[發明專利]一種用于光刻工藝的溶劑清洗池有效
| 申請號： | 201210162976.X | 申請日： | 2012-05-24 |
| 公開（公告）號： | CN103418568A | 公開（公告）日： | 2013-12-04 |
| 發明（設計）人： | 胡林;陳蕾;鮑曄;周孟興 | 申請（專利權）人： | 上海宏力半導體制造有限公司 |
| 主分類號： | B08B3/08 | 分類號： | B08B3/08 |
| 代理公司： | 上海信好專利代理事務所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 張靜潔;徐雯瓊 |
| 地址： | 201203 上海市浦東*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 光刻 工藝 溶劑 清洗 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于光刻工藝的溶劑清洗池，該溶劑清洗池（1）安裝在光阻涂覆機構的一側；其特征在于，
所述的溶劑清洗池（1）內依次分隔設置有若干個單獨的溶劑清洗單元（11）；
所述的每個溶劑清洗單元（11）的底部分別通過管道（4）吐出稀釋劑；
所述的每個溶劑清洗單元（11）的頂部分別設置有通孔（2），用于放置光阻噴嘴（3）位于原始位置。
2.如權利要求1所述的用于光刻工藝的溶劑清洗池，其特征在于，所述的每個溶劑清洗單元（11）根據放置其中的光阻噴嘴（3）所吐出的光阻類型，由管道（4）吐出與所述光阻類型相對應的稀釋劑。
3.如權利要求1或2所述的用于光刻工藝的溶劑清洗池，其特征在于，所述的每個溶劑清洗單元（11）根據放置其中的光阻噴嘴（3）所吐出的光阻類型，以相應的流速和頻率吐出稀釋劑。
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