[發明專利]一種有色膜及其制作方法

無效

• 申請號: 201210157594.8
• 申請日: 2012-05-21
• 公開（公告）號: CN103374724A
• 公開（公告）日: 2013-10-30
• 發明（設計）人: 李智淵;蔡碩文;蔡俊毅
• 申請（專利權）人: 鉅永真空科技股份有限公司
• 主分類號: C23C28/00
• 分類號: C23C28/00;B05D5/02
• 代理公司: 深圳市銘粵知識產權代理有限公司 44304
• 代理人: 楊林;馬翠平

技術領域

本發明涉及裝飾材料制作技術，特別是有關于一種以薄膜沉積法形成一層粗糙金屬層以減少光反射率的有色膜。

背景技術

目前，在各種樂器、家電與信息家電產品中，擁有光鮮亮麗的外觀不但引人注目，更可以提升產品本身的工藝價值。因此，各家廠商都必須在產品表面的色澤與質感上下工夫，才能讓自家的產品能得到更多消費者的青睞。現有外觀加工的方式有電鍍、烤漆或真空濺鍍，其中電鍍大多只能電鍍于金屬材質的外殼上，電鍍加工的過層中還會產生大量的電鍍廢水，以至污染環境，且電鍍容易在表面產生微顆粒而影響觀感。烤漆加工具有亮面、色彩鮮艷與不易掉漆之優點，但其表面往往容易沾上指紋而變臟，而增加清潔上之問題。真空濺鍍加工具有低成本、產量大與符合環保法令之優點，但缺點是真空濺鍍加工往往無法呈現特定之顏色，例如白色。

發明內容

有鑒于上述技術問題，本發明目的就是在提供一種色膜及其制作方法，以增加產品外觀的工藝價值。

為達上述目的，本發明的有色膜，其結構包含：基板；粗糙金屬層，此粗糙金屬層位于基板上，此粗糙金屬層的表面具有一粗糙表面，用以降低光反射率；以及顯色層，此顯色層位于粗糙金屬層的表面上，以使有色膜顯現顏色；還包括保護層，此保護層位于顯色層上，以保護顯色層在大氣或其它環境下不會產生氧化現象或化學變化現象。

其中，此保護層的厚度范圍10nm至1000nm，該保護層的材質為硅氧化物(SiO_x)或鋁氧化物(AlO_x)，且x系為一正有理數。

其中，此基板的材質為玻璃、金屬、不銹鋼或高分子材料。該基板可選擇性與粗糙金屬層之間沉積一緩沖層，用以緊密結合該基板與該粗糙金屬層，該緩沖層的材質系為鎳、鉻、各種鎳合金或各種鉻合金。

其中，此粗糙金屬層的材質為錫、鋅、銦、各種錫合金、各種銦合金或各種鋅合金，該粗糙金屬層的厚度范圍為5nm至1000nm，該粗糙金屬層表面的平均粗糙度(R_a)范圍為0.06μm至0.25μm之間。

其中，該顯色層的材質為銅、鋁、銀、鎳、鉻、鋯、鈦、氧化銅、氧化鋁、氧化鎳、氧化鉻、氧化鋯、氧化鈦、氮化鋁、氮化鉻、氮化鋯、氮化鈦或不銹鋼，顯色層的厚度范圍為30nm至5500nm。

本發明另一目的是提出一種環保又節能的有色膜的制作方法。

本發明的一種有色膜結構的制作方法，包含下列步驟：提供基板；在該基板上形成粗糙金屬層，此粗糙金屬層的表面具有粗糙度，以減少顯色層反射率；以及在此粗糙金屬層的表面形成顯色層，以使此有色膜結構顯現出顏色。在顯色層上形成保護層，以保護顯色層在大氣或其它環境下不產生氧化現象或化學變化現象。

其中，此粗糙金屬層以濺鍍、蒸鍍、化學沉積(Chemical?Vapor?Deposition,CVD)、電漿化學氣相沉積(Plasma?enhanced?Chemical?Vapor?Deposition,PECVD)或涂布等沉積法形成于該基板上，且此粗糙金屬層的材質為錫、鋅、銦、各種錫合金、各種鋅合金或各種銦合金。此粗糙金屬層的厚度范圍為5nm至1000nm。此粗糙金屬層的平均表面粗糙度范圍為0.06μm至0.25μm之間。

其中，此顯色層以濺鍍、蒸鍍、CVD、PECVD或涂布等沉積法形成于粗糙金屬層的表面上，此顯色層的材質系為銅、鋁、銀、鎳、鉻、鋯、鈦、氧化銅、氧化鋁、氧化鎳、氧化鉻、氧化鋯、氧化鈦、氮化鋁、氮化鉻、氮化鋯、氮化鈦或不銹鋼。

其中，此基板的材質為玻璃、金屬、不銹鋼或高分子材料。其中，該基板更可以選擇性與粗糙金屬層之間沉積一緩沖層，用以緊密結合基板與粗糙金屬層。此外，此緩沖層的材質為鎳、鉻、各種鎳合金或各種鉻合金。

綜上所述，本發明有色膜及其制作方法，其可具有一或多個下述優點：

(1)此有色膜的制作方法可由沉積法制造，以減少環境污染以及能源消耗，并具有低溫成膜之特點。

(2)此有色膜設有粗糙金屬層以減少光反射率，形成特定顏色。

(3)此有色膜具有保護層保護顯色層，以避免有色膜顯色層變質并可提升有色膜硬度。

附圖說明

圖1為本發明有色膜的結構示意圖。

圖2為本發明有色膜的粗糙金屬層的結構示意圖。

圖3為本發明有色膜的制作方法流程圖。

圖4為本發明有色膜平均反射率示意圖。

其中：