[發明專利]多平臺系統、用于多平臺系統的控制方法以及光刻設備

有效

• 申請號: 201210158034.4
• 申請日: 2012-05-21
• 公開（公告）號: CN102799072A
• 公開（公告）日: 2012-11-28
• 發明（設計）人: 漢斯·巴特勒;J·P·M·B·沃麥尤倫
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

1.一種多平臺系統，包括：

定子，基本上平行于第一方向延伸；

第一平臺，相對于定子沿第一方向是可移動的；

第二平臺，相對于定子沿第一方向是可移動的；

其中第一平臺和第二平臺中每一個設置有磁體系統以產生磁場，

其中定子設置有多個電繞組，所述電繞組配置成與由第一平臺和第二平臺的磁體系統產生的磁場相互作用以便產生對第一平臺和第二平臺的力以相對于定子定位它們，

傳感器，配置成相對于定子確定第一平臺和第二平臺的位置；

控制器，配置成沿第一方向相對于定子定位第一平臺和第二平臺，其中控制器配置成：

基于傳感器的輸出確定第一平臺在第一方向上相對于定子的位置；

選擇電繞組的第一子組，所述電繞組的第一子組能夠具有與在所確定的第一平臺位置處的第一平臺的磁體系統的磁場的不可忽略的相互作用；

基于傳感器的輸出確定第二平臺相對于定子在第一方向上的位置；

選擇電繞組的第二子組，所述電繞組的第二子組能夠具有與在所確定的第二平臺位置處的第二平臺的磁體系統的磁場的不可忽略的相互作用；和

激勵第一子組和第二子組中的電繞組以便相對于定子定位第一平臺和第二平臺，

其中控制器配置成在激勵第一子組和第二子組中的電繞組之前進行如下步驟：

確定作為第一子組的一部分且作為第二子組的一部分的電繞組；和

排除作為第一子組的一部分且作為第二子組的一部分的至少一個電繞組使其不受激勵。

2.如權利要求1所述的多平臺系統，其中定子基本上平行于第二方向延伸，其中所述第二方向基本上垂直于第一方向；

其中第一平臺和第二平臺相對于定子沿第一和第二方向是可移動的；和

其中控制器還配置成：

基于傳感器的輸出確定第一平臺相對于定子在第二方向上的位置；和

基于傳感器的輸出確定第二平臺相對于定子在第二方向上的位置。

3.如權利要求1所述的多平臺系統，其中基于將要針對第一平臺獲得的所需要的定位精確度來選擇第一子組，并且其中基于將要針對第二平臺獲得的所需要的定位精確度選擇第二子組。

4.如權利要求1所述的多平臺系統，其中至少激勵直接地且完全地處在相應的磁體系統下面的電繞組。

5.如權利要求1所述的多平臺系統，其中第一子組中的至少9個繞組和第二子組中的至少9個繞組被激勵。

6.如權利要求1所述的多平臺系統，其中控制器配置成通過排除電繞組使其不受激勵來允許第一平臺和第二平臺彼此靠近。

7.如權利要求6所述的多平臺系統，其中控制器配置成，當通過激勵第一和第二子組中的全部電繞組而使第一和第二平臺已經彼此靠近并且接觸時，將第一和第二平臺作為單個平臺進行控制。

8.如權利要求7所述的多平臺系統，其中每個磁體系統包括第一磁體和第二磁體，第一磁體具有基本上垂直于承載體并且方向朝向該承載體的磁化方向，第二磁體具有基本上垂直于承載體并且方向背向該承載體的磁化方向，第一和第二磁體根據行和基本上垂直于行的列的圖案布置，使得第一和第二磁體交替地布置在每一行和每一列中，并且其中兩個平臺能夠定位成使得當第一和第二平臺彼此接觸時，第一平臺的磁體系統的圖案在第二平臺的磁體系統中延續。

9.如權利要求8所述的多平臺系統，其中每個磁體系統具有奇數數量的行和奇數數量的列，并且其中第一平臺的磁體系統具有布置在對角線上的第一磁體，第二平臺的磁體系統具有布置在對角線上的第二磁體。

10.如權利要求7所述的多平臺系統，其中控制器配置成激勵第一和第二子組中的電繞組，使得產生力以在只要情況需要時就將兩個平臺保持在一起并使其彼此接觸。

11.一種光刻設備，包括根據權利要求1所述的多平臺系統。