[發(fā)明專利]異質結太陽能電池及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210203828.8 | 申請日: | 2012-06-20 |
| 公開(公告)號: | CN102738290A | 公開(公告)日: | 2012-10-17 |
| 發(fā)明(設計)人: | 鄭新和;吳淵淵;張東炎;李雪飛;陸書龍;楊輝 | 申請(專利權)人: | 中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所 |
| 主分類號: | H01L31/0735 | 分類號: | H01L31/0735;H01L31/0352;H01L31/18 |
| 代理公司: | 上海翼勝專利商標事務所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 孫佳胤;翟羽 |
| 地址: | 215125 江蘇省蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 異質結 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及太陽能電池領域,尤其涉及異質結太陽能電池及其制備方法。
背景技術
InxGa1-xN禁帶寬度在0.7eV~3.4eV(對應波長354nm~1720nm)內可調,是未來實現(xiàn)全光譜太陽電池的重要潛在材料。然而,由于高In組分InGaN的P型摻雜困難以及單結電池的效率限制,使得基于InGaN基多結和較高In組分的P-N結電池仍難以實現(xiàn)。考慮到InGaN的In組分可連續(xù)調整,基于其漸變結構的太陽能電池備受關注。
傳統(tǒng)基于InGaN有源區(qū)設計思想的太陽電池制備方法,簡要步驟如圖1,包括:步驟100,在襯底205表面依次生長緩沖層204、N型GaN層203,形成結構如圖2A;步驟101,在N型GaN層203表面生長晶格失配的有源區(qū)202,形成結構如圖2B;步驟102,隨后在有源區(qū)202表面生長頂層P型GaN層201,形成結構如圖2C;步驟103,制作電流擴展層206,淀積金屬,制作P型層電極207與N型層電極210,形成結構如圖2D。如圖1、圖2A、圖2B、圖2C和圖2D所示,按此方法,在InGaN的有源區(qū)202的生長過程中直接生長與N型和P型GaN層晶格常數(shù)差別較大的材料,由于晶格失配度高,當生長較厚有源區(qū)時因為應力釋放的原因會出現(xiàn)大量的失配位錯,如圖2C中的位錯208所示,從而降低材料的結晶質量進而影響太陽電池的性能。同時,由于有源區(qū)與N型和P型GaN層之間的材料相差較大,故接觸的勢壘較高,如傳統(tǒng)失配體系太陽電池能帶結構簡圖,即圖5A,這不利于載流子的輸運,會降低太陽電池的效率。
發(fā)明內容
本發(fā)明所要解決的技術問題是,提供異質結太陽能電池及其制備方法。
為了解決上述問題,本發(fā)明提供了一種異質結太陽能電池,包括一具有第一導電類型的第一薄膜,以及在第一薄膜表面依次設置的一有源區(qū)及一具有第二導電類型的第二薄膜,所述第一薄膜與有源區(qū)之間還包括一與第一薄膜相異質的具有第一導電類型的接觸層,第一薄膜、第二薄膜分別與有源區(qū)相異質,有源區(qū)為漸變層結構。
所述的異質結太陽能電池,進一步包括一襯底以及一電流擴展層,所述第一薄膜設置在襯底表面,所述電流擴展層設置在第二薄膜表面。
有源區(qū)的材料為InxGa1-xN,x的范圍為0至0.2,且有源區(qū)中x的按照遠離襯底方向從0.2漸變至0。
所述接觸層的材料為InGaN或InGaN。
所述第一薄膜和第二薄膜的材料均為GaN。
所述的異質結太陽能電池,進一步包括一緩沖層,置于襯底與第一薄膜之間。
為了解決上述問題,本發(fā)明還提供了一種如上述的一種異質結太陽能電池的制備方法,包括步驟:
1)在第一薄膜裸露表面生長與第一薄膜相異質且同導電類型的接觸層;
2)在接觸層裸露表面外延生長具有漸變結構的有源區(qū);
3)在有源區(qū)裸露表面生長與有源區(qū)相異質的第二薄膜層,且第一薄膜與第二薄膜的導電類型相反。
所述步驟1)之前進一步包括步驟:提供一襯底,在襯底表面生長第一薄膜;所述步驟3)之后進一步包括步驟:在第二薄膜裸露表面生長電流擴展層。
所述步驟2)中有源區(qū)的生長均采用組分線性變化生長或組分突變生長。
所述在襯底表面生長第一薄膜的步驟,進一步包括步驟:在襯底表面生長一緩沖層,后在緩沖層表面生長第一薄膜。
本發(fā)明提供異質結太陽能電池及其制備方法,優(yōu)點在于:
本發(fā)明對藍寶石襯底表面InGaN/GaN異質結的太陽電池器件制備方法做出了創(chuàng)新,能在臨界厚度范圍內獲得合理厚度的有源區(qū),避免晶格失配產(chǎn)生的材料缺陷帶來的載流子復合損失;采用N型InGaN接觸層,降低其與InxGa1-xN有源區(qū)的勢壘高度,提高載流子的輸運效率;同時還可以覆蓋更寬的太陽光譜,提高了太陽電池的光電性能和效率。
附圖說明
圖1是傳統(tǒng)異質失配體系太陽電池制備的方法流程圖;
圖2A至2D是傳統(tǒng)異質失配體系太陽電池器件制備的工藝步驟流程圖;
圖3是本發(fā)明提供的異質結太陽能電池制備方法第二具體實施例的方法流程圖;
圖4A至4E是本發(fā)明提供的異質結太陽能電池制備第二具體實施例的工藝步驟流程圖;
圖5A?是傳統(tǒng)失配體系太陽電池能帶結構簡圖;
圖5B是本發(fā)明提供的異質結太陽能電池的能帶結構簡圖。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





