[發明專利]一種薄樣掠射X射線熒光光譜分析方法無效
| 申請號： | 201210188834.0 | 申請日： | 2012-06-09 |
| 公開（公告）號： | CN102680506A | 公開（公告）日： | 2012-09-19 |
| 發明（設計）人： | 董寧;戴煦;陳君;李波;劉攀超 | 申請（專利權）人： | 深圳市華測檢測技術股份有限公司 |
| 主分類號： | G01N23/223 | 分類號： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518057 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 薄樣掠射 射線 熒光 光譜分析 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種薄樣掠射X射線熒光（XRF）光譜分析方法，其特征在于，包括如下步驟：
（1）制作厚度小于100nm的薄樣或多層薄樣，放置于XRF分析儀的樣品載體上；
（2）確定掠射角α，α根據樣品厚度、樣品材料折射率和樣品載體材料折射率計算得出；
（3）調節光路，將X射線整形為條狀單色光，并以掠射角α照射到樣品上；
（4）接收樣品發出的X熒光，進行分析。
2.如權利要求1所述的XRF光譜分析方法，其特征在于，所述步驟（2）中的掠射角α選擇大于樣品全反射臨界角，小于樣品載體全反射臨界角的角度。
3.如權利要求1所述的XRF光譜分析方法，其特征在于，所述步驟（2）中的掠射角α選擇產生相消干涉的角度。
4.如權利要求1所述的XRF光譜分析方法，其特征在于，所述步驟（3）采用自反饋方式調節光路。
5.如權利要求4所述的XRF光譜分析方法，其特征在于，所述步驟（3）通過檢測反射光的強度變化來調節光路。
6.如權利要求4所述的XRF光譜分析方法，其特征在于，所述步驟（3）通過檢測熒光的強度變化來調節光路。
7.如權利要求1所述的XRF光譜分析方法，其特征在于，所述步驟（3）中，先調節反射體和準直系統，再調節X光管，X光管的調節先垂直移動，然后水平傾斜；最后調節樣品載體的傾斜角度。
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