[發(fā)明專利]一種脫硫用分子印跡材料及其制造方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210154683.7
• 申請(qǐng)日: 2012-05-18
• 公開（公告）號(hào): CN102731719A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林立剛;王安棟;張龍輝;董美美;張玉忠
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 天津工業(yè)大學(xué)
• 主分類號(hào): C08F226/06
• 分類號(hào): C08F226/06;C08F222/14;C08F212/36;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30;C10G25/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種脫硫用分子印跡材料，其制造液的質(zhì)量百分比配方為：

乙烯基吡啶單體????????????2～10％；

模板分子??????????????????1～5％；

溶劑??????????????????????85～97％，各組分之和為100％。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分子印跡材料，其特征在于所述的乙烯基吡啶單體為/4-乙烯基吡啶、2-乙烯基吡啶中的至少一種；所述的模板分子為苯并噻吩、二苯并噻吩、二甲基二苯并噻吩至少一種；所述的溶劑為苯、甲苯中的至少一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的分子印跡材料的制造方法，其包括如下步驟：將乙烯基吡啶單體、模板分子和溶劑混合，在20℃下攪拌4～8小時(shí)，制得混合均勻的制造液；然后向體系中加入交聯(lián)劑和添加劑，交聯(lián)劑用量為制造液中模板分子用量的1～5倍，引發(fā)劑用量為制造液中模板分子用量的1/10～1/5，在20℃下攪拌2～5小時(shí)；將制得的混合均勻的制造液置于恒溫水浴槽中，在60～80℃下加熱反應(yīng)16～24h，完成聚合反應(yīng)；對(duì)得到的產(chǎn)物用洗脫液洗脫2～4h，洗脫液用量為制造液中溶劑用量的2～5倍，樣品在60～80℃下干燥處理即得分子印跡材料。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的分子印跡材料的制造方法，其特征在于所述的交聯(lián)劑為乙二醇雙甲基丙烯酸酯、二乙烯基苯中的至少一種；添加劑為偶氮二異丁腈、偶氮二異庚腈、過氧化苯甲酰中的至少一種；洗脫液為甲醇、乙酸、乙醇或者其組合。