[發明專利]工業排水的處理方法和處理裝置

有效

• 申請號: 201210183950.3
• 申請日: 2012-06-05
• 公開（公告）號: CN102815774A
• 公開（公告）日: 2012-12-12
• 發明（設計）人: 田口和之;中田榮壽
• 申請（專利權）人: 富士電機株式會社
• 主分類號: C02F1/52
• 分類號: C02F1/52;C02F1/58;C02F101/16
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種工業排水的處理方法，對工業排水中所包含的處理對象成分用處理藥劑處理后進行排水，其特征在于，包括：

測量所述工業排水中的所述處理對象成分的濃度的工序；

取得對所述處理對象成分濃度的測量結果帶來影響的共存成分的濃度數據的工序；

求得修正濃度的工序，所述修正濃度是基于所述共存成分的濃度對所述處理對象成分的測量濃度進行修正后的濃度；

取得所述工業排水的流量和排水時間的數據的工序；

基于所述處理對象成分的修正濃度和所述工業排水的流量及排水時間，計算出所述處理藥劑的添加量的工序；和

按所述計算出的添加量添加所述處理藥劑的工序。

2.如權利要求1所述的工業排水的處理方法，其特征在于：

取得所述共存成分的濃度數據的工序，是通過取得作為所述工業排水之源的水溶液的配合數據和/或所述共存成分的測量數據而完成的，取得所述工業排水的流量和排水時間的數據的工序，是通過取得產生所述工業排水的生產工序的工藝數據而完成的。

3.如權利要求1或2所述的工業排水的處理方法，其特征在于：

求得所述修正濃度的工序是如下完成的，即，對每個共存成分預先求得修正率，對各共存成分的濃度乘以各自的修正率而計算出由該共存成分引起的誤差量，計算出由各共存成分引起的誤差量的總量，并根據該總量來修正所述測量濃度。

4.如權利要求1～3中任一項所述的工業排水的處理方法，其特征在于：

所述處理對象成分為氟離子，所述處理藥劑為鈣鹽。

5.一種工業排水的處理裝置，對工業排水中所包含的處理對象成分用處理藥劑處理后進行排水，其特征在于，包括：

處理對象成分濃度測量裝置，其測量所述工業排水中的所述處理對象成分的濃度；

取得對所述處理對象成分濃度的測量結果帶來影響的共存成分的濃度數據的共存成分濃度數據取得機構；

取得所述工業排水的流量和排水時間的數據的取得機構；

向所述工業排水添加所述處理藥劑的處理藥劑添加機構；

運算裝置，其基于所述共存成分的濃度修正所述處理對象成分的測量濃度，并且基于該修正后的濃度和所述工業排水的流量及排水時間，計算出所述處理藥劑的添加量；和

控制裝置，其接受來自該運算裝置的信號，按所述計算出的添加量添加所述處理藥劑。

6.如權利要求5所述的工業排水的處理裝置，其特征在于：

所述共存成分濃度數據取得機構，由作為所述工業排水之源的水溶液的配合數據庫和/或所述共存成分的測量裝置構成，取得所述工業排水的流量和排水時間的數據的取得機構，由產生所述工業排水的生產工序的工藝數據庫構成。

7.如權利要求5或6所述的工業排水的處理裝置，其特征在于：

還具有對每個所述共存成分預先求得修正率的修正數據庫，所述運算裝置，對各共存成分的濃度乘以從所述修正數據庫獲得的各自的修正率，計算出由該共存成分引起的誤差量，且計算出由各共存成分引起的誤差量的總量，并根據該總量來修正所述處理對象成分的測量濃度，由此獲得所述修正后的濃度。

8.如權利要求5~7中任一項所述的工業排水的處理裝置，其特征在于：

所述工業排水是在半導體制造工序的蝕刻處理中產生的、含有氟離子的排水，所述處理藥劑為鈣鹽，所述處理對象成分濃度測量裝置是使用了選擇性地透過氟離子的氟化鑭的離子電極方式的簡易型氟化物離子濃度計。