[發(fā)明專利]包括耐壓饋通件的測(cè)量系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210162991.4
• 申請(qǐng)日: 2012-05-23
• 公開（公告）號(hào): CN102798438A
• 公開（公告）日: 2012-11-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 克勞斯·金茨勒;于爾根·莫策;于爾根·迭特梅爾
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: VEGA格里沙貝兩合公司
• 主分類號(hào): G01F23/284
• 分類號(hào): G01F23/284
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 魏金霞;田軍鋒

1.一種操作分離裝置（100），所述操作分離裝置（100）用于填充度測(cè)量裝置且包括用于內(nèi)傳導(dǎo)體（110）的耐壓饋通件（130），所述操作分離裝置（100）包括：

內(nèi)傳導(dǎo)體（110）；

外傳導(dǎo)體（120）；

操作側(cè)（140）；

控制側(cè)（150）；

饋通件（130）；

其中，

所述操作分離裝置（100）的縱向軸線（160）從所述操作側(cè)（140）向所述控制側(cè)（150）延伸；

所述內(nèi)傳導(dǎo)體（110）包括第一錐形區(qū)域（170），和/或所述外傳導(dǎo)體（120）包括第二錐形區(qū)域（180）；

所述第一錐形區(qū)域（170）和所述第二錐形區(qū)域（180）在沿著所述操作分離裝置（100）的所述縱向軸線（160）的方向上漸縮；

所述饋通件（130）包括所述第一錐形區(qū)域（170），和/或所述饋通件（130）由所述第二錐形區(qū)域（180）圍繞，以便以這種方式在所述內(nèi)傳導(dǎo)體（110）與所述外傳導(dǎo)體（120）之間建立具有形狀配合的連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的操作分離裝置（100），

其中，所述第一錐形區(qū)域（170）的錐角α（190）小于所述第二錐形區(qū)域（180）的錐角β（191）。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的操作分離裝置（100），

其中，所述錐角α（190）為1°，并且所述錐角β（191）為3°。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項(xiàng)所述的操作分離裝置（100），其中，

所述外傳導(dǎo)體（120）包括圓筒形區(qū)域（195）；

所述圓筒形區(qū)域在沿著所述操作分離裝置的所述縱向軸線的方向上鄰接所述第二錐形區(qū)域；

所述圓筒形區(qū)域包括比所述第二錐形區(qū)域小的內(nèi)直徑；

所述圓筒形區(qū)域的面區(qū)域（198）與所述饋通件建立具有形狀配合的連接，從而防止所述饋通件的在沿著所述操作分離裝置的所述縱向軸線從所述操作側(cè)向所述控制側(cè)的方向上的運(yùn)動(dòng)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的操作分離裝置（100），

進(jìn)一步包括填充件（210）；

其中，

所述填充件設(shè)置在空隙（220）中；

所述空隙由所述內(nèi)傳導(dǎo)體、所述外傳導(dǎo)體和所述饋通件限定；

所述填充件對(duì)由于所述圓筒形區(qū)域的內(nèi)直徑與所述第二錐形區(qū)域的內(nèi)直徑相比較小而產(chǎn)生的所述操作分離裝置的特性電阻抗的變化進(jìn)行補(bǔ)償，使得所述操作分離裝置的特性電阻抗沿著所述縱向軸線沒有顯著變化。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的操作分離裝置（100），

其中，所述填充件（210）包括比所述饋通件（130）的介電常數(shù)小的介電常數(shù)。

7.一種聯(lián)接器（400），用于填充度測(cè)量裝置，以便將所述填充度測(cè)量裝置的操作側(cè)（140）與所述填充度測(cè)量裝置的控制側(cè)（150）相聯(lián)接，所述聯(lián)接器（400）包括：

根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任一項(xiàng)所述的操作分離裝置（100）；

操作連接部（410）；

控制連接部（420）。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的聯(lián)接器（400），

其中，所述操作分離裝置（100）以模塊化的方式與所述操作連接部（410）和所述控制連接部（420）相連接。

9.一種填充度測(cè)量裝置（500），所述填充度測(cè)量裝置（500）具有根據(jù)權(quán)利要求7或權(quán)利要求8所述的聯(lián)接器（400）。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的填充度測(cè)量裝置（500），

其中，所述填充度測(cè)量裝置（500）為時(shí)域反射測(cè)量裝置。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的填充度測(cè)量裝置（500），

其中，所述填充度測(cè)量裝置為填充度雷達(dá)。