[發明專利]一種電容觸控屏及其制造工藝

無效

• 申請號: 201210165137.3
• 申請日: 2012-05-25
• 公開（公告）號: CN102693056A
• 公開（公告）日: 2012-09-26
• 發明（設計）人: 周琦;胡里程;黃理;沈勵;遲曉輝;陳奇
• 申請（專利權）人: 蕪湖長信科技股份有限公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044
• 代理公司: 蕪湖安匯知識產權代理有限公司 34107
• 代理人: 張小虹

1.一種電容觸控屏，包括基板，布置于基板上的ITO圖層，覆蓋于ITO圖層外的絕緣架橋層，以及覆蓋于絕緣架橋層上方的跳躍導體圖層，其特征在于，所述的跳躍導體圖層上方覆蓋有用于遮擋金屬跳躍導體圖層眩光的黑膜圖層。

2.根據權利要求1所述的電容觸控屏，其特征在于：所述的ITO圖層、絕緣架橋層、跳躍導體圖層和黑膜圖層的圖案結構相同并相互重疊。

3.根據權利要求1或2所述的電容觸控屏，其特征在于：所述的黑膜圖層上覆蓋樹脂保護層，所述的基板背面依次設有防靜電ITO層和二氧化硅保護層。

4.一種如權利要求1-3所述的電容觸控屏的觸控部制造工藝，包括：

a、采用真空磁控濺射方法鍍制ITO膜；

b、制作ITO圖層，包括進行曝光、蝕刻；

c、在ITO圖形上制作一層絕緣架橋層；

d、利用真空磁控濺射鍍膜機在制作好的絕緣架橋層外鍍一層導電材料；

其特征在于：在所述的一層導電材料上涂布一層黑膜，然后采用采用觸控屏的觸控部黃光光刻技術，依次進行涂布，烘烤，曝光、顯影，蝕刻工藝將這層導電材料和黑膜一起制作成所需圖形。

5.根據權利要求4所述的電容觸控屏的觸控部制造工藝，其特征在于：所述的導電材料和黑膜進行曝光時，所使用的掩膜板上設計圖形的尺寸比例的大于產品實際標準值6-7um，且曝光機能量調節至250-300mj/?cm²。

6.根據權利要求4或5所述的電容觸控屏的觸控部制造工藝，其特征在于：所述的導電材料和黑膜進行蝕刻前后需要進行硬烤工序。

7.根據權利要求6所述的電容觸控屏的觸控部制造工藝，其特征在于：蝕刻前硬烤溫度220-240℃持續時間8-10min；蝕刻后硬烤溫度220-240℃持續時間30-35min。