[發明專利]閘閥和使用其的基板處理系統

無效

• 申請號: 201210218751.1
• 申請日: 2012-06-27
• 公開（公告）號: CN102853099A
• 公開（公告）日: 2013-01-02
• 發明（設計）人: 達下弘一
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: F16K3/18
• 分類號: F16K3/18;F16K27/04;H01L21/67
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

技術領域

本發明涉及閘閥和使用其的基板處理系統。

背景技術

在太陽電池、液晶顯示屏（LCD）為代表的平板顯示屏（FPD）等的制造過程中，對大型的玻璃基板實施蝕刻或者成膜等的規定的處理。作為實施這種處理的基板處理系統，已知有具備多個處理室的多腔室類型的基板處理系統（例如專利文獻1、2）。

這種多腔室類型的基板處理系統，具有設置有搬送基板（被處理體）的搬送裝置的共用搬送室，在該共用搬送室的周圍具備：處理室；和在共用搬送室和大氣壓氛圍之間交換未處理的基板和處理完成的基板的負載鎖定室等。這些共用搬送室、處理室和負載鎖定室為真空裝置，這些真空裝置，通過使用排氣機構進行排氣，內部成為規定的減壓狀態。

真空裝置具備氣密地構成的容器主體，在該容器主體上設置有用于被處理體出入的開口部。開口部使用閘閥開閉。當開口部通過閘閥關閉時，容器主體的內部被氣密地密封，容器主體的內部的壓力減壓至規定的工藝壓力，能夠在大氣狀態和減壓狀態相互之間轉換。

作為閘閥的結構例，已知有使用在專利文獻1記載的環機構的閘閥和使用在專利文獻2記載的凸輪機構的閘閥。

專利文獻

專利文獻1：日本特開平5-196150號公報

專利文獻2：日本特開2011-54928號公報

發明內容

近來，隨著被處理體的大型化或者同時多個處理被處理體的批處理的進展，設置在容器主體上的用于被處理體進出的開口部的尺寸變大。另外，在批處理中，從抑制成品率的降低或者維持或者提高的觀點出發，研究使一次處理的個數增加。

但是，當一次處理的被處理體的個數增加時，開口部的尺寸在高度方向上會變長，閥體的升降距離也會變長。因此，在生產工廠內，存在設置基板處理系統困難的問題。

本發明提供一種即使一次處理的被處理體的個數增加，也能夠縮短閥體的升降距離的閘閥和使用該閘閥的基板處理系統。

本發明的第一方面的閘閥，包括：取出和放入被處理體的多個開口部；被按壓上述開口部的閥體；在上述閥體上設置的按壓部；與上述開口部的開口面平行地滑動的主滑動部；設置在上述主滑動部，包括突起部和從該突起部呈坡狀傾斜的傾斜部，在上述閥體與上述開口部正對的狀態下按壓上述閥體的按壓部的凸輪，上述閥體，具有作為打開上述開口部的開放部起作用的至少一個縫隙狀開口，使與上述縫隙狀開口相鄰的部位成為關閉上述多個開口部的閉塞部。

本發明的第二方面的基板處理系統，具備：處理室，其具有取出和放入被處理體的開口部，能夠使得上述被處理體在真空狀態下，對上述被處理體實施處理；負載鎖定室，其具有取出和放入上述被處理體的開口部，能夠使上述被處理體處于大氣狀態下和真空狀態下兩者，交換處理前和完成處理的被處理體；和搬送室，其具有取出和放入上述被處理體的開口部，能夠使上述被處理體處于真空狀態下，在上述負載鎖定室和上述處理室之間搬送上述被處理體，開閉上述處理室、上述負載鎖定室和上述搬送室的至少任一個的取出和放入上述被處理體的開口部的閘閥，使用上述第一方面的閘閥。

根據本發明，能夠提供即使一次處理的被處理體的個數增加，也能夠縮短閥體的升降距離的閘閥和使用該閘閥的基板處理系統。

附圖說明

圖1是概略性的表示使用一個實施方式的閘閥的基板處理系統的一個例子的俯視圖。

圖2是從閘閥室的內部觀看一個實施方式的閘閥的正視圖。

圖3是表示參考例的圖。

圖4是表示參考例的圖。

圖5是表示使用一個實施方式的閘閥的一個優點的圖。

圖6是以表示一個實施方式的閘閥的一個動作例的一部分為截面的側視圖。

圖7是以表示一個實施方式的閘閥的更具體的一個例子的一部分為截面的正視圖。

圖8是沿著圖7的8-8線的水平截面圖。

圖9是沿著圖7的9-9線的截面圖。

圖10是沿著圖7的10-10線的縱截面圖。

圖11是沿著圖7的11-11線的縱截面圖。

符號說明

10a、10b處理室

20負載鎖定室

30共用搬送室

60閘閥室

61a～61d開口部

63閥體

65a～65c縫隙狀開口

67按壓部

69輥

70主滑動部

71按壓機構

72突起部

73傾斜部

74拉掛部