極之間。

10.根據權利要求7所述的彩色濾光陣列基板，其特征在于：所述彩色濾光陣列基板另包含一第二凹槽，設置于所述透明基板的邊緣。