[發明專利]一種具有交叉光柵結構的發光二極管及其制備方法有效
| 申請號: | 201210169975.8 | 申請日: | 2012-05-29 |
| 公開(公告)號: | CN102709419A | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發明(設計)人: | 張雄;郭浩;韓樂;崔一平 | 申請(專利權)人: | 東南大學 |
| 主分類號: | H01L33/10 | 分類號: | H01L33/10;H01L33/00 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
| 地址: | 210096*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 具有 交叉 光柵 結構 發光二極管 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明屬于半導體照明的核心器件——發光二極管(LED)的制造技術領域,主要涉及具有交叉光柵的倒裝LED結構及其制備方法,是一種能夠應用于各種類型的襯底材料和發光波段、結構參數調節簡便、可顯著提高LED光提取效率的制造技術。
背景技術
目前LED仍存在成本高、發光效率低、可靠性差等問題,而且白光LED的發光功率還不高,這些問題均限制了LED在各個領域的應用。
LED的電光轉換效率由內量子效率和光提取效率決定,現在的LED工藝已經可以將LED的內量子效率提高到一個很高的水平,而光提取效率則不然,還有很大的提升空間。所以現階段,LED研究人員的努力方向之一就是提高LED的光提取效率。理論[1,?2]和實驗[3~5]均證明,在LED的表面或內部制備光子晶體結構,可以應用光子晶體結構所特有的光子禁帶效應顯著地提高LED的光提取效率。但光子晶體結構的制備需要對LED的外延層或者襯底進行一定深度的刻蝕,易破壞LED器件的層狀結構參數,增加電阻率,而且光子晶體的制造工藝較復雜,成本因此也較高。
本發明所提供的具有交叉光柵結構的LED,一方面光柵的制作工藝較光子晶體簡單,刻蝕深度一般也較淺,不容易影響LED的電學性質;另一方面二組光柵的結構參數可以分別靈活地進行調節,而且僅需在鍵合時調整二組光柵的相互夾角,就可以獲得具有0~90°之間任意交叉角度的交叉光柵結構的LED,實現將原本射向襯底(非出光面)的某種波段的光反射回LED,從而有效提高LED的出光效率。
參考文獻
[1]?Shanhui?Fana,?Pierre?R.?Villeneuvea,?J?D.?Joflnopou1osa,?d?E.?F.?Schubert.?Enhanced?light?extraction?in?III-nitride?ultraviolet?photonic?crystal?light-emitting?diodes.?Proc.?SPIE?3002,?67?(1997).
[2]?張雄,王璨璨,陳洪鈞,張沛元,崔一平.?一種光子晶體結構發光二極管.?中國專利,??CN102361053A.?2012-02-22.
[3]?J.?Shakya,?K.?H.?Kim,?J.?Y.?Lin,?and?H.?X.?Jiang.?Appl.?Phys.?Lett.?85,?142?(2004).
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[5]?J.?J.?Wierer,?M.?R.?Krames,?J.?E.?Epler,??N.?F.?Gardner,?et?al.?InGaN/GaN?quantum-well?heterostructure?light-emitting?diodes?employing?photonic?crystal?structures.?Appl.?Phys.?Lett.?84,?3885?(2004)。
發明內容
技術問題:針對上述目前存在的問題和不足,本發明的目的主要是為了解決現有LED器件的光提取效率不高,以及二維光子晶體結構制造工藝復雜等問題。本發明提供了一種具有交叉光柵結構的發光二極管及其制備方法,顯著地增加光提取效率的具有交叉光柵結構的LED及其制備方法。本發明提供的、構成交叉光柵結構的二組光柵的結構參數可以分別獨立地自由調節,可應用于各種類型的襯底材料和發光波段。
技術方案:為解決上述技術問題,本發明提供了一種具有交叉光柵結構的發光二極管,該發光二極管包括襯底,生長在襯底上的具有第一光柵結構的介質薄膜層,與介質薄膜層鍵合在一起的具有第二光柵結構的p型GaN外延層,生長在p型GaN外延層上的InGaN多量子阱有源發光層和生長在InGaN多量子阱有源發光層上的n型GaN外延層,其中,第一光柵結構與第二光柵結構以0~90°之間的任一交叉角度鍵合在一起,構成交叉光柵結構。
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