[發(fā)明專利]結(jié)晶裝置、結(jié)晶方法以及熱處理系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210209914.X | 申請日: | 2012-06-19 |
| 公開(公告)號: | CN102839420B | 公開(公告)日: | 2017-03-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 鄭珉在;李基龍;鄭胤謨;李東炫;李吉遠 | 申請(專利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | C30B29/06 | 分類號: | C30B29/06;C30B28/02 |
| 代理公司: | 北京英賽嘉華知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司11204 | 代理人: | 余朦,劉錚 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 結(jié)晶 裝置 方法 以及 熱處理 系統(tǒng) | ||
1.一種結(jié)晶裝置,包括:
接納單元,支承待處理對象;
第一加熱單元,鄰近于所述接納單元,所述第一加熱單元配置為在第一時間段中將所述待處理對象加熱至第一溫度;以及
第二加熱單元,鄰近于所述第一加熱單元,所述第二加熱單元配置為在第二時間段中將所述待處理對象加熱至比所述第一溫度高的第二溫度,所述第二時間段比所述第一時間段短。
2.如權(quán)利要求1所述的結(jié)晶裝置,其中
所述第一加熱單元包括多個第一加熱單元,所述第二加熱單元包括多個第二加熱單元,并且
所述多個第一加熱單元和所述多個第二加熱單元交替地設(shè)置。
3.如權(quán)利要求1所述的結(jié)晶裝置,其中
所述第一加熱單元是加熱線,所述加熱線配置為利用電阻產(chǎn)生熱量,并且
所述第二加熱單元被配置為利用燈產(chǎn)生熱量。
4.如權(quán)利要求3所述的結(jié)晶裝置,其中所述燈包括紅外線燈、紫外線燈以及弧光燈中的一種。
5.如權(quán)利要求1所述的結(jié)晶裝置,其中
所述接納單元、所述第一加熱單元以及所述第二加熱單元設(shè)置在腔室中。
6.如權(quán)利要求1所述的結(jié)晶裝置,其中
所述第一溫度在100°C到750°C的范圍內(nèi)。
7.一種熱處理系統(tǒng),包括:
裝載單元,用于將支承待處理對象的接納單元裝載于其上;
多個熱處理裝置,連接在一起并且排列為在與所述接納單元被轉(zhuǎn)移的方向?qū)姆较蛏涎由欤杂糜谶M行熱處理;以及
如權(quán)利要求1所述的結(jié)晶裝置,所述結(jié)晶裝置設(shè)置在所述多個熱處理裝置中的相鄰的熱處理裝置之間。
8.一種結(jié)晶方法,包括:
在第一時間段中,在第一溫度處加熱待處理對象;以及
在第二時間段中,在比所述第一溫度高的第二溫度處加熱所述待處理對象,所述第二時間段比所述第一時間段短,并且所述第二時間段包含在所述第一時間段中。
9.如權(quán)利要求8所述的結(jié)晶方法,其中
所述第一時間段包括:
溫度升高時間段,在所述溫度升高時間段中,所述待處理對
象的溫度升高至所述第一溫度,
溫度保持時間段,在所述溫度保持時間段中,所述待處理對
象的溫度被保持在所述第一溫度,以及
溫度降低時間段,在所述溫度降低時間段中,所述待處理對
象的溫度從所述第一溫度降低,并且
所述第二時間段處于所述溫度保持時間段和所述溫度降低時間段中的至少一個時間段內(nèi)。
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