[發明專利]基于OpenGL的飛行模擬視景系統中地坑模擬方法

無效

• 申請號: 201210226106.4
• 申請日: 2012-07-03
• 公開（公告）號: CN102789652A
• 公開（公告）日: 2012-11-21
• 發明（設計）人: 高穎;郭淑霞;姬維君;李瑛;劉寧;陳衛軍;劉琦;李南京;宋陽;張金匯
• 申請（專利權）人: 西北工業大學
• 主分類號: G06T17/05
• 分類號: G06T17/05
• 代理公司: 西北工業大學專利中心 61204
• 代理人: 王鮮凱

1.一種基于OpenGL的飛行模擬視景系統中地坑模擬方法，其特征在于步驟如下：

步驟1：定義地坑坑口平面的圓心為中心點，中心點坐標為(m，n)；然后在坑口所在平面上m-c/a<i<m+c/a,]]>n-c/a<j<n+c/a]]>的坐標區間內，按照行和列分別等間隔取點，所取點的坐標為(i₁，j₁)、(i₁，j₂)、……(i₁，j_l)、(i₂，j_l)……(i₂，j_l)……(i_l，j_l)，l為任意整數；

其中，a是自定義可變量，且a>0；c為地坑的深度；為坑口半徑；

步驟2：建立地坑的形狀的數學模型：z為地坑表面內的高程值，且地平面的高程值z=0；

其中：為所取點到中心點的距離，具體序列值為：

x1,1=(n-j1)×(n-j1)+(m-i1)×(m-i1)]]>x1,2=(n-j2)×(n-j2)+(m-i1)×(m-i1)]]>……xl,l=(n-jl)×(n-jl)+(m-il)×(m-il);]]>

步驟3：計算地坑表面內的高程值，當x≥r時定義高程值為0；當x<r時，根據公式計算坑口區域表面內每一點對應的高程值，得到坑口所在平面上每一點的高程值為z_1，1、z_1，2……z_l，l；

步驟4：將步驟3得到的高程值，采用OpenGL建模，再運行OpenGL程序得到飛行模擬視景系統中的模擬地坑。