[發明專利]一種微圖形成形方法

無效

• 申請號: 201210245848.1
• 申請日: 2012-07-17
• 公開（公告）號: CN103543601A
• 公開（公告）日: 2014-01-29
• 發明（設計）人: 趙建平
• 申請（專利權）人: 趙建平
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.采用傳統光刻、電鑄等相關技術完成兩組目標微圖形母版的制備；形成包含但不限于微米級線條的微圖形壓印母版。

2.采用包括但不限于卷對卷的納米壓印方式，將完成的兩組微圖形壓印母版表面圖案按照需要的對準規則壓印于基底薄膜的兩個表面。上述陳述中所述的基底薄膜為包含但不限于塑料的各種材質。

3.將包括但不限于油墨的顏料涂覆于基底薄膜單個表面或者兩個表面，使得顏料能夠填滿壓印完成后產生的微米級線條凹槽中。采用包括但不限于刮刀等手段與工具將凹槽外面的顏料刮除。

4.權利要求1所述的構成微圖形母版中的線條不僅包括微米級的凸起線條，也包括幾十微米甚至幾百微米的凸起線條，壓印完成后，基底薄膜表面不僅包括微米級的凹槽線條，也包括幾十微米甚至幾百微米的凹槽線條。對于母版中大于5微米的凸起線條中，在不同位置隨機布置尺度在200納米～2微米左右的縫隙。壓印完成后，基底薄膜表面的凹槽中具有隨機分布的加強筋，避免在后續利用刮刀等手段對基底薄膜表面凹槽外部顏料進行刮除的過程中，大尺度凹槽產生變形。

5.采用后續的干燥和涂覆保護漆等工藝對成形的微圖案進行抗損傷處理。

6.通過在基底薄膜表面加工具有不同結構參數的凹槽結構，可獲得由微米量級凹槽線條到幾百微米甚至毫米量級線條構成的圖案。如果基底薄膜另一面為微透鏡陣列，則可形成動態、三維顯示效果，可應用于顯示、防偽等領域。?