[發(fā)明專(zhuān)利]磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210196739.5 | 申請(qǐng)日: | 2009-10-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102693732B | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-11-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 水野高德;鈴木陽(yáng)介 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | HOYA株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G11B5/84 | 分類(lèi)號(hào): | G11B5/84;C03C15/00 |
| 代理公司: | 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 李帆 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁盤(pán) 玻璃 制造 方法 | ||
本申請(qǐng)是申請(qǐng)日為2009年10月5日、申請(qǐng)?zhí)枮?00980139523.1、 發(fā)明名稱(chēng)為“磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法”的發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器(以下稱(chēng)為“HDD”)等磁盤(pán)裝置所用 的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法。
背景技術(shù)
近年來(lái),作為適于高記錄密度化的磁盤(pán)用基板之一,使用玻璃基板。 玻璃基板與金屬的基板相比剛性高,所以適于磁盤(pán)裝置的高速旋轉(zhuǎn)化。 另外,玻璃基板可得到平滑且平坦的表面,所以可降低磁頭的浮起量, 適于S/N比的提高和高記錄密度化。
通常,磁盤(pán)用玻璃基板通過(guò)依次實(shí)行使玻璃原料加熱熔化而預(yù)備熔 融玻璃的工序、將該熔融玻璃成形為板狀的玻璃盤(pán)的工序、對(duì)成形為板 狀的玻璃盤(pán)進(jìn)行加工、研磨而制作玻璃基板的工序來(lái)制作。
在將熔融玻璃成形為板狀的玻璃盤(pán)時(shí),采用壓制法、浮法等成形方 法。在壓制法中,從圓柱狀的玻璃母材切斷成比磁盤(pán)用基板稍厚的厚度 的玻璃盤(pán),調(diào)整玻璃盤(pán)的形狀并且加工成所要求的平坦度及板厚。在將 玻璃盤(pán)加工為所要求的平坦度及板厚的研磨工序中,使用研磨裝置將玻 璃盤(pán)研磨至目標(biāo)的板厚并且加工為目標(biāo)的平坦度。用研磨裝置的上平臺(tái) 和下平臺(tái)夾住玻璃盤(pán),使其一邊向反方向旋轉(zhuǎn)一邊用游離磨粒(漿料) 進(jìn)行加工。游離磨粒使用對(duì)應(yīng)于玻璃盤(pán)的規(guī)定的尺寸精度及形狀精度的 粒度的磨粒,在最初的研磨加工(研磨1)中使用大的粒徑(例如平均 粒徑30μm左右)的游離磨粒進(jìn)行研磨,在第二次研磨加工(研磨2: 精研磨工序)中使用小的粒徑(例如平均粒徑10μm左右)的游離磨粒 進(jìn)行研磨。
在浮法中,從利用浮法制造的板狀玻璃切出玻璃盤(pán),調(diào)整玻璃盤(pán)的 形狀并且對(duì)主表面進(jìn)行研磨加工。利用浮法制造的板狀玻璃由于從最初 開(kāi)始主表面就被鏡面化,所以平坦度及板厚比壓制玻璃優(yōu)異。因此,省 略了使用大的粒徑的游離磨粒的研磨1,進(jìn)行從最初開(kāi)始就使用小的粒 徑的游離磨粒的研磨加工(研磨2)。
作為與之相關(guān)的現(xiàn)有技術(shù),例如可舉出特開(kāi)2002-55061號(hào)公報(bào)。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專(zhuān)利文獻(xiàn)1:特開(kāi)2002-55061號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的課題
但是,在上述研磨2的研磨加工中,如果使用粒徑比游離磨粒小的 固定磨粒作為研磨墊,就可以使玻璃基板上產(chǎn)生的裂紋變淺,能夠減小 在研磨2的研磨加工結(jié)束時(shí)的表面粗糙度。例如,使用在薄片上貼上金 剛石顆粒的金剛石片作為研磨墊。因?yàn)槭褂玫慕饎偸w粒比作為游離磨 粒所使用的氧化鋁類(lèi)顆粒的粒徑小,所以可以使裂紋變淺,也可以減小 表面粗糙度。
但是,為了像利用浮法制造的板狀玻璃那樣,對(duì)表面粗糙度為Ra =0.01μm以下的鏡面玻璃盡可能不使表面粗糙度惡化地進(jìn)行研磨,直 到達(dá)到必要的平坦度,需要微細(xì)的磨粒。要使用這種微細(xì)的磨粒的研磨 墊對(duì)鏡面玻璃進(jìn)行加工時(shí),必須將加工開(kāi)始的加工速率抑制為非常低的 速度(通常加工速率的1/5~1/10以下),存在加工時(shí)間變長(zhǎng)的問(wèn)題。
需要說(shuō)明的是,上述的研磨開(kāi)始時(shí)的加工速率低的課題并不限于利 用浮法制造的鏡面板玻璃,是在使用微細(xì)磨粒的研磨墊加工鏡面板玻璃 的場(chǎng)合共同產(chǎn)生的問(wèn)題。
本發(fā)明是鑒于這樣的問(wèn)題而完成的,目的在于提供一種在用微細(xì)的 固定磨粒對(duì)鏡面板玻璃的主表面進(jìn)行加工時(shí),從加工開(kāi)始時(shí)就可實(shí)現(xiàn)高 加工速率,可以縮短加工時(shí)間的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法。
用于解決課題的手段
本發(fā)明的磁盤(pán)用玻璃基板的制造方法的一個(gè)方式,具備使用固定磨 粒將主表面為鏡面的鏡面板玻璃加工為必要的平坦度及表面粗糙度的 表面研磨工序,其特征在于,具備在使用所述固定磨粒的表面研磨工序 之前,將所述鏡面板玻璃表面通過(guò)磨砂加工進(jìn)行表面粗糙化的表面粗糙 化工序。
根據(jù)該方法,由于是通過(guò)磨砂加工用簡(jiǎn)單的方法將鏡面板玻璃表面 進(jìn)行表面粗糙化,因此能夠使用固定磨粒并以高的加工速率對(duì)板玻璃進(jìn) 行研磨加工,能夠提高生產(chǎn)率。
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