[發(fā)明專利]半導體用粘接膜、復合片及使用它們的半導體芯片的制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210191649.7 | 申請日: | 2008-03-31 |
| 公開(公告)號: | CN102709201A | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發(fā)明(設計)人: | 中村祐樹;北勝勉;片山陽二;畠山惠一 | 申請(專利權(quán))人: | 日立化成工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/58 | 分類號: | H01L21/58;H01L21/683;H01L21/78;H01L23/29;C09J7/00;C09J179/08;C08G73/10 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 蔣亭 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導體 用粘接膜 復合 使用 它們 芯片 制造 方法 | ||
本申請是200880009599.8(國際申請?zhí)枺篜CT/JP2008/056360)的分案申請,原申請的申請日為2008年3月31日,原申請的發(fā)明名稱為半導體用粘接膜、復合片及使用它們的半導體芯片的制造方法
技術(shù)領域
本發(fā)明涉及半導體用粘接膜、復合片以及使用了它們的半導體芯片的制造方法。
背景技術(shù)
在將半導體芯片安裝于支承部件上時,作為粘接半導體芯片和支承部件的管芯焊接(die?bonding)材料,以往主要使用銀膏(silver?paste)。但是,隨著半導體芯片的小型化·高性能化以及所使用的支承部件的小型化·精密化,在使用銀膏的方法中,存在由于膏劑的滲出、半導體芯片的傾斜引起的引線接合(wire?bonding)時的不佳狀況的產(chǎn)生之類的問題變得日益明顯。為此,近年來逐漸取代銀膏而使用粘接膜(半導體用粘接膜)。
作為使用粘接膜獲得半導體裝置的方式,有單片貼附方式及晶片背面貼附方式。
在單片貼附方式中,從卷軸狀的粘接膜中利用切割或沖孔切出單片,將該粘接膜的單片粘接在支承部件。借助粘接于支承部件上的粘接膜,將另外地利用切割工序單片化了的半導體芯片接合在支承部件。其后,根據(jù)需要經(jīng)過引線接合工序、密封工序等得到半導體裝置。但是,在單片貼附方式的情況下,由于需要用于將粘接膜以單片切出而粘接于支承部件上的專用的組裝裝置,因此與使用銀膏的方法相比,有制造成本變高的問題。
在晶片背面貼附方式中,首先,在半導體晶片的背面依次貼附粘接膜及切割膠帶。此后,將半導體晶片切割而分割為多個半導體芯片,并且將粘接膜隨著各個半導體芯片切斷。其后,將半導體芯片與層疊于其背面的粘接膜一起撿取(pick-up),借助粘接膜將半導體芯片接合在支承部件。其后,再經(jīng)過加熱、固化、引線接合等工序而得到半導體裝置。在晶片背面貼附方式的情況下,不需要用于將粘接膜單片化的組裝裝置,可以直接使用現(xiàn)有的銀膏用組裝裝置,或者通過附加熱盤等將裝置的一部分改良而使用。由此,在使用了粘接膜的方法當中,作為能夠?qū)⒅圃斐杀究刂频帽容^低的方法而備受關(guān)注。
另一方面,近年來,作為將半導體晶片切割的方法,提出過如下的隱形切割(stealth?dicing)方法:通過對半導體晶片照射激光而在半導體晶片內(nèi)部選擇性地形成改質(zhì)部,并沿著改質(zhì)部將半導體晶片切斷(專利文獻1、2)。該方法中,例如,通過拉伸切割膠帶而對半導體晶片施加應力,從而沿著改質(zhì)部將半導體晶片分割為多個半導體芯片。
專利文獻1:日本特開2002-192370號公報
專利文獻2:日本特開2003-338467號公報
在上述晶片背面貼附方式的情況下,在半導體晶片的切割之時需要將粘接膜也同時地切斷。但是,如果利用使用了金剛石刀片的普通的切割方法將半導體晶片及粘接膜同時地切斷,就會有在切斷后的半導體芯片側(cè)面中產(chǎn)生裂紋(芯片裂紋)、或在切斷面中粘接膜形成毛口而產(chǎn)生很多毛刺(burr)的問題。如果存在該芯片裂紋或毛刺,則在撿取半導體芯片之時半導體芯片變得容易斷裂,導致產(chǎn)品合格率降低。
所以,為了抑制芯片裂紋或毛刺的產(chǎn)生,本發(fā)明人等對如下的方法進行了研究,該方法包括:準備疊層體的工序,將半導體晶片、半導體用粘接膜及切割膠帶依次層疊,按照將半導體晶片分割為多個半導體芯片并且將半導體用粘接膜的厚度方向的至少一部分不切斷而殘留的方式,從半導體晶片側(cè)形成切槽;通過將切割膠帶沿著使多個半導體芯片相互分離的方向拉伸,而將半導體用粘接膜沿著切槽分割的工序。
然而,在使用以往的半導體用粘接膜并利用上述方法進行切割時,明顯會有難以將半導體用粘接膜沿著切槽完全地斷開的問題。
另外,期待通過上述隱形切割在某種程度上抑制伴隨著切割而產(chǎn)生的芯片裂紋或毛刺。但是,在采用通過激光加工在半導體晶片形成改質(zhì)部后拉伸切割膠帶來切割半導體晶片的方法的情況下,僅利用切割膠帶的拉伸很難將半導體用粘接膜完全地斷開,顯而易見,由此可知得到高合格率的半導體芯片實際上是困難的。
此外,在使用形成了切槽的疊層體的方法或利用隱形切割的方法中,雖然通過在粘接膜中含有大量的填充劑,粘接膜容易斷裂,可以在一定程度上抑制毛刺的產(chǎn)生,然而該情況下會有難以在低溫下將粘接膜貼附在半導體晶片的問題。為了實現(xiàn)對由半導體晶片的翹曲或各部件的熱過程引起的損傷的抑制等,最好能夠?qū)⒄辰幽ぴ诒M可能低的溫度下貼附在半導體晶片。
發(fā)明內(nèi)容
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





