[發明專利]一種廣視角液晶顯示器件及其制作工藝

無效

• 申請號: 201210183851.5
• 申請日: 2012-06-05
• 公開（公告）號: CN102692751A
• 公開（公告）日: 2012-09-26
• 發明（設計）人: 譚曉彬;于春崎;胡君文;謝凡;何基強;李建華
• 申請（專利權）人: 信利半導體有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333;G02F1/1339
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 曹志霞

技術領域

本發明涉及液晶顯示器件，尤其涉及一種廣視角液晶顯示器件及其制作工藝，可以有效地降低液晶顯示器件出現殘影的風險。

背景技術

目前，液晶顯示器(Liquid?Crystal?Display，LCD)，為平面超薄的顯示設備，它由一定數量的彩色或黑白像素組成，放置于光源或者反射面前方，其主要原理是以電流刺激液晶分子產生點、線、面配合背部燈管構成畫面。廣視角液晶顯示器(如薄膜晶體管顯示器，Thin?film?transistor?liquid?crystal?display，簡稱TFT-LCD)即從多角度都能清晰地看到顯示圖像，這種廣視角液晶顯示器產品市場需求廣闊，已成為掌上電腦、智能手機等電子產品的主流配件。目前，客戶對廣視角液晶顯示器產品的性價比要求越來越高，市場競爭也越來越激烈，因而性價比更有優勢的產品必將受到市場的歡迎，而對于生產廠家來說，高良品率、高性能、低成本無疑會提高產品競爭力和核心競爭力。

在使用液晶顯示器的時候，可能會發現畫面切換之時，前一個畫面不會立刻消失，而是慢慢不見的現象，稱這種現象叫做液晶顯示器“殘影”現象。液晶顯示器件的高低溫(常溫)殘影現象，特別是高溫殘影現象，一直是困擾LCD制造行業的難點問題。因為，盒內離子滲透到液晶內，在長時間通電后，離子會在盒內形成一個附加的弱電場；所以，在切換到灰階畫面后，該弱電場會對液晶分子施加作用，從而導致目視時可見前一個固定點亮時的畫面，即殘影現象。殘影的出現，導致視覺效果變差，較大地影響了產品的性能。

發明內容

有鑒于此，本發明的目的在于提供一種廣視角液晶顯示器件及其制作工藝，可以降低殘影發生的風險。

為解決以上技術問題，本發明提供的技術方案是，一種廣視角液晶顯示器件，包括上基板和下基板，所述上基板和所述下基板之間封裝有液晶，所述上基板與液晶的接觸面之間和/或所述下基板與液晶的接觸面之間設置有一離子阻擋層。

較優地，所述離子阻擋層為OC材料離子阻擋層，所述OC材料離子阻擋層厚度為1.0um-3.0um。

較優地，所述離子阻擋層為PI材料離子阻擋層，所述PI材料離子阻擋層厚度為500A-1500A，并覆蓋基板與液晶的接觸面。

較優地，所述離子阻擋層為SiO₂材料離子阻擋層，所述SiO2材料離子阻擋層厚度為500A-1500A，并覆蓋基板與液晶的接觸面。

在此基礎上，本發明相應提供一種廣視角液晶顯示器件制作工藝，在其廣視角TFT-LCD制作工藝中，在投入液晶盒單元之前，在下基板與液晶的接觸面和/或上基板與液晶的接觸面之間制作一離子阻擋層。

較優地，采用OC材料制作離子阻擋層，其厚度為1.0um-3.0um。

較優地，采用OC材料制作離子阻擋層的具體步驟為：通過旋涂或線涂OC，然后依次進行光刻膠的涂膠、顯影、刻蝕和剝離，再在單個面板的對應位置形成OC圖案。

較優地，采用PI材料制作離子阻擋層，其厚度為500A-1500A，并覆蓋基板與液晶的接觸面。

較優地，采用PI材料制作離子阻擋層的具體步驟為：通過移印方式涂布PI，然后進行預固化和主固化，再在單個面板的對應位置形成PI。

較優地，采用SiO₂材料制作離子阻擋層，其厚度為500A-1500A，并覆蓋基板與液晶的接觸面。

較優地，采用SiO₂材料制作離子阻擋層的具體步驟為：通過移印方式涂布SiO₂，然后進行預固化和主固化，再在單個面板的對應位置形成SiO₂圖案

與現有技術相比，本發明在基板與液晶之間增加了一層離子阻擋層，可以減少盒內離子滲透入液晶中，從而減少液晶中離子的數量，由此大大降低LCD出現殘影的風險，提高了產品的性能，具有較好的市場前景。

附圖說明

圖1是本發明廣視角液晶顯示器件較優實施例的結構示意圖；

圖2是本發明廣視角液晶顯示器件制作工藝較優實施例的流程圖。

圖1～圖2中，有關附圖標記如下：

1、偏光片；2、ITO層；3、玻璃基板；4、RGB層；5、O/C層；6、PI層；7、BM層；8、離子阻擋層；9、支撐物；10、液晶；11、環氧框；12、離子阻擋層；13、PI層；14、驅動IC；15；玻璃基板；16、偏光片。

具體實施方式