1.一種金屬基體表面處理方法，其包括如下步驟：
提供一金屬基體；
采用真空鍍膜的方式，在該金屬基體上依次形成第一顏色層和第二顏色層，該第一顏色層為碳化鈦層或氮化鈦層，該第二顏色層為碳化鉻層或氮化鉻層，該第一顏色層與該第二顏色層呈現(xiàn)出不同的顏色；
于該第二顏色層上形成一感光油墨層；
采用曝光顯影處理，使所述感光油墨層的部分區(qū)域形成一硬化層；
采用電化學(xué)蝕刻處理，去除未被硬化層覆蓋的區(qū)域的第二顏色層，使第二顏色層形成至少一貫通第二顏色層的凹部，并使該第一顏色層對(duì)應(yīng)所述凹部區(qū)域的表面形成氧化鈦層；用以進(jìn)行所述電化學(xué)蝕刻處理的處理液為含有高錳酸鉀、硫酸的水溶液或氫氧化鈉溶液，當(dāng)蝕刻液為含有高錳酸鉀、硫酸的水溶液時(shí)，通過(guò)蝕刻液的電流密度為3~5A/dm?2，處理時(shí)間為6~9min；當(dāng)蝕刻液為氫氧化鈉溶液時(shí)，通過(guò)蝕刻液的電流密度為1~3A/dm?2，處理時(shí)間為1~2min；
去除所述硬化層。
2.如權(quán)利要求1所述的金屬基體表面處理方法，其特征在于：該含有高錳酸鉀、硫酸的水溶液中，高錳酸鉀的質(zhì)量百分含量為5~10%，硫酸的質(zhì)量百分含量為10~15%。
3.如權(quán)利要求2所述的金屬基體表面處理方法，其特征在于：該電化學(xué)蝕刻處理中，該蝕刻液的溫度為20~30℃。
4.如權(quán)利要求1所述的金屬基體表面處理方法，其特征在于：該氫氧化鈉溶液的質(zhì)量百分含量為5~8%。
5.如權(quán)利要求4所述的金屬基體表面處理方法，其特征在于：該電化學(xué)蝕刻處理中，該氫氧化鈉溶液的溫度為20~30℃。
6.如權(quán)利要求1所述的金屬基體表面處理方法，其特征在于：當(dāng)?shù)谝活伾珜訛樘蓟亴訒r(shí)，第一顏色層通過(guò)如下方式形成：以鈦靶為靶材，設(shè)置鈦靶的功率為8~10kw；以乙炔為反應(yīng)氣體，設(shè)置乙炔的流量為30~120sccm；對(duì)金屬基體施加的偏壓為-100~-120V，鍍膜溫度為100~120℃，鍍膜時(shí)間為50~70min。
7.如權(quán)利要求1所述的金屬基體表面處理方法，其特征在于：當(dāng)?shù)诙伾珜訛樘蓟t層時(shí)，第二顏色層通過(guò)如下方式形成：以鉻靶為靶材，設(shè)置鉻靶的功率為8~10kw；以乙炔為反應(yīng)氣體，設(shè)置乙炔的流量為30~60sccm；對(duì)金屬基體施加的偏壓為-100~-120V，鍍膜溫度為100~120℃，鍍膜時(shí)間為90~120min。
8.如權(quán)利要求1所述的金屬基體表面處理方法，其特征在于：該金屬基體表面處理方法還包括在形成該第一顏色層之前，在該金屬基體上形成襯底層的步驟，該襯底層為鈦層。
9.如權(quán)利要求1或8所述的金屬基體表面處理方法，其特征在于：該金屬基體表面處理方法還包括在形成該第二顏色層之前，在第一顏色層上形成結(jié)合層的步驟，該結(jié)合層為鉻層。
10.一種制品，包括金屬基體，其特征在于：該制品還包括依次形成于金屬基體上的第一顏色層和第二顏色層，該第一顏色層為碳化鈦層或氮化鈦層，該第二顏色層為碳化鉻層或氮化鉻層，該第一顏色層與該第二顏色層呈現(xiàn)出不同的顏色；第二顏色層形成至少一貫通的凹部，該第一顏色層對(duì)應(yīng)所述凹部區(qū)域的表面形成有氧化鈦層。
11.如權(quán)利要求10所述的制品，其特征在于：該氧化鈦層的厚度為1~3nm。
12.如權(quán)利要求11所述的制品，其特征在于：該氧化鈦層表面的粗糙度Ra為0.1~0.3μm。
13.如權(quán)利要求10所述的制品，其特征在于：該氧化鈦層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于28至35，a*坐標(biāo)介于-1至2，b*坐標(biāo)介于-1至2。
14.如權(quán)利要求11所述的制品，其特征在于：該第一顏色層未形成有氧化鈦層的區(qū)域的厚度為0.8~1.1μm。
15.如權(quán)利要求11所述的制品，其特征在于：該第二顏色層的厚度為1~1.2μm。
16.如權(quán)利要求15所述的制品，其特征在于：當(dāng)?shù)诙伾珜訛樘蓟t層時(shí)，第二顏色層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE?LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于68至75，a*坐標(biāo)介于0至3，b*坐標(biāo)介于0至3。
