[發(fā)明專利]制備單斜相Ga2S3晶體的方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210190280.8 | 申請(qǐng)日: | 2012-06-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102701269A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張明建;郭國(guó)聰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所 |
| 主分類號(hào): | C01G15/00 | 分類號(hào): | C01G15/00 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 350002 *** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制備 單斜 ga2s3 晶體 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及單斜相Ga2S3晶體作為紅外波段二階非線性光學(xué)材料的應(yīng)用及其制備方法,屬于材料科學(xué)領(lǐng)域和光學(xué)領(lǐng)域。?
背景技術(shù)
目前非線性晶體材料由于激光技術(shù)的應(yīng)用越來(lái)越引起大家的重視,尤其是深紫外和中遠(yuǎn)紅外波段的二階非線性晶體材料由于種類較少,還無(wú)法滿足應(yīng)用的需求,而成為各國(guó)科學(xué)家研究的熱點(diǎn)。硫?qū)倩衔矬w系正在成為中遠(yuǎn)紅外二階非線性晶體研究的方向,其中諸如AgGaS2?(AGS)、AgGaSe2?(AGSe)、BaGa4S7?(BGS)等已獲得產(chǎn)業(yè)化和商品化。這些硫?qū)倩衔锒酁槿叭陨匣衔铮驅(qū)倩衔锏亩A非線性性質(zhì)研究較少。二元硫?qū)倩衔锵鄬?duì)于這些三元及其以上化合物,往往具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、合成方便、物化性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。?
Ga2S3有三種晶相:?jiǎn)涡毕啵–c)、六方相(P63mc)和立方相(F-43m),都結(jié)晶于非心空間群,意味著Ga2S3可能具有二階非線性光學(xué)效應(yīng)。1961年,Goodyear等人在Acta?Cryst.中首次報(bào)道了Ga2S3的單斜相結(jié)構(gòu)(Cc)。通過(guò)文獻(xiàn)調(diào)研,至今沒(méi)有關(guān)于Ga2S3作為紅外二階非線性光學(xué)材料應(yīng)用的報(bào)道。?
Ga2S3的已知制備方法有兩種,都是采用Ga和S單質(zhì)作為起始反應(yīng)物:(1)將Ga和S以合適比例混合,抽真空封入石英管中,在450℃保溫5天,再以50℃/12h的速率加熱到1100℃,自然降溫得到Ga2S3的多晶粉末;(2)等量Ga、S在抽真空條件下分別置于密封石英管的兩個(gè)石英舟中,含Ga的石英舟加熱到1150℃,含S的石英舟加熱到450-500℃,一天后,在含Ga的石英舟一端形成?Ga2S3的多晶粉末。這兩種方法得到的都是單斜相的Ga2S3。本發(fā)明以Ga2O3、S粉、B粉為原料,采用高溫固相硼硫化的方法來(lái)合成單斜相的Ga2S3,不僅降低了合成溫度(950℃),避免了傳統(tǒng)操作的繁瑣步驟,而且以價(jià)格低廉的Ga2O3代替金屬Ga,縮減了成本。?
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種單斜相Ga2S3晶體材料在紅外波段具有潛在的二階非線性光學(xué)應(yīng)用及其制備方法,該方法合成簡(jiǎn)單,易操作、原料來(lái)源充足、化合物合成的產(chǎn)率極高,純度也高且重復(fù)性好,適合大規(guī)模生產(chǎn)的要求。?
本發(fā)明是這樣來(lái)實(shí)現(xiàn)的,其特征是目標(biāo)化合物為具有三維網(wǎng)絡(luò)框架結(jié)構(gòu)的金屬硫?qū)倩衔铮浠瘜W(xué)式為Ga2S3,單斜晶系,空間群為Cc,單胞參數(shù)為
一種具有潛在中遠(yuǎn)紅外波段二階非線性光學(xué)應(yīng)用的單斜相Ga2S3的制備方法為:將Ga2O3、B和S按照1:2:3的摩爾比例進(jìn)行混合研磨,壓片裝入真空石英管加熱,以30~40℃/h的速率升溫至850?-?980℃,恒溫72?-?144小時(shí),再以2~6℃/h的速率降溫至250?℃,最后關(guān)掉電源,取出石英管,用熱水洗掉副產(chǎn)物B2O3,可得到單斜相Ga2S3淺黃色微晶,產(chǎn)率為90%以上。?
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所,未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院福建物質(zhì)結(jié)構(gòu)研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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