[發明專利]一種有色膜及其制作方法

無效

• 申請號: 201210157594.8
• 申請日: 2012-05-21
• 公開（公告）號: CN103374724A
• 公開（公告）日: 2013-10-30
• 發明（設計）人: 李智淵;蔡碩文;蔡俊毅
• 申請（專利權）人: 鉅永真空科技股份有限公司
• 主分類號: C23C28/00
• 分類號: C23C28/00;B05D5/02
• 代理公司: 深圳市銘粵知識產權代理有限公司 44304
• 代理人: 楊林;馬翠平

1.一種有色膜，其特征在于，包含：

基板；

粗糙金屬層，所述粗糙金屬層位于所述基板上，所述粗糙金屬層表面具有一粗糙表面，用以降低反射率；以及，

顯色層，所述顯色層位于所述粗糙金屬層表面，以使所述有色膜顯現顏色。

2.根據權利要求1所述有色膜，其特征在于，還包含保護層，所述保護層位于所述顯色層上，以保護所述顯色層。

3.根據權利要求2所述有色膜，其特征在于，所述保護層的厚度范圍為10nm至1000nm。

4.根據權利要求3所述有色膜，其特征在于，所述保護層的材質為硅氧化物或鋁氧化物。

5.根據權利要求1所述有色膜，其特征在于，所述基板的材質為玻璃、金屬、不銹鋼或高分子材料。

6.根據權利要求1所述有色膜，其特征在于，所述粗糙金屬層的材質為錫、鋅、銦、錫合金、鋅合金或銦合金。

7.根據權利要求6所述有色膜，其特征在于，所述粗糙金屬層的厚度范圍為5nm至1000nm。

8.根據權利要求7所述有色膜，其特征在于，所述粗糙金屬層表面的平均粗糙度為0.06μm至0.25μm之間。

9.根據權利要求1所述有色膜，其特征在于，所述顯色層的材質為銅、鋁、銀、鎳、鉻、鋯、鈦、氧化銅、氧化鋁、氧化鎳、氧化鉻、氧化鋯、氧化鈦、氮化鋁、氮化鉻、氮化鋯、氮化鈦或不銹鋼。

10.根據權利要求9所述有色膜，其特征在于，所述顯色層的厚度范圍為30nm至5500nm。

11.根據權利要求1~10任一項所述有色膜，其特征在于，所述基板與所述粗糙金屬層之間具有緩沖層，用以緊密結合所述基板與所述粗糙金屬層。

12.根據權利要求11所述有色膜，其特征在于，所述緩沖層的材質為鎳、鉻、鎳合金或鉻合金。

13.一種有色膜的制作方法，其特征在于，包含下列步驟：

提供一基板；

在所述基板上形成一粗糙金屬層，所述粗糙金屬層的表面具有粗糙度，以減少反射率；以及，

在所述粗糙金屬層的表面形成一顯色層，以使所述有色膜顯現出顏色。

14.根據權利要求13所述有色膜的制作方法，其特征在于，所述基板的材質為玻璃、金屬、不銹鋼或高分子材料。

15.根據權利要求13所述有色膜的制作方法，其特征在于，所述粗糙金屬層是采用沉積法形成于所述基板上；且所述粗糙金屬層的材質為錫、鋅、銦、錫合金、鋅合金或銦合金。

16.根據權利要求15所述有色膜的制作方法，其特征在于，所述粗糙金屬層表面的粗糙度為0.06μm至0.25μm。

17.根據權利要求16所述有色膜的制作方法，其特征在于，所述粗糙金屬層的厚度范圍為5nm至1000nm。

18.根據權利要求13所述有色膜的制作方法，其特征在于，在所述顯色層上形成一保護層，以保護所述顯色層。

19.根據權利要求18所述有色膜的制作方法，其特征在于，所述顯色層是采用沉積法形成于所述粗糙金屬層的表面；且所述顯色層的材質為銅、鋁、銀、鎳、鉻、鋯、鈦、氧化銅、氧化鋁、氧化鎳、氧化鉻、氧化鋯、氧化鈦、氮化鋁、氮化鉻、氮化鋯、氮化鈦或不銹鋼。

20.根據權利要求13~19任一項所述有色膜的制作方法，其特征在于，所述基板與所述粗糙金屬層之間沉積一緩沖層，用以緊密結合所述基板與所述粗糙金屬層。

21.根據權利要求20所述有色膜的制作方法，其特征在于，所述緩沖層的材質為鎳、鉻、鎳合金或鉻合金。