[發(fā)明專利]導電薄膜、其制備方法及應用無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210148691.0 | 申請日： | 2012-05-14 |
| 公開（公告）號： | CN103422056A | 公開（公告）日： | 2013-12-04 |
| 發(fā)明（設計）人： | 周明杰;王平;陳吉星;張振華 | 申請（專利權(quán)）人： | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/08 | 分類號： | C23C14/08;C23C14/35;H05B33/10;H05B33/28 |
| 代理公司： | 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝傳鑫;熊永強 |
| 地址： | 518000 廣東省深*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 導電 薄膜 制備 方法 應用 | ||
1.一種導電薄膜，其特征在于，包括層疊的AZO層，金層及ReO3層，其中AZO為摻鋁的氧化鋅。
2.一種導電薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
將AZO靶材、金和ReO3及襯底裝入磁控濺射鍍膜設備的真空腔體，其中，真空腔體的真空度為1.0×10-3Pa～1.0×10-6Pa，AZO為摻鋁的氧化鋅靶材；
在所述襯底表面濺鍍AZO層，濺鍍所述AZO層的工藝參數(shù)為：基靶間距為35mm～90mm，濺射功率為60W～160W，磁控濺射工作壓強0.2Pa～2Pa，工作氣體的流量為10sccm～35sccm，襯底溫度為250℃～750℃；
在所述AZO層表面濺鍍金層，濺鍍所述金層的工藝參數(shù)為：基靶間距為45mm～95mm，濺射功率為30W～150W，磁控濺射工作壓強0.2Pa～4Pa，工作氣體的流量為10sccm～35sccm，襯底溫度為250℃～750℃；
在所述金層表面濺鍍ReO3層，濺鍍所述金層的工藝參數(shù)為：基靶間距為45mm～95mm，濺射功率為30W～150W，磁控濺射工作壓強0.2Pa～4Pa，工作氣體的流量為10sccm～35sccm，襯底溫度為250℃～750℃；及
剝離所述襯底，得到所述導電薄膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的導電薄膜的制備方法，其特征在于，所述AZO層的厚度為50nm～150nm，所述金層的厚度為5nm～35nm，所述ReO3層的厚度為0.5nm～5nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的導電薄膜的制備方法，其特征在于，所述AZO靶材由以下步驟得到：將ZnO和Al2O3粉體混合均勻，其中Al2O3的質(zhì)量百分數(shù)為0.1％～3％，余量為ZnO，將混合均勻的粉體在900℃～1350℃下燒結(jié)制成靶材。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的導電薄膜的制備方法，其特征在于，所述AZO層的厚度為80nm，所述金層的厚度為25nm，所述ReO3層的厚度為2nm。
6.一種有機電致發(fā)光器件的基底，其特征在于，包括依次層疊的襯底、AZO層，金層及ReO3層，其中，所述AZO為摻鋁的氧化鋅。
7.一種有機電致發(fā)光器件的基底的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
將AZO靶材、金和ReO3及襯底裝入磁控濺射鍍膜設備的真空腔體，其中，真空腔體的真空度為1.0×10-3Pa～1.0×10-6Pa，AZO為摻鋁的氧化鋅靶材；
在所述襯底表面濺鍍AZO層，濺鍍所述AZO層的工藝參數(shù)為：基靶間距為35mm～90mm，濺射功率為60W～160W，磁控濺射工作壓強0.2Pa～2Pa，工作氣體的流量為10sccm～35sccm，襯底溫度為250℃～750℃；
在所述AZO層表面濺鍍金層，濺鍍所述金層的工藝參數(shù)為：基靶間距為45mm～95mm，濺射功率為30W～150W，磁控濺射工作壓強0.2Pa～4Pa，工作氣體的流量為10sccm～35sccm，襯底溫度為250℃～750℃；
在所述金層表面濺鍍ReO3層，濺鍍所述金層的工藝參數(shù)為：基靶間距為45mm～95mm，濺射功率為30W～150W，磁控濺射工作壓強0.2Pa～4Pa，工作氣體的流量為10sccm～35sccm，襯底溫度為250℃～750℃。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的有機電致發(fā)光器件的基底的制備方法，其特征在于，所述AZO靶材由以下步驟得到：將ZnO和Al2O3粉體混合均勻，其中Al2O3的質(zhì)量百分數(shù)為0.1％～3％，余量為ZnO，將混合均勻的粉體在900℃～1350℃下燒結(jié)制成靶材。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的有機電致發(fā)光器件的基底的制備方法，其特征在于，所述AZO層的厚度為50nm～150nm，所述金層的厚度為5nm～35nm，所述ReO3層的厚度為0.5nm～5nm。
10.一種有機電致發(fā)光器件，包括依次層疊的陽極、發(fā)光層以及陰極，其特征在于，所述陽極包括層疊的AZO層，金層及ReO3層，其中AZO為摻鋁的氧化鋅。
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C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
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C23C14-58 .后處理
