[發明專利]低溫離子鍍膜裝置

無效

• 申請號: 201210232408.2
• 申請日: 2012-07-06
• 公開（公告）號: CN102703868A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發明（設計）人: 陸世德
• 申請（專利權）人: 肇慶市同力真空科技有限公司;陸世德
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32
• 代理公司: 廣州市南鋒專利事務所有限公司 44228
• 代理人: 李永慶

技術領域

本發明涉及一種鍍膜裝置，具體是一種低溫離子鍍膜裝置。

背景技術

物理氣相沉積（PVD）技術：表示在真空條件下，采用物理方法，將材料源——固體表面氣化成氣體原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有特殊功能薄膜的技術。

PVD分為真空蒸發鍍、濺射鍍膜和離子鍍。真空蒸發鍍分為電阻蒸發、電子束蒸發、高頻感應加熱蒸發等；濺射鍍膜分為直流濺射、射頻濺射、脈沖濺射等；離子鍍分為陰極電弧離子、空心陰極離子等。

真空蒸鍍是將鍍料在真空中加熱、蒸發，使蒸發的原子或原子團在溫度較低的基體上凝結，形成薄膜。

濺射鍍膜是在一定氬氣的真空條件下，采用輝光放電技術，將氬氣電離產生氬離子，氬離子在電場力的作用下加速轟擊陰極，使陰極上的鍍料被濺射下來，沉積到基體表面形成薄膜。

離子鍍是指在真空條件下，利用氣體放電使氣體或蒸發物質離化，在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時，將蒸發物或其反應物沉積在基片上。

目前國內各款式的多弧真空鍍膜機、磁控真空鍍膜機；多弧、磁控復合真空鍍膜機、電阻蒸發真空鍍膜機以及電子束蒸發真空鍍膜機等,前四種機型基本上都是轉架轟擊結構，后一種機型（電子束蒸發真空鍍膜機）則是霍爾離子源轟擊結構。

轉架轟擊清洗結構對于金屬制品來說倒還起點作用,?對于塑料、樹脂、亞克力、玻璃、陶瓷等制品,因為它們都是絕緣不導電的,所以轉架轟擊清洗就失去作用。

為了改善膜層的穩定性和各項理化性能指標的重復性、一致性，有人在真空室的內側壁上增設了條形離子源，這種方案在實際生產中效果甚微,僅起到鍍膜前期的轟擊清洗作用,與條形離子源相鄰的靶材與條形離子源呈90°角設置,離化效果差?,條形離子源根本起不到輔助鍍膜作用,僅起轟擊清洗作用。與條形離子源相對的靶材雖然與條形離子源呈180°角設置,但兩者距離甚遠,同樣,?條形離子源也起不到輔助鍍膜的作用。

可見,上述的鍍膜裝置由于離化率低，存在著以下弊端：?

1、轉架轟擊、條形離子源及霍爾離子源的離化效果遠遠達不到要求；

2、金屬制品(裝飾膜)必需加溫鍍制(200℃左右)才不影響膜層附著力；

3、鍍制塑料、樹脂、亞克力、玻璃、陶瓷等制品,?很難鍍上膜或根本鍍不上膜,而且塑料、樹脂、亞克力等制品很容易熱變形，更不用說加溫了；

4、由于必需加溫鍍制鍍膜,鍍件硬度變軟(如陽江不銹鋼刀硬度降幅不允許≥5度，因整個行業鍍膜都達不到硬度降幅為0的水平，所以刀具行業沒有辦法，只能定這個硬度降幅標準了)；

5、有色金屬制品(如銅、鋁、鋅、鎂等)?必需經過水鍍后才能鍍上膜層；

6、陶瓷制品(如宮廷陶瓷罐等)表面了上釉就鍍不上膜層；

7、水鍍都鍍不了的汽車煙灰缸，此類型鍍膜機就根本鍍不上膜。

發明內容

本發明的前一目的是提供一種不僅能夠同時適應金屬和非金屬材料的鍍膜，實現低溫鍍膜，而且離化效率高、鍍膜效果好的低溫離子鍍膜裝置。

本發明的后一目的提供一種不僅能夠同時適應金屬和非金屬材料的鍍膜，實現低溫鍍膜，而且離化效率高、鍍膜效果好的低溫離子鍍膜裝置

為實現上述的前一目的，本發明所采用的技術方案是：一種低溫離子鍍膜裝置，包括真空室、工件轉架和蒸發源，在真空室內還設有離子裝置，該離子裝置設置在工件轉架的中部位置，蒸發源設置在真空室內的周邊位置上。

優選的方案是，所述的離子裝置包括支架、支撐架和離子板，離子板安裝在支架與支撐架之間。

優選的方案是，所述的蒸發源為多弧靶。

優選的方案是，所述的蒸發源為磁控靶。

優選的方案是，所述的蒸發源為電子槍。

優選的方案是，所述的蒸發源為蒸發電極。

為實現上述的后一目的，低溫離子鍍膜裝置，包括真空室、工件轉架和蒸發源，在真空室內還設有離子裝置，該離子裝置設在工件轉架外部位置上，蒸發源設置在真空室的中部位置上。

本發明采用上述結構后，通過在工件轉架的中部或外部位置設有離子裝置，蒸發源設置在真空室的周邊或中部位置上，具有以下優點：

1、低溫離子鍍膜關鍵在于離子裝置所產生的離化效應以及它的安裝位置,?由于靶材對于離子裝置均為180°角,在靶材與離子裝置之間形成一個獨特的等離子區域，這樣就充分發揮離子的作用,?離子分布均勻,離化效應好,大大地改善鍍膜效果；