[發明專利]制造磁記錄介質用玻璃基板的方法和磁記錄介質用玻璃基板

無效

• 申請號: 201210189550.3
• 申請日: 2012-06-08
• 公開（公告）號: CN102820041A
• 公開（公告）日: 2012-12-12
• 發明（設計）人: 志田德仁;中島哲也;田村昌彥
• 申請（專利權）人: 旭硝子株式會社
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84;G11B5/62;C03C3/083;C03C3/085;C03C3/087;C03C3/091;C03C15/00
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 楊海榮;穆德駿

技術領域

本發明涉及制造磁記錄介質用玻璃基板的方法和磁記錄介質用玻璃基板。

背景技術

近年來，在磁記錄介質、特別是磁盤裝置方面，正在推進記錄密度的快速增加。在磁盤裝置方面，已經通過使磁頭在高速旋轉的記錄介質稍上方處飛行、然后進行掃描而實現了隨機存取。為了實現記錄密度的增加和高速存取兩者，要求減小磁盤與磁頭之間的距離并增加磁盤的旋轉數。雖然在鋁(Al)上鍍有鎳磷(Ni-P)的基板通常是用于磁盤的主流基材，但是已經開始使用硬度高、即使在高速旋轉下也難以變形、并且表面平滑性高的玻璃基板。

為了改善高速旋轉時的振動特性和強度，考慮到諸如楊氏模量、比模量、密度、熱膨脹系數、難以產生劃痕性和斷裂韌性的各種性能，使用具有合適的玻璃組成的玻璃基板。為了實現上述性能，已知SiO₂-Al₂O₃鋁硅酸鹽玻璃是合適的。特別地，Al₂O₃是用于形成玻璃骨架(network)的成分，并且是用于改善諸如楊氏模量、比模量和斷裂韌性的機械性能的有效必要成分。

隨著如上所述的磁盤裝置的記錄密度的增加，磁記錄介質用玻璃基板所需的特性逐年變得更加嚴格。為了實現記錄密度的增加，已經進行研究用以降低磁頭的上浮高度，并且為了有效利用玻璃基板的主表面的面積而使磁頭可以通過直到玻璃基板的端部。

在降低磁頭的上浮高度的情況下，當磁盤的主表面不是平滑的表面時，存在磁頭可能與其接觸而產生故障的擔憂。此外，當磁盤主表面的表面粗糙度大并且與磁頭的距離發生波動時，存在讀/寫可靠性可能降低的問題。

在磁記錄介質用玻璃基板的制造中，為了將玻璃基板的主表面精加工成為平滑的鏡面，已經進行了使用拋光液和拋光墊的拋光。特別地，在含有鋁硅酸鹽玻璃的基板的主表面的拋光中，提出了使用含有膠態二氧化硅粒子(膠態二氧化硅)作為磨料的酸性(pH?1至3)拋光液(參見，例如，專利文獻1和2)的方法。

然而，在使用pH為1至3的強酸性拋光液進行拋光的上述方法中，作為鋁硅酸鹽玻璃基板的表層中諸如Al₂O₃、堿金屬氧化物和堿土金屬氧化物的成分因酸而離子化從而導致浸出的結果，表面粗糙度增加，使得不能通過拋光獲得面內均勻且平滑性高的主表面。

現有技術文獻

[專利文獻1]日本特開2007-257810號公報

[專利文獻2]日本特開2011-704號公報

發明內容

發明要解決的問題

本發明旨在解決上述問題，本發明的目的是提供用于獲得表面粗糙度和面內均勻性優異的磁記錄介質用玻璃基板的制造方法，所述玻璃基板通過將含有諸如楊氏模量、比模量和斷裂韌性的機械性能優異的鋁硅酸鹽玻璃的玻璃基板的主表面拋光而獲得。

解決問題的手段

本發明的制造磁記錄介質用玻璃基板的方法包括：將玻璃板加工成為具有圓盤形狀且在中心部具有圓孔的玻璃基板的成形步驟；將玻璃基板的主表面拋光的拋光步驟；和清洗玻璃基板的清洗步驟，

其中所述玻璃基板是含有楊氏模量為68GPa以上且比模量為27MNm/kg以上的鋁硅酸鹽玻璃的基板；并且

所述拋光步驟包括使用拋光液和拋光墊將玻璃基板的主表面拋光的精拋光步驟，所述拋光液含有初級粒子的平均粒徑為1至80nm的二氧化硅粒子且pH為3.5至5.5，并且導電率為7mS/cm以下。

在本發明的制造磁記錄介質用玻璃基板的方法中，所述拋光液優選含有溶解的有機酸和溶解的無機堿。此外，所述有機酸優選是具有兩個以上羧酸基團的多價羧酸。此外，所述多價羧酸優選為選自檸檬酸、琥珀酸、蘋果酸、酒石酸、富馬酸、馬來酸和鄰苯二甲酸中的一種以上。此外，所述無機堿優選氫氧化鈉和/或氫氧化鉀。