[發(fā)明專利]三維集成電路的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210189854.X | 申請(qǐng)日: | 2012-06-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103021960A | 公開(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林俊成;吳文進(jìn);施應(yīng)慶;洪瑞斌;盧思維;鄭心圃;余振華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/98 | 分類號(hào): | H01L21/98 |
| 代理公司: | 北京德恒律治知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;孫征 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 三維集成電路 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明一般地涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域,更具體地來說,涉及一種三維集成電路的制造方法。
背景技術(shù)
半導(dǎo)體行業(yè)由于各種電子元件(例如,晶體管、二極管、電阻器、電容器等)集成密度的改進(jìn)而經(jīng)歷了快速增長(zhǎng)。在極大程度上,這種集成密的改進(jìn)源于半導(dǎo)體工藝節(jié)點(diǎn)的縮小(例如,朝向低于20nm的節(jié)點(diǎn)縮小工藝節(jié)點(diǎn))。由于近來對(duì)微型化、更高的速度和更大的帶寬、以及更低的功耗和延遲的需求增加,所以增加了對(duì)更小和更有創(chuàng)造性的半導(dǎo)體管芯封裝技術(shù)的需求。
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,作為有效選擇,已經(jīng)出現(xiàn)了基于多芯片晶圓級(jí)封裝的半導(dǎo)體器件,從而進(jìn)一步減小了半導(dǎo)體芯片的實(shí)際尺寸。在基于晶圓級(jí)封裝的半導(dǎo)體器件中,在不同的晶圓上制造有源電路,例如,邏輯電路、存儲(chǔ)器電路、處理器電路等,采用拾取與放置技術(shù),將每個(gè)晶圓管芯堆疊在另一個(gè)晶圓管芯的頂部上??梢酝ㄟ^采用多芯片半導(dǎo)體器件實(shí)現(xiàn)更高的密度。此外,多管芯半導(dǎo)體器件可以實(shí)現(xiàn)更小的外形尺寸、成本效益、提高的性能和更低的功耗。
三維(3D)集成電路(IC)可以包括頂部有源電路層、底部有源電路層和多個(gè)中間層。在3D?IC中,兩個(gè)管芯可以通過多個(gè)微凸塊接合在一起,并且通過多個(gè)襯底通孔彼此電連接。微凸塊和襯底通孔提供了在3D?IC的垂直軸上的電氣互連。結(jié)果,兩個(gè)半導(dǎo)體管芯之間的信號(hào)路徑短于傳統(tǒng)的3D?IC,在該傳統(tǒng)的3D?IC中,采用諸如基于引線接合的芯片堆疊封裝的互連技術(shù)將不同的管芯接合在一起。3D?IC可以包括各種堆疊在一起的半導(dǎo)體管芯。在晶圓切割以前,封裝多個(gè)半導(dǎo)體管芯。晶圓級(jí)封裝技術(shù)具有一些的優(yōu)點(diǎn)。晶圓級(jí)封裝多個(gè)半導(dǎo)體管芯的一個(gè)有利特征是多芯片晶圓級(jí)封裝技術(shù)可以降低制造成本。基于晶圓級(jí)封裝的多芯片半導(dǎo)體器件的另一個(gè)有利特征是通過采用微凸塊和襯底通孔降低寄生損失(parasitic?loss)。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決現(xiàn)有技術(shù)中所存在的技術(shù)問題,根據(jù)本發(fā)明的一方面,提供了一種方法,包括:提供疊層,其中,將多個(gè)半導(dǎo)體管芯安裝在晶圓的第一面上方;模塑料層形成在所述晶圓的所述第一面上方,其中,所述多個(gè)半導(dǎo)體管芯內(nèi)嵌在所述模塑料層中;薄化所述晶圓的第二面直到暴露多個(gè)通孔;將疊層附接至帶框;以及切割所述疊層,從而將所述疊層分成多個(gè)獨(dú)立封裝件。
該方法進(jìn)一步包括:將第一底部填充層形成在所述晶圓和所述多個(gè)半導(dǎo)體管芯之間。
該方法進(jìn)一步包括:將所述多個(gè)通孔形成在所述晶圓中;將多個(gè)第一凸塊形成在所述晶圓的所述第一面上方;以及將第一再分布層形成在所述晶圓的所述第一面上方。
在該方法中,所述多個(gè)半導(dǎo)體管芯通過所述多個(gè)第一凸塊和所述第一再分布層連接至所述晶圓。
該方法進(jìn)一步包括:將多個(gè)第二凸塊形成在所述晶圓的所述第二面上方;以及將第二再分布層形成在所述晶圓的所述第二面上方。
該方法進(jìn)一步包括:將所述帶框與每個(gè)獨(dú)立封裝件分離。
該方法進(jìn)一步包括:將所述獨(dú)立封裝件附接至所述襯底上。
該方法進(jìn)一步包括:將保護(hù)層形成在所述模塑料層的外邊緣和所述疊層的外邊緣之間。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面,提供了一種方法,包括:提供疊層,其中,將多個(gè)半導(dǎo)體管芯安裝在晶圓的第一面上方,其中,所述晶圓包括多個(gè)通孔;將模塑料層形成在所述晶圓的所述第一面上方,其中,將所述多個(gè)半導(dǎo)體管芯內(nèi)嵌在所述第一模塑料層中;擴(kuò)展所述模塑料層,以覆蓋所述晶圓的外邊緣;薄化所述晶圓的第二面,從而暴露所述多個(gè)通孔;將所述疊層附接至帶框;以及切割所述疊層,從而將所述疊層分成多個(gè)獨(dú)立封裝件。
該方法進(jìn)一步包括:將所述帶框與每個(gè)獨(dú)立封裝件分離,以及將獨(dú)立封裝件附接至襯底。
該方法進(jìn)一步包括:將第一底部填充層形成在所述晶圓和所述多個(gè)半導(dǎo)體管芯之間;以及將第二底部填充層形成在所述獨(dú)立封裝件和所述襯底之間。
該方法進(jìn)一步包括:清洗所述獨(dú)立封裝件的表面;以及清洗所述晶圓的所述外邊緣。
該方法進(jìn)一步包括:化學(xué)拋光所述晶圓的所述第二面;將第二再分布層形成在所述晶圓的所述第二面上方;以及將多個(gè)凸塊形成在所述晶圓的所述第二面上方。
該方法進(jìn)一步包括:將第一再分布層形成在所述晶圓的所述第一面上方;以及將電連接至所述第一再分布層的多個(gè)凸塊形成在所述晶圓的所述第一面上方。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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