[發(fā)明專利]波前修正設(shè)備、光刻設(shè)備以及方法

有效

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• 申請日: 2012-06-19
• 公開（公告）號: CN102841511A
• 公開（公告）日: 2012-12-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 羅坦·艾哈邁多維奇·斯匹克漢諾夫
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B27/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

1.一種波前修正設(shè)備，包括多個(gè)聲波發(fā)射器，所述多個(gè)聲波發(fā)射器配置成發(fā)射至少部分地行進(jìn)跨過輻射束管道的聲波。

2.如權(quán)利要求1所述的波前修正設(shè)備，其中，所述多個(gè)聲波發(fā)射器配置以建立駐聲波，所述駐聲波至少部分地延伸跨過輻射束管道。

3.如權(quán)利要求1或2所述的波前修正設(shè)備，其中，所述多個(gè)聲波發(fā)射器成對地設(shè)置，每一對的聲波發(fā)射器彼此面對。

4.如權(quán)利要求3所述的波前修正設(shè)備，其中，一對聲波發(fā)射器中的第一聲波發(fā)射器配置成發(fā)射頻率與一對聲波發(fā)射器中的第二聲波發(fā)射器發(fā)射的聲波基本上相同的聲波。

5.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的波前修正設(shè)備，其中，聲波發(fā)射器配置成用駐聲波基本上填滿輻射束管道的橫截面。

6.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的波前修正設(shè)備，其中，波前修正設(shè)備還包括配置成控制由聲波發(fā)射器發(fā)射的聲波的頻率和相位的控制器。

7.如權(quán)利要求6所述的波前修正設(shè)備，其中，所述控制器配置成啟動(dòng)或關(guān)閉所選擇的聲波發(fā)射器以便在輻射束管道內(nèi)的期望位置處提供駐聲波。

8.如前述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的波前修正設(shè)備，其中，多個(gè)聲波發(fā)射器設(shè)置在基本上相同的平面內(nèi)。

9.一種光刻設(shè)備，包括：

支撐結(jié)構(gòu)，用以支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置用以在輻射束的橫截面上給輻射束提供圖案；

襯底臺，用以保持襯底；

投影系統(tǒng)，用以將圖案化的輻射束投影到襯底的目標(biāo)部分上；和

如前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的波前修正設(shè)備。

10.如權(quán)利要求9所述的光刻設(shè)備，其中，波前修正設(shè)備的聲波發(fā)射器能夠設(shè)置在投影系統(tǒng)中和/或光刻設(shè)備的照射系統(tǒng)中，照射系統(tǒng)配置成調(diào)節(jié)輻射束并且朝向支撐結(jié)構(gòu)傳送所述束。

11.如權(quán)利要求9或10所述的光刻設(shè)備，其中，聲波發(fā)射器位于光刻設(shè)備的光瞳平面內(nèi)和/或場平面內(nèi)。

12.如權(quán)利要求9至11任一項(xiàng)所述的光刻設(shè)備，其中，聲波發(fā)射器位于基本上垂直光刻設(shè)備的光學(xué)軸線的平面內(nèi)。

13.如權(quán)利要求9至12任一項(xiàng)所述的光刻設(shè)備，其中，聲波發(fā)射器配置成發(fā)射具有與通過光刻設(shè)備的源或與光刻設(shè)備相關(guān)聯(lián)的源產(chǎn)生的輻射脈沖的重復(fù)率相符的頻率的聲波或者發(fā)射頻率為通過光刻設(shè)備的源或與光刻設(shè)備相關(guān)聯(lián)的源產(chǎn)生的輻射脈沖的重復(fù)率的倍數(shù)的聲波。

14.如引用權(quán)利要求6的權(quán)利要求9所述的光刻設(shè)備，其中，控制器配置成接收輻射束的波前像差的測量值或預(yù)測值，并且確定將減小或消除輻射束的波前像差的駐聲波結(jié)構(gòu)。

15.一種器件制造方法，包括下列步驟：

使用圖案形成裝置以在輻射束的橫截面上給輻射束提供圖案；

使用投影系統(tǒng)將圖案化的輻射束投影到襯底的目標(biāo)部分上；和

使用多個(gè)聲波發(fā)射器發(fā)射聲波以建立聲波，所建立的聲波至少部分地行進(jìn)跨過圖案化的或未圖案化的輻射束在入射到襯底之前所通過的輻射束管道。