[發明專利]供體膜、用其制造有機發光二極管顯示器的方法及用該方法制造的有機發光二極管顯示器

有效

• 申請號: 201210154092.X
• 申請日: 2012-05-17
• 公開（公告）號: CN103199200B
• 公開（公告）日: 2017-07-21
• 發明（設計）人: 宋河珍;表相佑;俞炳旭;沈憓娟;金孝妍;權智英;李寬熙
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/50;H01L51/52
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司11204
• 代理人: 余朦,姚志遠

技術領域

本發明概括地涉及供體膜、使用供體膜制造有機發光二極管（OLED）顯示器的方法以及使用該方法制造的有機發光二極管（OLED）顯示器。

背景技術

用于平板顯示器的有機發光元件包括陽極、陰極以及設在陽極與陰極之間的有機膜。有機膜包括發射層、空穴注入層（HIL）、空穴傳輸層（HTL）、電子傳輸層（ETL）以及電子注入層（EIL）。根據形成有機膜的材料（特別是形成發射層的材料），有機發光元件被分為高分子有機發光元件和小分子有機發光元件。

為了使有機發光元件實現全色彩，必須對有機膜進行構圖。構圖方法包括在小分子有機發光元件的情況下使用遮蔽掩模的方法，以及在有機發光元件的情況下通過噴墨印刷或激光束進行的激光熱轉印（LITI）方法。LITI方法具有對有機膜進行細微構圖的優點，并且有利地，該方法是干法處理，而噴墨印刷是濕法處理。

根據LITI方法形成高分子有機膜的圖案的方法需要光源、受體襯底以及供體膜。受體襯底代表其上將形成有機膜的顯示襯底，供體膜包括基底膜、光熱轉換層以及由有機膜構成的轉移層。

當光源輸出的激光束在供體膜的光熱轉換層中吸收并接著改變為熱能時，將有機膜構圖在受體襯底上，并且通過該熱能將形成轉移層的有機膜轉移到受體襯底。

然而，被轉移的有機膜與其它層的粘著較差。

在背景技術部分公開的以上信息僅用于增強對所描述技術的背景的理解，因而可能包含沒有形成對該國家本領域技術人員公知的現有 技術的信息。

發明內容

本發明已作出努力來提供供體膜，其用于轉移具有良好粘著和改進的發光效率的有機膜。

本發明還已作出努力來提供通過使用供體膜制造有機發光二極管（OLED）顯示器的方法。

本發明還已作出努力來提供通過該制造方法制造的具有良好層間粘著和發光效率的有機發光二極管（OLED）顯示器。

本發明的示例性實施方式提供了一種供體膜，其包括供體襯底以及形成于所述供體襯底上的轉移層。

所述供體襯底包括：基底膜；光熱轉換（LTHC）層，設置在所述基底膜上；以及彎曲層間膜，設置在所述光熱轉換層上并且具有褶皺側。

所述轉移層包括形成為沿所述彎曲層間膜的所述褶皺側的形狀彎曲的有機發射層。

所述轉移層還包括形成于所述有機發射層上的電荷產生層（CGL）或有機中間層。

所述轉移層還包括輔助層，所述輔助層形成于所述電荷產生層或所述有機中間層與所述有機發射層之間。

所述有機發射層與所述輔助層之間的界面的曲線比所述彎曲層間膜與所述有機發射層之間的界面的曲線相對平緩。

所述電荷產生層或所述有機中間層與所述輔助層之間的界面的曲線比所述有機發射層與所述輔助層之間的界面的曲線相對平緩。

所述彎曲層間膜由丙烯酸樹脂、醇酸樹脂或硅酮聚合物制成。

本發明的另一實施方式提供了一種制造有機發光二極管（OLED）顯示器的方法，包括：在顯示襯底上形成第一電極；提供包括供體襯底和轉移層的供體膜，所述供體襯底包括基底膜、設置在所述基底膜上的光熱轉換（LTHC）層以及設置在所述光熱轉換層上且具有褶皺側的彎曲層間膜，所述轉移層包括有機發射層，所述有機發射層形成為沿所述彎曲層間膜的所述褶皺側的形狀彎曲；將所述供體膜設置在所述顯示襯 底上，以使得所述轉移層面對所述第一電極；通過將激光束照射在所述供體膜上，將所述轉移層轉移到所述第一電極上；以及將所述供體襯底與所述轉移層分離。

所述轉移層還包括形成于所述有機發射層上的電荷產生層（CGL）或有機中間層。

所述轉移層還包括輔助層，所述輔助層設置在所述電荷產生層或所述有機中間層與所述有機發射層之間。

所述有機發射層與所述輔助層之間的界面的曲線比所述彎曲層間膜與所述有機發射層之間的界面的曲線相對更平緩。

所述電荷產生層或所述有機中間層與所述輔助層之間的界面的曲線比所述有機發射層與所述輔助層之間的界面的曲線相對更平緩。

該方法還包括：在轉移所述轉移層之前，在所述第一電極上形成空穴注入層（HIL）和空穴傳輸層（HTL）中的至少一個的步驟。

所述彎曲層間膜由丙烯酸樹脂、醇酸樹脂或硅酮聚合物制成。

該方法還包括：在分離所述供體襯底之后，在所述有機發射層上形成第二電極的步驟。

該方法還包括：在形成所述第二電極之前，在所述有機發射層上形成電子傳輸層（ETL）和電子注入層（EIL）中的至少一個的步驟。