[發(fā)明專利]遮罩條

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210204475.3
• 申請(qǐng)日: 2012-06-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102703857A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-10-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃俊杰;王偉立;陳志彥;黃世雄
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 友達(dá)光電股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;C23C16/04
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 郭蔚

【技術(shù)領(lǐng)域】

本發(fā)明是有關(guān)于一種遮罩條與一種遮罩的制造方法。

【背景技術(shù)】

在現(xiàn)行圖案化制程中，常通過(guò)多條遮罩條所組成的遮罩搭配鍍膜制程來(lái)形成圖案化膜層。遮罩是金屬薄板通過(guò)蝕刻的方式制作出多條細(xì)長(zhǎng)的金屬線，其中多條金屬線之間的空隙可作為鍍膜制程時(shí)的開(kāi)口區(qū)。

由于金屬線相當(dāng)細(xì)長(zhǎng)，易扭曲變形，因此在遮罩條的兩側(cè)設(shè)置有拉伸區(qū)。在將遮罩條固定至框架上以構(gòu)成遮罩時(shí)，于拉伸區(qū)處施以預(yù)張力，使金屬線橫向繃緊。藉此，讓金屬線維持直線而使開(kāi)口區(qū)維持正確的形狀與位置，并得以對(duì)抗鍍膜時(shí)溫度所造成的膨脹量，還有抵抗遮罩與欲鍍膜的基板的重量所造成的彎曲變形。

然而，在施予預(yù)張力時(shí)，現(xiàn)行設(shè)計(jì)的拉伸區(qū)靠近施力點(diǎn)的位置在力量轉(zhuǎn)換以及受力形變方面的自由度不夠高。因此靠近拉伸區(qū)的開(kāi)口區(qū)易呈現(xiàn)波浪狀的皺褶形變，使遮罩條無(wú)法服貼于欲鍍膜的基板上，造成開(kāi)口區(qū)的位置偏移、鍍膜厚度不均以及欲鍍膜位置走位等問(wèn)題發(fā)生。另一方面，為避免增加預(yù)張力會(huì)造成皺褶形變的狀況加劇，或是造成皺褶形變的影響范圍向內(nèi)擴(kuò)張，需限制預(yù)張力的大小。然，此舉常造成預(yù)張力不足的情況發(fā)生。在預(yù)張力不足的情況下，由于遮罩條不夠穩(wěn)固，無(wú)法抵擋欲鍍膜的基板的重量以及鍍膜時(shí)所累積的膜層的重量所造成的彎曲變形，且在清洗時(shí)易松脫變形，因此常造成遮罩的使用率以及壽命大幅地降低。

【發(fā)明內(nèi)容】

本發(fā)明提供一種遮罩條，其可提供良好的鍍膜品質(zhì)且具有良好的使用率以及壽命。

本發(fā)明提供一種遮罩條，用以被固定于一框架上而構(gòu)成一遮罩，具有兩個(gè)拉伸區(qū)與一圖案區(qū)，其中遮罩條被固定于框架后，圖案區(qū)位于框架內(nèi)，拉伸區(qū)位于框架外，且各拉伸區(qū)遠(yuǎn)離圖案區(qū)的一側(cè)具有一V型切口。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，前述的各拉伸區(qū)在V型切口的端點(diǎn)與圖案區(qū)之間具有多個(gè)挖空區(qū)。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，前述的各挖空區(qū)呈長(zhǎng)條狀，且挖空區(qū)彼此平行排列。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，前述的各挖空區(qū)呈三角形。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，前述的挖空區(qū)沿著平行于圖案區(qū)與拉伸區(qū)的邊界的方向排成多列。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，前述的挖空區(qū)中位于同一列者的大小相同。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，前述的挖空區(qū)的大小隨著與圖案區(qū)的距離縮短而遞減。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，前述的各挖空區(qū)的一角指向圖案區(qū)。

本發(fā)明另提供一種遮罩條，用以被固定于一框架上而構(gòu)成一遮罩，具有兩個(gè)拉伸區(qū)與一圖案區(qū)，其中遮罩條被固定于框架后，圖案區(qū)位于框架內(nèi)，拉伸區(qū)位于框架外，各拉伸區(qū)具有多個(gè)挖空區(qū)。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，前述的各拉伸區(qū)遠(yuǎn)離圖案區(qū)的一側(cè)具有一切口。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，前述的各挖空區(qū)呈長(zhǎng)條狀，且挖空區(qū)彼此平行排列。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，前述的各挖空區(qū)呈三角形。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，前述的挖空區(qū)沿著平行于圖案區(qū)與拉伸區(qū)的邊界的方向排成多列。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，前述的挖空區(qū)中位于同一列者的大小相同。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，前述的挖空區(qū)的大小隨著與圖案區(qū)的距離縮短而遞減。

在本發(fā)明的一實(shí)施例中，前述的挖空區(qū)的一角指向圖案區(qū)。

基于上述，本提案的遮罩條可通過(guò)在拉伸區(qū)提供一V型切口及/或多個(gè)挖空區(qū)，均勻地分散預(yù)張力，使拉伸區(qū)靠近施力點(diǎn)的位置在力量轉(zhuǎn)換以及受力形變的自由度得以提升。因此，靠近拉伸區(qū)的開(kāi)口區(qū)可保持良好的平整度而得以服貼于欲鍍膜的基板上，進(jìn)而提升制程良率。

為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉實(shí)施例，并配合所附圖式作詳細(xì)說(shuō)明如下。

【附圖說(shuō)明】

圖1為本發(fā)明一實(shí)施例的遮罩條的上視示意圖。

圖2為圖1中的拉伸區(qū)的上視示意圖。

圖3為本發(fā)明另一實(shí)施例的遮罩條的上視示意圖。

【主要元件符號(hào)說(shuō)明】

100：遮罩

110、210：遮罩條

112：金屬線

114：開(kāi)口區(qū)

120：框架

A1：拉伸區(qū)

A2：圖案區(qū)

A3、A4：挖空區(qū)

F：預(yù)張力

V：V型切口

X：端點(diǎn)

U：切口

【具體實(shí)施方式】

圖1為本發(fā)明一實(shí)施例的遮罩條的上視示意圖。圖2為圖1中的拉伸區(qū)的上視示意圖。