[發明專利]磁盤用玻璃基板的制造方法

有效

• 申請號: 201210196739.5
• 申請日: 2009-10-05
• 公開（公告）號: CN102693732B
• 公開（公告）日: 2015-11-18
• 發明（設計）人: 水野高德;鈴木陽介
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84;C03C15/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 李帆

1.磁盤用玻璃基板的制造方法，具備使用固定磨粒將浮法制造的 板狀玻璃加工為必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，其特征在 于，具備在使用所述固定磨粒的表面研磨工序前，將所述板狀玻璃的表 面進行表面粗糙化至所述固定磨粒發揮研磨作用的程度的表面粗糙化 工序。

2.權利要求1所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于， 所述表面粗糙化工序通過化學方法來進行。

3.權利要求2所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于， 所述表面粗糙化工序中作為所述化學方法利用化學溶液產生的腐蝕作 用。

4.權利要求3所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于， 所述利用化學溶液產生的腐蝕作用的化學方法是磨砂加工。

5.權利要求1所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于， 所述表面粗糙化工序是將表面粗糙度Ra＝0.01μm以下的所述板狀玻璃 表面粗糙化為表面粗糙度Ra＝0.01μm～0.4μm。

6.權利要求1所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于， 在所述表面研磨工序中，使用具備金剛石顆粒作為固定磨粒的墊對所述 表面粗糙化的板狀玻璃進行研磨。

7.權利要求1所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于， 在所述表面研磨工序中，加工為表面粗糙度Ra＝0.1μm以下。

8.權利要求1所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于， 所述板狀玻璃的主表面成為鏡面。

9.權利要求1所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于， 所述板狀玻璃為鋁硅酸鹽玻璃。

10.磁盤的制造方法，其特征在于，在通過權利要求1-8任一項所 述的磁盤用玻璃基板的制造方法制造的磁盤用玻璃基板的主表面上至 少形成磁性層。

11.用于制作磁盤用玻璃基板的玻璃盤的制造方法，具備使用固定 磨粒將浮法制造的板狀玻璃加工為必要的平坦度及表面粗糙度的表面 研磨工序，其特征在于，具備在使用所述固定磨粒的表面研磨工序前， 將所述板狀玻璃的表面進行表面粗糙化至所述固定磨粒發揮研磨作用 的程度的表面粗糙化工序。

12.磁盤用玻璃基板的制造方法，具備使用固定磨粒將浮法制造的 板狀玻璃加工為必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，其特征在 于，具備在使用所述固定磨粒的表面研磨工序前，將所述板狀玻璃的表 面通過利用磨砂加工的腐蝕處理進行表面粗糙化的表面粗糙化工序。

13.用于制作磁盤用玻璃基板的玻璃盤的制造方法，具備使用固定 磨粒將浮法制造的板狀玻璃加工為必要的平坦度及表面粗糙度的表面 研磨工序，其特征在于，具備在使用所述固定磨粒的表面研磨工序前， 將所述板狀玻璃的表面通過利用磨砂加工的腐蝕處理進行表面粗糙化 的表面粗糙化工序。