[發(fā)明專利]多平臺系統(tǒng)、用于多平臺系統(tǒng)的控制方法以及光刻設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210158034.4
• 申請日: 2012-05-21
• 公開（公告）號: CN102799072A
• 公開（公告）日: 2012-11-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 漢斯·巴特勒;J·P·M·B·沃麥尤倫
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種多平臺系統(tǒng)、用于控制這種多平臺系統(tǒng)的方法以及包括這種多平臺系統(tǒng)的光刻設(shè)備。

背景技術(shù)

光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底上，通常是襯底的目標(biāo)部分上的機(jī)器。例如，可以將光刻設(shè)備用在集成電路(ICs)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置用于生成在所述IC的單層上待形成的電路圖案。可以將該圖案轉(zhuǎn)移到襯底(例如，硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如，包括一部分管芯、一個(gè)或多個(gè)管芯)上。通常，圖案的轉(zhuǎn)移是通過把圖案成像到提供到襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上進(jìn)行的。通常，單個(gè)的襯底將包含被連續(xù)形成圖案的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。公知的光刻設(shè)備包括：所謂的步進(jìn)機(jī)，在步進(jìn)機(jī)中，通過將全部圖案一次曝光到所述目標(biāo)部分上來輻射每一個(gè)目標(biāo)部分；和所謂的掃描器，在所述掃描器中，通過輻射束沿給定方向(“掃描”方向)掃描所述圖案、同時(shí)沿與該方向平行或反向平行的方向同步地掃描所述襯底來輻射每一個(gè)目標(biāo)部分。也可能通過將圖案壓印(imprinting)到襯底上的方式從圖案形成裝置將圖案轉(zhuǎn)移到襯底上。

為了定位物體，例如定位襯底臺，通常使用所謂的平臺系統(tǒng)。一種目前正在發(fā)展的平臺系統(tǒng)類型是單平臺系統(tǒng)，其包括：基本上平行于第一方向X和第二方向Y延伸的定子，其中第二方向Y垂直于第一方向X；和第一平臺，第一平臺在第一和第二方向上相對于定子是可移動(dòng)的。這種單平臺系統(tǒng)的示意示例在圖2中示出。定子通過附圖標(biāo)記1示出，第一平臺用附圖標(biāo)記3表示。

第一平臺3設(shè)置有磁體系統(tǒng)。為了簡單起見，可以假定在圖2的示例中第一平臺的整個(gè)底部區(qū)域由磁體系統(tǒng)占據(jù)。磁體系統(tǒng)產(chǎn)生在第一平臺下面且在第一平臺附近、從磁體系統(tǒng)延伸至定子的磁場。

定子設(shè)置有電繞組5的陣列，其中僅一部分用附圖標(biāo)記5表示，電繞組配置成與由第一平臺的磁體系統(tǒng)產(chǎn)生的磁場相互作用以便產(chǎn)生在第一平臺上的力以相對于定子在第一和第二方向上定位它們。

要注意的是，定子通常安裝至框架或通過框架承載，因而作為固定的大地工作。第一平臺能夠相對于定子移動(dòng)。平臺系統(tǒng)因此是磁體移動(dòng)類型，而不是更通常使用的繞組移動(dòng)類型。

當(dāng)使用基礎(chǔ)控制相對于定子定位平臺時(shí)，定子上的全部繞組被激勵(lì)。然而，在這種配置情況下，大多數(shù)繞組不在具有其磁體系統(tǒng)的第一平臺的附近并因此與所產(chǎn)生的磁場具有最小的相互作用。此外，這不允許可以相對于定子通過使用相同的繞組獨(dú)立地定位的第二平臺。

為了避免這種情形，僅激勵(lì)繞組的子組，使得僅激勵(lì)那些與磁場具有不可忽略的相互作用的繞組，其中不可忽略的相互作用可以通過第一平臺的所需要的位置精確度來確定。繞組的子組的一個(gè)示例在圖2中通過實(shí)心繞組5表示。如在該示例中示出的，僅激勵(lì)那些直接在第一平臺下面(即磁體系統(tǒng)下面)的繞組。直接在第一平臺下面的繞組用陰影表示。

在圖3中，示出多平臺系統(tǒng)，其中兩個(gè)平臺，即第一平臺3和第二平臺7，相對于具有多個(gè)電繞組5的定子1是可移動(dòng)的。為了定位第一平臺3，選擇并激勵(lì)電繞組的第一子組(用實(shí)心繞組表示)。同時(shí)，通過選擇并激勵(lì)繞組的第二子組(用虛線繞組表示)來定位第二平臺。

這種配置的優(yōu)點(diǎn)在于，兩個(gè)平臺可以同時(shí)獨(dú)立地相對于同一定子定位。然而，兩個(gè)平臺不能彼此靠近地接近，這使得某些類型的操作不能被執(zhí)行。

發(fā)明內(nèi)容

期望提供一種多平臺系統(tǒng)，其中兩個(gè)平臺能夠彼此靠近地接近。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，提供一種多平臺系統(tǒng)，包括：

定子，基本上平行于第一方向延伸；

第一平臺，相對于定子沿第一方向是可移動(dòng)的；

第二平臺，相對于定子沿第一方向是可移動(dòng)的；

其中第一和第二平臺每一個(gè)設(shè)置有磁體系統(tǒng)以產(chǎn)生磁場，

其中定子設(shè)置有多個(gè)電繞組，所述電繞組配置成與由第一和第二平臺的磁體系統(tǒng)產(chǎn)生的磁場相互作用以便產(chǎn)生對第一和第二平臺的力以相對于定子定位它們，

多平臺系統(tǒng)還包括：

傳感器系統(tǒng)，用于相對于定子確定第一和第二平臺的位置；

控制單元，用以沿第一方向相對于定子定位第一和第二平臺，其中控制單元配置成：

-基于傳感器的輸出確定第一平臺在第一方向上相對于定子的位置；

-選擇電繞組的第一子組，所述電繞組的第一子組能夠具有與在所確定的第一平臺位置處的第一平臺的磁體系統(tǒng)的磁場的不可忽略的相互作用；

-基于傳感器系統(tǒng)的輸出確定第二平臺相對于定子在第一方向上的位置；