[發(fā)明專利]高折射率散射層的制備方法及高出光效率的OLED制備方法

有效

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• 申請日: 2012-05-31
• 公開（公告）號: CN102709489A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發(fā)明（設計）人: 張國輝;董艷波;劉永祥;段煉
• 申請（專利權）人: 昆山維信諾顯示技術有限公司;北京維信諾科技有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產(chǎn)權代理有限公司 11250
• 代理人: 張建綱

技術領域

本發(fā)明涉及有機電致發(fā)光器件的制備方法，具體涉及一種高折射率散射層的制備方法及高出光效率的OLED制備方法。

背景技術

OLED（Organic?Light-Emitting?Diode）即有機發(fā)光二極管，其在基板上設置發(fā)光單元，發(fā)光單元包括兩個電極，在兩個電極之間設置有機電致發(fā)光材料層。在現(xiàn)有技術中，一般選擇透明玻璃作為基板，而玻璃的折射率一般為1.4-1.5，有機電致發(fā)光材料層的折射率一般為1.7-1.8。因此有機電致發(fā)光材料通電發(fā)出的光，經(jīng)過玻璃進入空氣時，由于全反射原理，會有大部分的光線局限在有機電致發(fā)光材料層中，這導致OLED的光輸出效率只有大大降低，只有約20%，有80%的光被局限或者損耗在OLED有機電致發(fā)光材料的內部無法合理應用。因此如何提高OLED的光輸出效率成為技術人員的研發(fā)熱點。

現(xiàn)有專利文獻CN102299266A公開了一種有機電致發(fā)光器件的基板及制造方法，其包括透明襯底，在透明襯底的至少一側具有散射層，散射層由TiO2、SiO2或ZnO的納米粒子構成，透明襯底的內側與電極連接。該有機電致發(fā)光器件基板的制造方法為，設有透明襯底，在透明襯底一側通過溶膠-凝膠或水熱法形成散射層，散射層由TiO2、SiO2或ZnO的納米粒子構成，透明襯底的內側通過沉積設置有電極。上述技術方案中，通過水熱法或溶膠-凝膠法生產(chǎn)的OLED基板，通過設置散射層改變光的傳播方向，增加光向前傳播的概率并提高光耦合的效率，散射層上的TiO2、SiO2或ZnO的納米粒子形成鱗片狀、柱狀或管狀的透明陣列，具有較高的折射率，更有利于改變光的傳播路線，提高OLED器件的出光效率。

其中，水熱法制備晶體是一種從溶液中生長晶體的方法，其基本原理是將原料溶解在水等溶劑中，采取適當?shù)拇胧┰斐扇芤旱倪^飽和，使得晶體在其中形核并生長。

而溶膠-凝膠法制備膜材屬于濕化學法中的一種。一般指的是將金屬化合物（包括金屬醇鹽與金屬無機鹽）以及催化劑、螯合劑和水等制成溶膠，然后通過甩膠、噴涂或浸漬等方法將醇鹽溶膠涂在襯底上制膜，醇鹽吸收空氣中的水分后發(fā)生水解和聚合，逐漸變成凝膠，最后經(jīng)過干燥、燒結等處理的過程。

在上述技術方案中只是寫出了制備散射層的廣義方法，而并沒有給出如何制備散射層的這一過程。并且散射層的成膜的質量將直接影響到OLED器件的出光效率。而影響散射層成膜質量的因素很多，其中最主要的就是如何選擇各材料的組分來配比用于成膜的溶液。

對于成膜溶液來說，如何選擇溶質的含量以保證制備出來的散射層能夠具有較好的平整度并且提高光出射效率，是現(xiàn)有技術中沒有公開的。溶質含量過高會導致溶劑無法成膜或制備出來的散射膜表面有顆粒物不平整，在散射膜表面存在大的顆粒，OLED器件存在短路、穩(wěn)定性差等的缺陷；而溶質含量過低會導致溶劑所成膜層不具備散射的效果；因此如何確定溶質的含量是本領域技術人員研究的重點。

另外，由于成膜溶劑中的散射顆粒是由一定粒徑的顆粒物溶解在有機溶劑中形成的，因此溶質可能會出現(xiàn)沉淀的情況，而溶質發(fā)生沉淀在旋涂成膜的過程中會導致散射膜的厚度不均勻，使得膜層表面的平整度差，，如何解決由于溶質沉淀造成的散射膜膜層表面平整度差問題也是現(xiàn)有技術中沒有公開的。

發(fā)明內容

本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種高折射率散射層的制備方法及高出光效率的OLED制備方法。

為解決上述技術問題，本發(fā)明提供一種高折射率散射層的制備方法，包括如下步驟：

S1、制備研磨分散液，所述研磨分散液包括：

高折射率散射顆粒，其質量百分比為：10%-60%；

分散劑，其質量占所述高折射率散射顆粒的1%-60%；

防沉劑，其質量百分比為：0-5%；

光刻膠，其質量百分比為：0-60%；

有機溶劑，其質量百分比為：20%-89.9%；

S2、采用過濾孔孔徑在0.8um-1.2um的濾紙壓濾所述步驟S1制備的研磨分散液，得到制膜溶液；

S3、所述步驟S2制備的所述制膜溶液經(jīng)光刻旋涂制備得到高折射率散射層。

所述高折射率散射顆粒選自TiO₂、ZrO₂、SiO₂、SiO、TiO中的一種。

所述分散劑采用鈦白分散劑。

所述防沉劑采用鈦白防沉劑。

所述步驟S2所述濾紙孔徑為0.8um。

所述散射層的厚度為0.3um-3um。