[發(fā)明專(zhuān)利]波前修正設(shè)備、光刻設(shè)備以及方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210207908.0
• 申請(qǐng)日: 2012-06-19
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102841511A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-12-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 羅坦·艾哈邁多維奇·斯匹克漢諾夫
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20;G02B27/00
• 代理公司: 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光刻設(shè)備以及用于制造器件的方法，以及涉及波前修正設(shè)備。

背景技術(shù)

光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底的目標(biāo)部分上的機(jī)器。光刻設(shè)備可用于例如集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱(chēng)為掩模或掩模版的圖案形成裝置用于生成待形成在所述IC的單層上的電路圖案，并且可以將該圖案成像到具有一層輻射敏感材料(抗蝕劑)的襯底(例如，硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如，包括一部分管芯、一個(gè)或多個(gè)管芯)上。通常，單一襯底將包括相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)，所述相鄰目標(biāo)部分被連續(xù)地曝光。公知的光刻設(shè)備包括：所謂的步進(jìn)機(jī)，在步進(jìn)機(jī)中，通過(guò)將全部圖案一次曝光到所述目標(biāo)部分上來(lái)輻射每一個(gè)目標(biāo)部分；和所謂的掃描器，在所述掃描器中，通過(guò)輻射束沿給定方向(“掃描”方向)掃描所述圖案、同時(shí)沿與該方向平行或反向平行的方向同步地掃描所述襯底來(lái)輻射每一個(gè)目標(biāo)部分。

期望將圖案從圖案形成裝置以高精確度投影到襯底上。投影到襯底上的圖案的精確度部分依賴于用于投影圖案的輻射的光學(xué)波前。光學(xué)波前離開(kāi)其理想形狀的偏離可以通過(guò)一個(gè)或多個(gè)波前像差表征。波前像差可以對(duì)通過(guò)光刻設(shè)備投影圖案的精確度具有顯著的影響。

在光刻設(shè)備中存在多種波前像差的源，包括例如不理想的光學(xué)元件(例如透鏡)構(gòu)成、光學(xué)元件性能隨時(shí)間的偏移以及光學(xué)元件升溫。因?yàn)椴ㄇ跋癫钔ǔ４嬖谟诠饪淘O(shè)備中，因此期望能夠以受控的方式減小一個(gè)或多個(gè)波前像差，由此允許提高光刻設(shè)備投影圖案的精確度。

發(fā)明內(nèi)容

期望提供例如新的波前修正設(shè)備，其克服或消除這里指出的或其他地方指出的現(xiàn)有技術(shù)的問(wèn)題。

根據(jù)本發(fā)明一方面，提供一種波前修正設(shè)備，包括多個(gè)聲波發(fā)射器，多個(gè)聲波發(fā)射器配置成發(fā)射至少部分地行進(jìn)跨過(guò)輻射束管道的聲波。

多個(gè)聲波發(fā)射器可以配置成以建立駐聲波，所述駐聲波至少部分地延伸跨過(guò)輻射束管道的駐聲波。

多個(gè)聲波發(fā)射器成對(duì)地設(shè)置，每一對(duì)的聲波發(fā)射器彼此面對(duì)。

代替或附加面朝另一聲波發(fā)射器，聲波發(fā)射器可以面朝反射器。

一對(duì)聲波發(fā)射器中的第一聲波發(fā)射器配置成發(fā)射頻率與一對(duì)聲波發(fā)射器中的第二聲波發(fā)射器發(fā)射的聲波基本上相同的聲波。

第一和第二聲波發(fā)射器可以發(fā)射具有不同頻率的聲波，使得在它們之間建立行進(jìn)的波。

多個(gè)聲波發(fā)射器配置成用駐聲波基本上填充輻射束管道的橫截面。聲波發(fā)射器可以配置成用駐聲波基本上填滿輻射束管道的橫截面的部分。

波前修正設(shè)備還包括配置成控制由聲波發(fā)射器發(fā)射的聲波的頻率和相位的控制器。

控制器可以配置成控制一對(duì)聲波發(fā)射器，使得它們都發(fā)射具有基本上相同頻率的聲波。

控制器配置成啟動(dòng)或關(guān)閉所選擇的聲波發(fā)射器以便在輻射束管道內(nèi)的期望位置處提供駐聲波。

一個(gè)或多個(gè)聲波發(fā)射器可以具有可調(diào)節(jié)的取向。控制器可以配置成控制一個(gè)或多個(gè)聲波發(fā)射器的取向。

一個(gè)或多個(gè)聲波發(fā)射器具有可調(diào)節(jié)的位置。控制器可以配置成控制一個(gè)或多個(gè)聲波發(fā)射器的位置。

多個(gè)聲波發(fā)射器可以設(shè)置在基本上相同的平面內(nèi)。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供一種光刻設(shè)備，包括支撐結(jié)構(gòu)，用以支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置用以在輻射束的橫截面上給輻射束提供圖案；襯底臺(tái)，用以保持襯底；投影系統(tǒng)，用以將圖案化的輻射束投影到襯底的目標(biāo)部分上；和這里所述的波前修正設(shè)備。

波前修正設(shè)備的聲波發(fā)射器可以設(shè)置在光刻設(shè)備的投影系統(tǒng)和/或照射系統(tǒng)中，照射系統(tǒng)配置成調(diào)節(jié)輻射束并且朝向支撐結(jié)構(gòu)傳送所述束。

聲波發(fā)射器位于光刻設(shè)備的光瞳平面內(nèi)和/或場(chǎng)平面內(nèi)。

聲波發(fā)射器位于基本上垂直光刻設(shè)備的光學(xué)軸線的平面內(nèi)。

聲波發(fā)射器配置成發(fā)射頻率與通過(guò)光刻設(shè)備的源或與光刻設(shè)備相關(guān)聯(lián)的源產(chǎn)生的輻射脈沖的重復(fù)率相符的頻率的聲波或者發(fā)射頻率為通過(guò)光刻設(shè)備的源或與光刻設(shè)備相關(guān)聯(lián)的源產(chǎn)生的輻射脈沖的重復(fù)率的倍數(shù)的聲波的聲波。

聲波發(fā)射器可以配置成發(fā)射頻率與光刻設(shè)備的源或與光刻設(shè)備相關(guān)聯(lián)的源產(chǎn)生的輻射脈沖的重復(fù)率相關(guān)或確定的聲波。例如，可以選擇頻率，其針對(duì)不同輻射脈沖在不同的期望位置處提供聲波的波腹。

控制器可以配置成接收輻射束的波前像差的測(cè)量值或預(yù)測(cè)值，以及確定將減小或消除輻射束的波前像差的駐聲波結(jié)構(gòu)。

聲波發(fā)射器可以配置成在氣體中建立駐聲波。