[發(fā)明專利]半導(dǎo)體集成電路有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210189534.4 | 申請(qǐng)日: | 2012-06-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102832925A | 公開(公告)日: | 2012-12-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 大西章申;日隈裕洋;小林和幸;村瀨謙悟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 半導(dǎo)體元件工業(yè)有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | H03K19/094 | 分類號(hào): | H03K19/094 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 樊建中 |
| 地址: | 美國(guó)亞*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 集成電路 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體集成電路,特別涉及降低了噪聲水平的半導(dǎo)體集成電路。
背景技術(shù)
隨著半導(dǎo)體工藝的微細(xì)化,數(shù)字電路能夠?qū)崿F(xiàn)高速化、高集成化。因此,能夠?qū)崿F(xiàn)芯片尺寸的縮小、或者因集成度提高引起的功能單價(jià)的降低、成本下降,并且能夠?qū)崿F(xiàn)大規(guī)模系統(tǒng)的單芯片化。但是,盡管在微細(xì)化方面有所發(fā)展,但為了保持信號(hào)品質(zhì),模擬電路需要使用具有某種程度的柵極寬度、柵極長(zhǎng)度的晶體管來構(gòu)成電路。
此外,由于伴隨著微細(xì)化的電源電壓的下降,模擬電路有動(dòng)態(tài)范圍下降、電路拓?fù)涞倪x項(xiàng)受限的趨勢(shì)。盡管如此,對(duì)于開發(fā)模擬-數(shù)字混載的LSI來說,模擬電路的高性能化是必須的。
圖8是作為模擬電路的一例的運(yùn)算放大器的電路圖。該運(yùn)算放大器是P溝道型MOS晶體管輸入型,構(gòu)成單端輸出的結(jié)構(gòu)。P溝道型MOS晶體管M61、M62、M65、N溝道型MOS晶體管M63、M64構(gòu)成第1級(jí)差動(dòng)放大電路11。M61、M62是差動(dòng)輸入晶體管,對(duì)各自的柵極施加差動(dòng)輸入電壓VINN、VINP。由P溝道型MOS晶體管M66、N溝道型MOS晶體管M67構(gòu)成第2級(jí)放大電路12,從它們的連接節(jié)點(diǎn)得到輸出電壓VOUT。
此外,為了防止運(yùn)算放大器振蕩,在第1級(jí)差動(dòng)放大電路11和第2級(jí)放大電路12之間串聯(lián)連接了相位補(bǔ)償電路3,該相位補(bǔ)償電路3由串聯(lián)連接的消零用電阻RZ及相位補(bǔ)償用電容器CC構(gòu)成。
偏壓電路4由P溝道型MOS晶體管M51、M53、M55、M57、N溝道型MOS晶體管M52、M54、M56、M58、及電阻RB1構(gòu)成。當(dāng)對(duì)N溝道型MOS晶體管M52的柵極施加的掉電信號(hào)PWDB為H電平時(shí),N溝道型MOS晶體管M52導(dǎo)通,偏壓電路4工作。并且,經(jīng)由P溝道型MOS晶體管M57,向作為第1級(jí)差動(dòng)放大電路11的電流源晶體管的P溝道型MOS晶體管M65的柵極、和作為第2級(jí)放大電路12的負(fù)載晶體管的P溝道型MOS晶體管M66的柵極,提供運(yùn)算放大器工作所需的偏壓。專利文獻(xiàn)1中記載了這種運(yùn)算放大器。
隨著供給至該運(yùn)算放大器的電源電壓VDDH下降,由運(yùn)算放大器能夠處理的信號(hào)電平(例如,差動(dòng)輸入電壓VINN、VINP的電平)下降。當(dāng)信號(hào)電平下降時(shí),會(huì)引起模擬電路的主要特性、即SNR(Signal?To?Noise?Ratio:信噪比)的下降。為了即使信號(hào)電平下降時(shí)也使運(yùn)算放大器實(shí)現(xiàn)高性能化,需要降低運(yùn)算放大器自身的噪聲水平。
圖9是表示MOS晶體管的噪聲特性的圖。MOS晶體管的噪聲是分布于低頻的閃爍噪聲、和分布在整個(gè)寬頻帶的熱噪聲。該閃爍噪聲和熱噪聲大致決定了由MOS晶體管構(gòu)成的電路整體的噪聲,通過降低這些噪聲,能夠提高SNR。
首先,說明MOS晶體管的噪聲源之一的閃爍噪聲。
單位帶寬的閃爍噪聲功率Vnf2由以下的式(1)給出。
Vnf2=K/(Cox×W×L)×(1/f)…(1)
在此,K是依賴于制造工序的常數(shù),Cox是每單位面積的柵極氧化膜電容,W是MOS晶體管的柵極寬度,L是MOS晶體管的柵極長(zhǎng)度,f是MOS晶體管的頻率(工作頻率)。
閃爍噪聲具有在低頻處噪聲變大、隨著頻率變高其噪聲變小的特征。特別地,在處理聲音信號(hào)、聲響信號(hào)的頻帶中多數(shù)情況下閃爍噪聲成為主要噪聲,需要降低噪聲水平。此外,由于閃爍噪聲與MOS晶體管的柵極寬度及柵極長(zhǎng)度成反比,因此通過增加?xùn)艠O面積可降低噪聲。
接下來,說明作為MOS晶體管的噪聲源之一的熱噪聲。作為輸入換算噪聲,由以下的式(2)給出施加于柵極的輸入信號(hào)進(jìn)行放大時(shí)(大部分是該形式)的單位帶寬的熱噪聲Vnin2。
Vnin2=(8×k×T)/(3×gm)…(2)
在此,k為玻耳茲曼常數(shù),T為絕對(duì)溫度,gm為MOS晶體管的變壓器電導(dǎo)。此外,由以下的式(3)給出MOS晶體管的變壓器電導(dǎo)gm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于半導(dǎo)體元件工業(yè)有限責(zé)任公司,未經(jīng)半導(dǎo)體元件工業(yè)有限責(zé)任公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210189534.4/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





