[發明專利]高折射率散射層的制備方法及高出光效率的OLED制備方法

有效

• 申請號: 201210175471.7
• 申請日: 2012-05-31
• 公開（公告）號: CN102709489A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發明（設計）人: 張國輝;董艷波;劉永祥;段煉
• 申請（專利權）人: 昆山維信諾顯示技術有限公司;北京維信諾科技有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 張建綱

1.一種高折射率散射層的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1、制備研磨分散液，所述研磨分散液包括：

高折射率散射顆粒，其質量百分比為：10%-60%；

分散劑，其質量占所述高折射率散射顆粒的1%-60%；

防沉劑，其質量百分比為：0-5%；

光刻膠，其質量百分比為：0-60%；

有機溶劑，其質量百分比為：20%-89.9%；

S2、采用過濾孔孔徑在0.8um-1.2um的濾紙壓濾所述步驟S1制備的研磨分散液，得到制膜溶液；

S3、所述步驟S2制備的所述制膜溶液經光刻旋涂制備得到高折射率散射層。

2.根據權利要求1所述的高折射率散射層的制備方法，其特征在于：

所述高折射率散射顆粒選自TiO₂、ZrO₂、SiO₂、SiO、TiO中的一種。

3.根據權利要求1或2所述的高折射率散射層的制備方法，其特征在于：

所述分散劑采用鈦白分散劑。

4.根據權利要求1-3任一所述的高折射率散射層的制備方法，其特征在于：

所述防沉劑采用鈦白防沉劑。

5.根據權利要求1-4任一所述的高折射率散射層的制備方法，其特征在于：

所述步驟S2所述濾紙孔徑為0.8um。

6.根據權利要求1-5任一所述的高折射率散射層的制備方法，其特征在于：

所述散射層的厚度為0.3um-3um。

7.一種利用權利要求1-6任一所述的高折射率散射層的制備方法制備得到的高折射率散射層。

8.一種高出光效率的OLED制備方法，其特征在于：包括如下步驟：

Ⅰ.按照權利要求1-6任一所述的制備高折射率散射層的制備方法在基板（1）上制備高折射率散射層（2）；

Ⅱ.在所述高折射率散射層（2）上制備第一電極（3）；

Ⅲ.在所述第一電極（3）上制備有機功能層（4）；

Ⅳ.在所述有機功能層（4）上制備第二電極（5）；

Ⅴ.封裝。

9.根據權利要求8所述的高出光效率的OLED制備方法，其特征在于：

所述步驟Ⅰ之后還包括如下步驟

：刻蝕去掉封裝時與封裝膠（6）對應區域的高折射率散射層。

10.根據權利要去8所述的高出光效率的OLED制備方法，其特征在于：

所述步驟中，刻蝕去掉封裝時與封裝膠（6）對應區域之外的所有的高折射率散射層。