[發(fā)明專(zhuān)利]顯示面板以及顯示面板的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210225144.8 | 申請(qǐng)日: | 2012-06-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102856508A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-01-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 奧村纮子;增田裕之 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L51/52 | 分類(lèi)號(hào): | H01L51/52;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務(wù)所 11247 | 代理人: | 徐健;段承恩 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 以及 制造 方法 | ||
1.一種顯示面板,具備:
元件基板,其在形成有發(fā)光元件的像素區(qū)域形成有第1凹部,在與像素間區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域形成有第2凹部,在所述第1凹部與所述第2凹部之間形成有第1凸部;
對(duì)向基板,其在與所述像素區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域形成有第2凸部,在與所述像素間區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域形成有第3凹部,在與所述第1凸部對(duì)向的區(qū)域延伸設(shè)置所述第3凹部的凹陷區(qū)域,所述第2凸部的突出區(qū)域的高度比所述第1凹部的凹陷區(qū)域的深度大,在將所述第1凹部和所述第2凸部之間的間隔設(shè)為D1、將所述第1凸部和與所述第1凸部對(duì)向的第3凹部的凹陷區(qū)域之間的間隔設(shè)為D2、將所述第2凹部和所述第3凹部之間的間隔設(shè)為D3的情況下,所述間隔D1<所述間隔D2<所述間隔D3這一關(guān)系成立;以及
封止樹(shù)脂層,其介于所述元件基板與所述對(duì)向基板之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,
所述第1凸部對(duì)應(yīng)于用于隔開(kāi)所述發(fā)光元件基板的第1凹部和第2凹部之間的隔壁。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顯示面板,
在所述發(fā)光元件基板排列有多個(gè)所述第1凹部,在所述第1凹部分別形成有所述發(fā)光元件。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板,
所述發(fā)光元件包括具有不同發(fā)光色的發(fā)光元件,所述發(fā)光色的數(shù)量至少是3種。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板,
所述發(fā)光元件是有機(jī)EL發(fā)光元件。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板,
所述對(duì)向基板是濾色片基板,
在所述對(duì)向基板排列有多個(gè)所述第2凸部,排列了多個(gè)的所述第2凸部分別是與所述發(fā)光色的各色對(duì)應(yīng)的濾色片。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板,
所述濾色片基板具備基臺(tái)和對(duì)與所述發(fā)光色的各色對(duì)應(yīng)的濾色片進(jìn)行區(qū)劃的黑底,
所述第2凸部的突出區(qū)域的高度是從所述黑底的表面到所述濾色片的表面的高度。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,
在所述第2凹部設(shè)置有輔助電極。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,
所述間隔D2配置成介于所述間隔D1與所述間隔D3之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,
所述第3凹部的底面的長(zhǎng)度比所述間隔D1長(zhǎng)。
11.一種顯示面板,具備:
元件基板,其設(shè)置有隔壁,所述隔壁的像素區(qū)域側(cè)為以發(fā)光元件為表面的第1凹部,所述隔壁的像素間區(qū)域側(cè)為第2凹部;
對(duì)向基板,其形成有與所述發(fā)光元件對(duì)向而向所述發(fā)光元件側(cè)突出的濾色片,并形成有與所述像素間區(qū)域?qū)?yīng)而突出高度比所述濾色片的突出高度低的黑底,在與所述隔壁對(duì)向的區(qū)域延伸設(shè)置所述黑底,所述濾色片的突出高度比第1凹部的凹陷深度大,在將所述第1凹部和所述濾色片之間的間隔設(shè)為D1、將與所述隔壁對(duì)應(yīng)的表面和所述黑底之間的間隔設(shè)為D2、將所述第2凹部和所述黑底之間的間隔設(shè)為D3的情況下,所述間隔D1<所述間隔D2<所述間隔D3這一關(guān)系成立;以及
封止樹(shù)脂層,其介于所述元件基板與所述對(duì)向基板之間。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示面板,
所述第2凹部的凹陷區(qū)域的上面對(duì)應(yīng)于在所述像素間區(qū)域設(shè)置的輔助電極的表面。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示面板,
所述發(fā)光元件是有機(jī)EL發(fā)光元件。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示面板,
所述間隔D2配置成介于所述間隔D1與所述間隔D3之間。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示面板,
與所述像素間區(qū)域?qū)ο虻暮诘椎穆冻錾厦娴拈L(zhǎng)度比所述間隔D1長(zhǎng)。
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- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專(zhuān)門(mén)適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專(zhuān)門(mén)適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或微粒輻射;專(zhuān)門(mén)適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
- 凈水濾芯以及凈水裝置、以及洗漱臺(tái)
- 隱匿檢索系統(tǒng)以及公開(kāi)參數(shù)生成裝置以及加密裝置以及用戶秘密密鑰生成裝置以及查詢發(fā)布裝置以及檢索裝置以及計(jì)算機(jī)程序以及隱匿檢索方法以及公開(kāi)參數(shù)生成方法以及加密方法以及用戶秘密密鑰生成方法以及查詢發(fā)布方法以及檢索方法
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 圖片顯示方法以及裝置以及移動(dòng)終端
- ENB以及UEUL發(fā)送以及接收的方法
- X射線探測(cè)方法以及裝置以及系統(tǒng)
- 圖書(shū)信息錄入方法以及系統(tǒng)以及書(shū)架
- 護(hù)耳器以及口罩以及眼鏡
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過(guò)程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法





