[發(fā)明專利]用于制造半導(dǎo)體封裝的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210242485.6 | 申請(qǐng)日: | 2012-07-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102881605A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-01-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 保羅·加尼澤爾;馬丁·斯坦丁 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 英飛凌科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/60 | 分類號(hào): | H01L21/60;H01L21/768 |
| 代理公司: | 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 余剛;吳孟秋 |
| 地址: | 德國(guó)瑙伊*** | 國(guó)省代碼: | 德國(guó);DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 制造 半導(dǎo)體 封裝 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明的各種實(shí)施方式總的來(lái)說(shuō)涉及一種用于制造半導(dǎo)體封裝的方法。
背景技術(shù)
現(xiàn)今的半導(dǎo)體封裝需要用較低成本給出優(yōu)異性能。器件焊盤的再次分配允許封裝內(nèi)部有更小的芯片外殼,這顯著降低了制造成本。設(shè)計(jì)必須繼續(xù)推進(jìn)性能界限,并撬動(dòng)用于實(shí)現(xiàn)成本縮減的更有效的制造方法。
傳統(tǒng)的封裝生產(chǎn)已發(fā)展到封裝不再明顯阻礙器件性能的水平。然而,仍有降低生產(chǎn)成本和簡(jiǎn)化用于該封裝生產(chǎn)的處理的潛在空間,其應(yīng)包括再次分配以擴(kuò)大焊盤面積。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的各種實(shí)施方式提供了一種用于制造半導(dǎo)體封裝的方法,該方法包括:提供襯底,該襯底具有相對(duì)的第一和第二表面,并在預(yù)定位置處具有從第一表面通過(guò)其至第二表面而形成的一個(gè)或多個(gè)通孔;提供至少一個(gè)第一芯片,該第一芯片具有第一和第二相對(duì)的表面,并在至少一個(gè)第一芯片的第一表面上具有一個(gè)或多個(gè)第一接觸端;放置至少一個(gè)第一芯片,使其第一表面在襯底的第一表面上,且在其間一個(gè)或多個(gè)通孔的外部涂覆有粘合劑(adhesive),使得一個(gè)或多個(gè)通孔與一個(gè)或多個(gè)第一接觸端對(duì)準(zhǔn),由此形成具有對(duì)應(yīng)的相對(duì)的第一和第二表面的芯片組件(die?assembly);為芯片組件的第一表面配置導(dǎo)電鍍層材料(plating?material)的第一鍍層,以電接觸一個(gè)或多個(gè)第一接觸端,其中,第一鍍層的鍍層材料延伸進(jìn)通孔中,以通過(guò)其電接觸一個(gè)或多個(gè)第一接觸端。
附圖說(shuō)明
附圖中,遍及不同的示圖,類似附圖標(biāo)記一般指代相似部件。附圖不一定按比例繪制,而是通常重點(diǎn)強(qiáng)調(diào)以說(shuō)明本發(fā)明的原理。在下文描述中,參照以下附圖來(lái)描述本發(fā)明的各種實(shí)施方式,其中:
圖1A至圖1FB示出了用于說(shuō)明根據(jù)各種實(shí)施方式來(lái)制造半導(dǎo)體封裝的方法的透視圖;
圖1G示出了沿著圖1FT的線G-G的截面;
圖2A至圖2J示出了用于說(shuō)明根據(jù)各種實(shí)施方式來(lái)制造半導(dǎo)體封裝的方法的透視圖;
圖3T和圖3B分別從頂部和從底部示出了使用根據(jù)各種實(shí)施方式的方法制造的半導(dǎo)體封裝的透視圖;
圖4和圖5分別示出了使用根據(jù)各種實(shí)施方式的方法制造的半導(dǎo)體封裝的透視圖;以及
圖6示出了用于說(shuō)明根據(jù)各種實(shí)施方式來(lái)制造半導(dǎo)體封裝的方法的示意性流程圖。
具體實(shí)施方式
以下詳細(xì)描述參照以可實(shí)踐本發(fā)明的說(shuō)明、具體細(xì)節(jié)和實(shí)施的方式示出的附圖。
本文使用詞語(yǔ)“示例性”來(lái)意指“用作實(shí)例、例子或說(shuō)明”。本文作為“示例性”來(lái)描述的任何實(shí)施方式或設(shè)計(jì)不一定要理解為較其它實(shí)施方式或設(shè)計(jì)是優(yōu)選的或有利的。
現(xiàn)將參照?qǐng)D1A至圖1G來(lái)描述根據(jù)各種實(shí)施方式的用于制造半導(dǎo)體封裝1(參見(jiàn)圖1FT、圖1FB和圖1G)的方法。
如圖1A所示,配置了面板形、平板形或薄膜形襯底或載體2,其包括第一表面3(這里,例如上表面)和與第一表面3相對(duì)的第二表面5(這里,例如下表面)。襯底2配置有從第一表面3通過(guò)襯底2延伸至第二表面5的多個(gè)通孔7’、7”、7’’’。在各種實(shí)施方式中,多個(gè)通孔7’、7”、7’’’可包括三個(gè)通孔7’、7”、7’’’,其分別與芯片9的芯片接觸端9’、9”、9’’’(在該實(shí)施方式中,第一、第二和第三接觸端9’、9”、9’’’分別提供例如MOSFET的源極、柵極和漏極接觸)相關(guān)聯(lián)以固定在襯底2上(例如,參見(jiàn)圖1FT和圖1G),下文將進(jìn)一步討論。需要注意,在各種實(shí)施方式中,例如,可配置任何其它數(shù)目的通孔,諸如四、五、六、七、八、九、十或甚至更多通孔。
此外,根據(jù)各種實(shí)施方式,在三個(gè)通孔7’、7”、7’’’中,第一通孔7’(與芯片9的源極接觸端9’相關(guān)聯(lián))可包括多個(gè)子通孔8’,其限定了第一組子孔8’,它的外包絡(luò)限定了第一通孔7’的外周邊,第二通孔7”(與芯片9的柵極接觸端9”相關(guān)聯(lián))可被形成為單個(gè)通孔(或者第二通孔7”也可被看作由第二組子通孔限定,該第二組僅包括一個(gè)子通孔),以及第三通孔7’’’(與芯片9的漏極接觸端9’’’相關(guān)聯(lián))可包括多個(gè)子通孔8’’’,其限定了第三組子孔8’’’,它的外包絡(luò)限定了第三通孔7’’’的外周邊。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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