[發(fā)明專利]氮化物半導(dǎo)體發(fā)光器件無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210242004.1 | 申請日: | 2012-07-12 |
| 公開(公告)號: | CN102881794A | 公開(公告)日: | 2013-01-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李哉勛 | 申請(專利權(quán))人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | H01L33/14 | 分類號: | H01L33/14;H01L33/04 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 陳源;張?zhí)焓?/td> |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氮化物 半導(dǎo)體 發(fā)光 器件 | ||
相關(guān)申請的交叉引用
本申請要求于2011年7月12日在韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交的韓國專利申請第10-2011-0068962號的優(yōu)先權(quán),通過引用將其公開的全部內(nèi)容合并于此。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及發(fā)光器件,更具體地,涉及氮化物發(fā)光器件。
背景技術(shù)
氮化物發(fā)光二極管(LED)是通過利用氮化物半導(dǎo)體的PN結(jié)來構(gòu)成發(fā)光源而能夠發(fā)出各種顏色的光的半導(dǎo)體器件。氮化物L(fēng)ED已經(jīng)得到不斷的發(fā)展,從而氮化物L(fēng)ED不但用于短波長光,而且用于長波長光。得益于氮化物L(fēng)ED的物理優(yōu)點(diǎn),氮化物L(fēng)ED不但可以廣泛應(yīng)用于光學(xué)器件,而且可以廣泛應(yīng)用于電子器件。
隨著由氮化物半導(dǎo)體形成的藍(lán)色LED的引入,LED的應(yīng)用變得更加廣泛,LED被應(yīng)用于各種領(lǐng)域,諸如小鍵盤、液晶顯示(LCD)器件的背光、交通燈、飛機(jī)、汽車和燈。尤其是,白色LED可以代替現(xiàn)有的白熾燈泡和熒光燈,這將是一種形式的照明變革。
因為氮化物發(fā)光二極管(LED)在P型半導(dǎo)體的P摻雜中有局限性,所以存在用于通過降低導(dǎo)通電壓和改善電流擴(kuò)散效應(yīng)來減少電流崩塌現(xiàn)象的技術(shù)需求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了能夠改善電流擴(kuò)散效應(yīng)和提高光功率的氮化物發(fā)光器件。
在下面的描述中,將部分陳述其它方面,根據(jù)下面的描述,其它方面在某種程度上將變得顯而易見,或通過實(shí)施所提供的實(shí)施例可以得知。
本公開的一方面包括一種氮化物發(fā)光器件。所述氮化物發(fā)光器件包括:N型氮化物半導(dǎo)體層;P型氮化物半導(dǎo)體層;以及有源層,其形成在所述N型氮化物半導(dǎo)體層和所述P型氮化物半導(dǎo)體層之間。在所述P型氮化物半導(dǎo)體層中形成異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)。所述異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)包括:GaN層和摻有N型摻雜劑的N型AlxInyGaN層,其中,0≤x≤1,0≤y≤1,并且x+y=1;以及二維電子氣(2DEG)層,其形成在所述GaN層和所述N型AlxInyGaN層之間的界面中。
所述P型氮化物半導(dǎo)體層包括形成在所述有源層上的P型包覆層和形成在所述P型包覆層上的P型接觸層,其中,在所述P型接觸層或所述P型包覆層內(nèi)部形成所述異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)。例如,所述P型接觸層由P+-GaN形成,并且所述異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)形成在所述P型接觸層內(nèi)部。
在所述異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)中,所述GaN層形成于所述有源層處。
所述GaN層是未摻雜層。所述GaN層具有大約5nm到大約50nm的厚度。
所述N型AlxInyGaN層的N型摻雜劑是Si。所述N型AlxInyGaN層由包含從大約15%到大約45%的Al含量的AlGaN形成。所述N型AlxInyGaN層具有在大約10nm到大約50nm的范圍內(nèi)的厚度。
本公開的另一方面涉及所述氮化物發(fā)光器件還包括:N型電極,其形成在所述N型氮化物半導(dǎo)體層上;以及P型電極,其形成在所述P型氮化物半導(dǎo)體層上并且由透明導(dǎo)電材料形成,其中,光通過所述P型電極發(fā)出。
根據(jù)本公開的另一方面,所述氮化物發(fā)光器件還包括:N型電極,其形成在所述N型氮化物半導(dǎo)體層上;以及P型電極,其形成在所述P型氮化物半導(dǎo)體層上,其中,所述氮化物發(fā)光器件可以具有外延向下(epi-down)型垂直結(jié)構(gòu)。
根據(jù)本公開的另一方面,所述氮化物發(fā)光器件還包括:N型電極,其形成在所述N型氮化物半導(dǎo)體層上;P型電極,其形成在所述P型氮化物半導(dǎo)體層上;以及布線襯底,其接合到所述P型電極,其中,所述氮化物發(fā)光器件可以包括具有倒裝芯片結(jié)構(gòu)的陣列。
在根據(jù)本公開的各實(shí)施例的氮化物發(fā)光器件中,在P型氮化物半導(dǎo)體層中形成N-AlxInyGaN/GaN的異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)以引發(fā)2DEG,從而由于所述2DEG的高載流子遷移率而增強(qiáng)了所述P型氮化物半導(dǎo)體層中的電流擴(kuò)散效應(yīng)。因而,即使施加了高功率,也能夠防止電流集聚(current?crowding)現(xiàn)象,因而可以提高氮化物發(fā)光器件的可靠性。同樣,在所述異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)和所述P型氮化物半導(dǎo)體層之間形成了N+/P+的隧道(tunneling)結(jié),因而可以提高對有源層的空穴注入效率,從而提高了光功率。
附圖說明
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