[發(fā)明專利]一種廣視角液晶顯示器件及其制作工藝無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210183851.5 | 申請(qǐng)日: | 2012-06-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102692751A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-09-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 譚曉彬;于春崎;胡君文;謝凡;何基強(qiáng);李建華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 信利半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1333 | 分類號(hào): | G02F1/1333;G02F1/1339 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 曹志霞 |
| 地址: | 516600 廣東省*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 視角 液晶顯示 器件 及其 制作 工藝 | ||
1.一種廣視角液晶顯示器件,包括上基板和下基板,所述上基板和所述下基板之間封裝有液晶,其特征在于,所述上基板與液晶的接觸面之間和/或所述下基板與液晶的接觸面之間設(shè)置有一離子阻擋層。
2.如權(quán)利要求1所述的廣視角液晶顯示器件,其特征在于,所述離子阻擋層為OC材料離子阻擋層,所述OC材料離子阻擋層厚度為1.0um-3.0um。
3.如權(quán)利要求1所述的廣視角液晶顯示器件,其特征在于,所述離子阻擋層為PI材料離子阻擋層,所述PI材料離子阻擋層厚度為500A-1500A,并覆蓋基板與液晶的接觸面。
4.如權(quán)利要求1所述的廣視角液晶顯示器件,其特征在于,所述離子阻擋層為SiO2材料離子阻擋層,所述SiO2材料離子阻擋層厚度為500A-1500A,并覆蓋基板與液晶的接觸面。
5.一種廣視角液晶顯示器件制作工藝,其特征在于,在其廣視角TFT-LCD制作工藝中,在投入液晶盒單元之前,在下基板與液晶的接觸面和/或上基板與液晶的接觸面之間制作離子阻擋層。
6.如權(quán)利要求5所述的廣視角液晶顯示器件制作工藝,其特征在于,采用OC材料制作離子阻擋層,其厚度為1.0um-3.0um。
7.如權(quán)利要求6所述的廣視角液晶顯示器件制作工藝,其特征在于,采用OC材料制作離子阻擋層的具體步驟為:通過(guò)旋涂或線涂OC,然后依次進(jìn)行光刻膠的涂膠、顯影、刻蝕和剝離,再在單個(gè)面板的對(duì)應(yīng)位置形成OC圖案。
8.如權(quán)利要求5所述的廣視角液晶顯示器件制作工藝,其特征在于,采用PI材料制作離子阻擋層,其厚度為500A-1500A,并覆蓋基板與液晶的接觸面。
9.如權(quán)利要求8所述的廣視角液晶顯示器件制作工藝,其特征在于,采用PI材料制作離子阻擋層的具體步驟為:通過(guò)移印方式涂布PI,然后進(jìn)行預(yù)固化和主固化,再在單個(gè)面板的對(duì)應(yīng)位置形成PI。
10.如權(quán)利要求5所述的廣視角液晶顯示器件制作工藝,其特征在于,采用SiO2材料制作離子阻擋層,其厚度為500A-1500A,并覆蓋基板與液晶的接觸面。
11.如權(quán)利要求8所述的廣視角液晶顯示器件制作工藝,其特征在于,采用SiO2材料制作離子阻擋層的具體步驟為:通過(guò)移印方式涂布SiO2,然后進(jìn)行預(yù)固化和主固化,再在單個(gè)面板的對(duì)應(yīng)位置形成SiO2圖案。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
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